JPH0421906A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0421906A JPH0421906A JP12513490A JP12513490A JPH0421906A JP H0421906 A JPH0421906 A JP H0421906A JP 12513490 A JP12513490 A JP 12513490A JP 12513490 A JP12513490 A JP 12513490A JP H0421906 A JPH0421906 A JP H0421906A
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- Japan
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- soft magnetic
- gap
- magnetic thin
- thin film
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビデオテープレコーダー(以下、VTRと略
す)等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。
す)等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。
磁気記録の高密度化に伴って、例えばメタルテープ等の
高保持力媒体を用いることが主流となってきている。一
方、このような高保持力媒体に対応して、磁気ヘッドに
使用されるコア材料には高い飽和磁束密度を有するもの
が要求されている。
高保持力媒体を用いることが主流となってきている。一
方、このような高保持力媒体に対応して、磁気ヘッドに
使用されるコア材料には高い飽和磁束密度を有するもの
が要求されている。
そこで、このような高い飽和磁束密度を有する磁気ヘッ
ドとして、例えば第9図に示すように、相互に加圧接合
される一対の基板21・21の表面に、高い飽和磁束密
度を有する軟磁性合金、例えばFe−A 1−si系合
金からなる軟磁性薄膜22を真空蒸着等により形成した
後、低融点ガラス等を挟んで加熱溶融させて相互に接合
することにより作製したヘッドチップ25が用いられて
いる。
ドとして、例えば第9図に示すように、相互に加圧接合
される一対の基板21・21の表面に、高い飽和磁束密
度を有する軟磁性合金、例えばFe−A 1−si系合
金からなる軟磁性薄膜22を真空蒸着等により形成した
後、低融点ガラス等を挟んで加熱溶融させて相互に接合
することにより作製したヘッドチップ25が用いられて
いる。
このようなヘッドチップ25を用いた磁気ヘッドは、磁
気テープが摺動する摺動面に表出する上記軟磁性薄膜2
2がギャップ23と交差する方向に傾斜して延びるよう
に斜めに形成されている。
気テープが摺動する摺動面に表出する上記軟磁性薄膜2
2がギャップ23と交差する方向に傾斜して延びるよう
に斜めに形成されている。
これによって、磁気ヘッドにテープを摺動させる際、偏
摩耗に強く、また、軟磁性薄膜22を支持する基板21
に例えばフェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合に
、酸化物磁性材料と軟磁性薄膜22との境界がギャップ
23と平行になっていると、上記境界の両側で磁気特性
が不連続になり、疑似ギャップの作用をして磁気ヘッド
の性能に悪影響を与えるという問題点も回避できる。
摩耗に強く、また、軟磁性薄膜22を支持する基板21
に例えばフェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合に
、酸化物磁性材料と軟磁性薄膜22との境界がギャップ
23と平行になっていると、上記境界の両側で磁気特性
が不連続になり、疑似ギャップの作用をして磁気ヘッド
の性能に悪影響を与えるという問題点も回避できる。
ところが、上記構造の磁気ヘッドでは、トラック幅を大
きくして構成する場合等に軟磁性薄膜22もしくは基板
21にクラックが生じ易いという問題点を有している。
きくして構成する場合等に軟磁性薄膜22もしくは基板
21にクラックが生じ易いという問題点を有している。
つまり、上記の構造では、軟磁性薄膜22がギャップ2
