JPH04249222A - 液晶表示素子および液晶配向膜の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子およびそ
れに用いる液晶配向膜の製法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電界の作用により駆動する電気光学的効
果を利用した液晶表示素子は、表面に液晶配向膜が形成
された一対の電極基板を対向配設して、液晶表示セルを
構成した後、液晶組成物を封入して製造されている。こ
のような液晶配向膜は、液晶分子を均一に配向させ、良
好な表示品質を得るために設けている。

【０００３】液晶配向膜としては、無機質保護層を設け
たガラス基板上に電極膜を形成した後、ＳｉＯなどの無
機化合物を斜方蒸着法により形成する無機液晶配向膜が
ある。しかしながら、この無機液晶配向膜は、液晶配向
性において液晶の種類に対する選択性を持っているため
に、全ての液晶組成物の配向を良好に行うことが困難で
ある。また、斜方蒸着法は、蒸着装置などの真空装置を
必要とするため、製造コストが高くなり、さらに量産性
の点からも十分な形成法とは言えない。無機液晶配向膜
の形成法には以上の問題点があるために、現在では有機
液晶配向膜が主流となっている。

【０００４】この有機液晶配向膜は、電極基板上にポリ
イミドやポリビニルアルコールなどの有機高分子化合物
を印刷法やスピンコーター法などで高分子膜とし、その
上をテトロンやナイロン布などで一方向にラビング処理
して形成する液晶配向膜である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
有機液晶配向膜を有する液晶表示素子には、重大な問題
点があった。有機液晶配向膜の形成法では、液晶表示基
板が大型になるほど高分子膜を均一な膜厚で形成させる
ことが困難であり、膜厚に起因する閾値電圧の不均一に
よる表示ムラが生じたりする。さらに、布などで擦るラ
ビング処理の際、静電気の発生による基板の静電破壊、
ゴミの付着による点灯不良や液晶配向膜に傷を生じさせ
てしまうなどの問題が生じている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点を解決するために鋭意検討した結果、ラビング処理
が不要で、液晶分子に対する配向能を有する液晶配向膜
および所定部位のみに液晶配向膜を形成する液晶配向膜
の製法ならびにそれらを有する液晶表示素子を見い出し
、本発明に到達した。

【０００７】すなわち本発明は、表面に液晶配向膜が形
成された電極基板一対が対向して配設され、この電極基
板間に液晶が挟持された液晶表示素子において、該液晶
配向膜が一般式（１） Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　（１）（式中、ＸおよびＹはハロゲン原子もしくは
アルキル基で置換されているか置換されていないフェニ
ル基、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シリル基
またはハロゲン原子を表す。ただし、ＸとＹが同時に水
素原子であることはない。） で示されるアセチレン系化合物１種以上を構成単位とし
、平均重合度が１０〜１０００００の重合体（ａ）、架
橋剤（ｂ）および必要により皮膜形成性高分子化合物（
ｃ）からなる架橋性組成物の熱硬化膜であることを特徴
とする液晶表示素子；ならびに、電極基板上に形成され
た前記の熱硬化膜の所定部位のみに紫外線を照射し、現
像して露光部のみ除去された熱硬化膜とすることを特徴
とする液晶配向膜の製法である。

【０００８】一般式（１）において、ＸおよびＹとして
は、ハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されている
フェニル基〔フルオロフェニル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルフェニル
基、エチルフェニル基など〕、フェニル基、水素原子、
炭素数１〜５の直鎖または分岐を有するアルキル基〔メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミ
ル基など〕、炭素数１〜５の直鎖または分岐を有するア
ルコキシ基〔メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基など〕、シリル基〔トリメチルシリル基、ト
リエチルシリル基など〕およびハロゲン原子〔フッ素原
子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子〕が挙げられ
る。ただし、ＸとＹは同時に水素原子であることはない
。本発明において、重合体（ａ）の平均重合度は、通常
１０〜１０００００である。

【０００９】このような重合体（ａ）の具体例としては
、ポリジフェニルアセチレン、ポリフェニルアセチレン
、ポリ（１−フェニル−１−ブチン）、ポリ（１−フェ
ニル−１−ヘキシン）、ポリ（２−ヘキシン）、ポリ（
１−クロロ−２−クロロフェニルアセチレン）、ポリジ
クロロアセチレン、ポリ（１−クロロ−２−ヘキシン）
、ポリ（１−トリメチルシリル−１−プロピン）、ポリ
（１−トリエチルシリル−１−プロピン）、ポリ（ｔ−
ブチルアセチレン）、ポリ（２−オクチン）、ポリ（１
−クロロ−２−フェニルアセチレン）、ポリ（１−フェ
ニル−１−プロピン）などが挙げられる。

【００１０】本発明において、架橋剤（ｂ）としては、
後述の展開溶媒（ｄ）に可溶のものであればよく、特に
限定しない。このような架橋剤（ｂ）としては、多官能
アミノ化合物、多官能ニトリル化合物、多官能メルカプ
タン化合物、多官能シラン化合物および多官能ビニル化
合物などが挙げられる。これらのうち２種類以上を用い
てもよい。

【００１１】多官能アミノ化合物としては、例えば、二
官能アミン化合物〔二官能脂肪族アミン化合物（エチレ
ンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、３，３−ジアミ
ノ−Ｎ−メチルジプロピルアミン、２，２−ジメチル−
１，３−ジプロパンジアミンなど）、二官能芳香族アミ
ン化合物（フェニレンジアミン、メチレンジアニリン、
エチレンジアニリン、ジアミノアントラキノンなど）な
ど〕；三官能アミン化合物｛三官能脂肪族アミン化合物
〔ジエチレントリアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリ
アミン、トリス（２−アミノエチル）アミンなど〕、三
官能芳香族アミン化合物（トリアミノベンゼンなど）な
ど｝；ならびに四官能アミン化合物｛四官能脂肪族アミ
ン化合物〔Ｎ，Ｎ’−ビス（２−アミノエチル）−１，
３−プロパンなど〕、四官能芳香族アミン化合物（３，
３−ジアミノベンジジン、１，４，５，８−テトラアミ
ノアンスラキノンなど）など｝が挙げられる。

【００１２】多官能ニトリル化合物としては、例えば、
二官能ニトリル化合物（サクシノニトリル、アゼラニト
リル、アジポニトリル、ジシアノベンゼン、イミノジア
セトニトリル、イミノジプロピオニトリルなど）；三官
能ニトリル化合物（２−アミノ−１−プロペン−１，１
，３−トリカーボニトリルなど）；ならびに四官能ニト
リル化合物（テトラシアノエチレン、７，７，８，８−
テトラシアノキノジメタンなど）が挙げられる。

【００１３】多官能メルカプタン化合物としては、例え
ば、ヘキサメチレンジチオール、トルエン−３，４−ジ
チオールおよび４，５−ビス（メルカプトメチル）キシ
レンが挙げられる。

【００１４】多官能シラン化合物としては、例えば、１
，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３，５，
７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、ポリメチル
ハイドロジェンシロキサンおよびポリフェニルハイドロ