3と交差する部分でのギャップ方向の幅でトラック幅が
与えられるために、トラック幅を大きくしようとする場
合には、軟磁性薄膜22の膜厚を厚くすることが必要で
ある。そして、このように、軟磁性薄膜22の膜厚を厚
くすると、一対の各基板21・21を、例えば低融点ガ
ラス等を挟んで加熱溶融させることで相互に接合する際
、軟磁性薄膜22と基板21との熱膨張係数の差に起因
する熱応力も増大し、このため、軟磁性薄膜22もしく
は基板21にクランクが生じ易いものとなっている。
3と交差する部分でのギャップ方向の幅でトラック幅が
与えられるために、トラック幅を大きくしようとする場
合には、軟磁性薄膜22の膜厚を厚くすることが必要で
ある。そして、このように、軟磁性薄膜22の膜厚を厚
くすると、一対の各基板21・21を、例えば低融点ガ
ラス等を挟んで加熱溶融させることで相互に接合する際
、軟磁性薄膜22と基板21との熱膨張係数の差に起因
する熱応力も増大し、このため、軟磁性薄膜22もしく
は基板21にクランクが生じ易いものとなっている。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記課題を解決するために
、基板とこの基板に介設された軟磁性薄膜とから成るヘ
ッドチップが設けられ、このヘッドチップにおける磁気
記録担体の摺動面に表出する上記軟磁性薄膜の端面が、
ギャップと交差する方向に傾斜して延びる磁気ヘッドに
おいて、上記軟磁性薄膜は、上記摺動面におけるギャッ
プとの傾斜角を、上記ギャップと交差する中央部領域の
方がこの中央部領域の両端からそれぞれ側方に延びる端
部領域よりも小さくして形成されていることを特徴とし
ている。
、基板とこの基板に介設された軟磁性薄膜とから成るヘ
ッドチップが設けられ、このヘッドチップにおける磁気
記録担体の摺動面に表出する上記軟磁性薄膜の端面が、
ギャップと交差する方向に傾斜して延びる磁気ヘッドに
おいて、上記軟磁性薄膜は、上記摺動面におけるギャッ
プとの傾斜角を、上記ギャップと交差する中央部領域の
方がこの中央部領域の両端からそれぞれ側方に延びる端
部領域よりも小さくして形成されていることを特徴とし
ている。
上記の構成によれば、軟磁性薄膜のギャップと交差する
中央部領域は、上記ギャップとの傾斜角が端部領域より
小さな角度をなして設けられていることから、ギャップ
と交差する部分でのギャップ方向の幅で与えられるトラ
ック幅は、従来と同一の膜厚の場合には、より大きくな
る。
中央部領域は、上記ギャップとの傾斜角が端部領域より
小さな角度をなして設けられていることから、ギャップ
と交差する部分でのギャップ方向の幅で与えられるトラ
ック幅は、従来と同一の膜厚の場合には、より大きくな
る。
これにより、軟磁性薄膜の膜厚をより薄くして、より大
きなトラック幅を得ることができるので、例えば、従来
、軟磁性薄膜と基板との熱膨張係数の差等に起因する軟
磁性薄膜もしくは基板でのクシツクの発生が低減される
。
きなトラック幅を得ることができるので、例えば、従来
、軟磁性薄膜と基板との熱膨張係数の差等に起因する軟
磁性薄膜もしくは基板でのクシツクの発生が低減される
。
本発明の一実施例を第1図ないし第8図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本実施例の磁気ヘッドは、第1図に示すようにヘッドチ
ップ10が、例えば感光性結晶化ガラス、結晶化ガラス
、あるいはセラミックス等の非磁性材料や、軟磁性フェ
ライト等の酸化物磁性材料等の耐摩耗性に優れた材料か
ら成る一対の基板1・1を低融点ガラス3によって相互
に接合することにより作製されている。そして、上記基
板1・1の各接合面に、それぞれ、例えばFe−A I
!、 −5i系合金からなる軟磁性薄膜2が形成されて
いる。
ップ10が、例えば感光性結晶化ガラス、結晶化ガラス
、あるいはセラミックス等の非磁性材料や、軟磁性フェ
ライト等の酸化物磁性材料等の耐摩耗性に優れた材料か
ら成る一対の基板1・1を低融点ガラス3によって相互
に接合することにより作製されている。そして、上記基
板1・1の各接合面に、それぞれ、例えばFe−A I
!、 −5i系合金からなる軟磁性薄膜2が形成されて
いる。
上記構造の磁気ヘッドの製造過程を、以下、順をおって
説明する。
説明する。
まず、第2図に示すように、上述の非磁性材料または酸
化物磁性材料から成る基板1は、略直方体形状を素材と
して、その表面1aに、所定のピッチ寸法Aで、複数の
溝5・・・を相互に隣接して互いに平行に延びる形状で
形成することによって作製される。これらの溝5・・・
は、それぞれ、中心線を挟んで対称な傾斜壁面で挟まれ
た断面路7学状に形成されている。
化物磁性材料から成る基板1は、略直方体形状を素材と
して、その表面1aに、所定のピッチ寸法Aで、複数の
溝5・・・を相互に隣接して互いに平行に延びる形状で
形成することによって作製される。これらの溝5・・・
は、それぞれ、中心線を挟んで対称な傾斜壁面で挟まれ
た断面路7学状に形成されている。
そして、各傾斜壁面は、表面la側と底面lb側とで、
中心線に対する傾斜角が相互に異なる二段傾斜形状とな
っており、表面la側よりも底面lb側の方が鋭角的な
断面形状となっている。
中心線に対する傾斜角が相互に異なる二段傾斜形状とな
っており、表面la側よりも底面lb側の方が鋭角的な
断面形状となっている。
次に、第3図に示すように、上記各溝5・・・の−方の
溝壁面5b・・・上に真空蒸着あるいはスパッタ法等に
より、前記軟磁性薄膜2が所定の膜厚、即ち、後述する
ギャップ12のトラック幅に対応する膜厚に形成される
。
溝壁面5b・・・上に真空蒸着あるいはスパッタ法等に
より、前記軟磁性薄膜2が所定の膜厚、即ち、後述する
ギャップ12のトラック幅に対応する膜厚に形成される
。
次いで、第4図に示すように、各溝訃・・に低融点ガラ
ス3が充填され、この後に、第5図に示すように、低融
点ガラス3の表面が、谷溝5・・・の表面側の各頂点に
達するまで平面状に研磨される。
ス3が充填され、この後に、第5図に示すように、低融
点ガラス3の表面が、谷溝5・・・の表面側の各頂点に
達するまで平面状に研磨される。
このとき、上記軟磁性薄膜2における谷溝5・・・の表
面側頂点より突出する領域も同時に取り除かれて、研磨
面1cには、谷溝5・・・の表面側頂点に隣接して、紙
面とは直交する方向に延びる軟磁性薄膜2の端面2a・
・・が表出している。
面側頂点より突出する領域も同時に取り除かれて、研磨
面1cには、谷溝5・・・の表面側頂点に隣接して、紙
面とは直交する方向に延びる軟磁性薄膜2の端面2a・
・・が表出している。
その後、上記基板1の研磨面1cに、第6図に示すよう
に、内部巻線溝6が、また、基板1の底面1bに外部巻
線溝7がそれぞれ形成される。そして、上記研磨面1c
、トに、酸化シリコン等の非磁性ギャップ材(図示せず
)が真空蒸着あるいはスバンタ法等により所定のギャッ
プ長に対応する膜厚で膜付けされ、ギャップ面8として
形成されて、基板ブロック11が作製される。
に、内部巻線溝6が、また、基板1の底面1bに外部巻
線溝7がそれぞれ形成される。そして、上記研磨面1c
、トに、酸化シリコン等の非磁性ギャップ材(図示せず
)が真空蒸着あるいはスバンタ法等により所定のギャッ
プ長に対応する膜厚で膜付けされ、ギャップ面8として
形成されて、基板ブロック11が作製される。
次に、第7図に示すように、一対の基板ブロック11・
11は、上記各ギャップ面8・8を互いに対面させると
共に、上記各軟磁性薄膜2の端面2a・2aを対向させ
る位置に合わせた状態で、加圧固定され、相互に接合さ
れて、コアブロック9として形成される。このとき、上
記非磁性ギャップ材を挟んで対向する各軟磁性薄膜2の
端面2a・2a間に、前記ギャップ12が形成されてい
る。
11は、上記各ギャップ面8・8を互いに対面させると
共に、上記各軟磁性薄膜2の端面2a・2aを対向させ
る位置に合わせた状態で、加圧固定され、相互に接合さ
れて、コアブロック9として形成される。このとき、上
記非磁性ギャップ材を挟んで対向する各軟磁性薄膜2の
端面2a・2a間に、前記ギャップ12が形成されてい
る。
上記コアブロック9は、次いで、二点鎖線にて示す位置
に沿って、所定のピッチ寸法Bで切断して、第1図に示
すヘッドチップ10が作製される。このヘッドチップ1
0には、その後、図示しないヘッドベースに接着固定し
、コイル巻線及び磁気テープ摺接面の研磨が施されて、
磁気ヘッドとして完成される。
に沿って、所定のピッチ寸法Bで切断して、第1図に示
すヘッドチップ10が作製される。このヘッドチップ1
0には、その後、図示しないヘッドベースに接着固定し
、コイル巻線及び磁気テープ摺接面の研磨が施されて、
磁気ヘッドとして完成される。
以上の説明のように、上記実施例においては、前述した
第2図に示すように、基板1に断面路V字状の溝5を設
ける際、それぞれ、中心線を挟んで対称な傾斜壁面は、
中心線に対する傾斜角が表面la側よりも底面1b側の
方が鋭角的な二段傾斜形状となっている。
第2図に示すように、基板1に断面路V字状の溝5を設
ける際、それぞれ、中心線を挟んで対称な傾斜壁面は、
中心線に対する傾斜角が表面la側よりも底面1b側の
方が鋭角的な二段傾斜形状となっている。
この結果、第1図のように、磁気テープが摺動する摺動
面(図において、上面)に表出する軟磁性薄膜2は、ギ
ャップ■2との傾斜角が、上記ギャップ12と交差する
中央部領域2Cの方がこの中央部領域2Cの両端からそ
れぞれ側方に傾斜して延びる端部領域2bよりも小さな
二段傾斜形状となっている。
面(図において、上面)に表出する軟磁性薄膜2は、ギ
ャップ■2との傾斜角が、上記ギャップ12と交差する
中央部領域2Cの方がこの中央部領域2Cの両端からそ
れぞれ側方に傾斜して延びる端部領域2bよりも小さな
二段傾斜形状となっている。
第8図は、ギャップ12に対して傾斜する軟磁性薄膜2
の膜厚と、この軟磁性薄膜2のギャップ方向の幅、ずな
わら、トラック幅との関係を示しており、軟磁性薄膜2
のギャップ12に対する傾斜角θとすると、トラック幅
Twは、軟磁性薄膜2の膜厚t、lこsinθを除して
得られる寸法となる。したがって、上記実施例において
は、図のように、ギャップ12に対する中央部領域2C
の傾斜角θ2は、端部領域2bの傾斜角θ、よりも小さ
いので、中央部領域2Cで与えられるトラック幅’hz
は、端部領域2bを上記ギャップ12へと延長して得ら
れるトラック幅Tw+ よりも大きくなる。
の膜厚と、この軟磁性薄膜2のギャップ方向の幅、ずな
わら、トラック幅との関係を示しており、軟磁性薄膜2
のギャップ12に対する傾斜角θとすると、トラック幅
Twは、軟磁性薄膜2の膜厚t、lこsinθを除して
得られる寸法となる。したがって、上記実施例において
は、図のように、ギャップ12に対する中央部領域2C
の傾斜角θ2は、端部領域2bの傾斜角θ、よりも小さ
いので、中央部領域2Cで与えられるトラック幅’hz
は、端部領域2bを上記ギャップ12へと延長して得ら
れるトラック幅Tw+ よりも大きくなる。
この結果、上記実施例においては、端部領域2bを、従
来とほぼ同一の傾斜角で形成する共に、ギャップ12に
交差する局部の中央部領域2Cの傾斜角を変えることで
、従来と同様に、前記した偏摩耗に強く、また、疑似ギ
ャップの作用の抑制効果をほぼ維持し、そして、軟磁性
薄膜2の膜厚をより薄<シて、より大きなトラック幅を
得ることができる。
来とほぼ同一の傾斜角で形成する共に、ギャップ12に
交差する局部の中央部領域2Cの傾斜角を変えることで
、従来と同様に、前記した偏摩耗に強く、また、疑似ギ
ャップの作用の抑制効果をほぼ維持し、そして、軟磁性
薄膜2の膜厚をより薄<シて、より大きなトラック幅を
得ることができる。
これにより、上記磁気ヘッドでは、前記各基板ブロック
11・11を相互に加圧接合する際の熱膨張係数の差に
起因する熱応力等が減少する。この結果、軟磁性薄膜2
もしくは基板1におけるクラックの発生が低減され、上
記磁気ヘッドの歩留りが向」二する。
11・11を相互に加圧接合する際の熱膨張係数の差に
起因する熱応力等が減少する。この結果、軟磁性薄膜2
もしくは基板1におけるクラックの発生が低減され、上
記磁気ヘッドの歩留りが向」二する。
なお、上記実施例では、軟磁性薄膜2にFe−APSi
系合金を用いているが、他の軟磁性体材料を用いること
も可能である。
系合金を用いているが、他の軟磁性体材料を用いること
も可能である。
本発明に係る磁気ヘッドにおいては、以上のように、基
板に介設される軟磁性薄膜は、磁気記録担体の摺動面に
おけるギャップとの傾斜角を、上記ギャップと交差する
中央部領域の方がこの中央部領域の両端からそれぞれ側
方に延びる端部領域よりも小さくして形成されている構
成である。
板に介設される軟磁性薄膜は、磁気記録担体の摺動面に
おけるギャップとの傾斜角を、上記ギャップと交差する
中央部領域の方がこの中央部領域の両端からそれぞれ側
方に延びる端部領域よりも小さくして形成されている構
成である。
それゆえ、軟磁性薄膜の膜厚をより薄<シて、より大き
なトラック幅を得ることができるので、例えば、従来、
軟磁性薄膜と基板との熱膨張係数の差等に起因する軟磁
性薄膜もしくは基板でのクシツクの発生を低減すること
ができるという効果を奏する。
なトラック幅を得ることができるので、例えば、従来、
軟磁性薄膜と基板との熱膨張係数の差等に起因する軟磁
性薄膜もしくは基板でのクシツクの発生を低減すること
ができるという効果を奏する。
第1図ないし第8図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図はへラドチップの斜視図である。 第2図は溝形成後の基板の要部断面図である。 第3図は上記溝の壁面の一方に軟磁性薄膜を形成した後
の基板の要部断面図である。 第4図は上記溝に低融点ガラスを充填した後の基板の要
部断面図である。 第5図は上記低融点ガラスの表面側を研磨した後の基板
の要部断面図である。 第6図は−に記工程後の基板に内部巻線溝と外部巻線溝
とを形成した基板ブロックの斜視図である。 第7図は2個の上記基板ブロックを相互に接合して形成
されたコアブロックの斜視図である。 第8図は軟磁性薄膜とトラック幅との関係を示す説明図
である。 第9図は従来例を示すもので、ヘッドチップの斜視図で
ある。 ■は基板、2は軟磁性薄膜、2Cは中央部領域、2bは
端部領域、10はへラドチップ、12はギャップである
。
る。 第1図はへラドチップの斜視図である。 第2図は溝形成後の基板の要部断面図である。 第3図は上記溝の壁面の一方に軟磁性薄膜を形成した後
の基板の要部断面図である。 第4図は上記溝に低融点ガラスを充填した後の基板の要
部断面図である。 第5図は上記低融点ガラスの表面側を研磨した後の基板
の要部断面図である。 第6図は−に記工程後の基板に内部巻線溝と外部巻線溝
とを形成した基板ブロックの斜視図である。 第7図は2個の上記基板ブロックを相互に接合して形成
されたコアブロックの斜視図である。 第8図は軟磁性薄膜とトラック幅との関係を示す説明図
である。 第9図は従来例を示すもので、ヘッドチップの斜視図で
ある。 ■は基板、2は軟磁性薄膜、2Cは中央部領域、2bは
端部領域、10はへラドチップ、12はギャップである
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板とこの基板に介設された軟磁性薄膜とから成る
ヘッドチップが設けられ、このヘッドチップにおける磁
気記録担体の摺動面に表出する上記軟磁性油膜の端面が
、ギャップと交差する方向に傾斜して延びる磁気ヘッド
において、 上記軟磁性薄膜は、上記摺動面におけるギャップとの傾
斜角を、上記ギャップと交差する中央部領域の方がこの
中央部領域の両端からそれぞれ側方に延びる端部領域よ
りも小さくして形成されていることを特徴とする磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12513490A JPH0421906A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12513490A JPH0421906A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0421906A true JPH0421906A (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=14902703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12513490A Pending JPH0421906A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0421906A (ja) |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP12513490A patent/JPH0421906A/ja active Pending
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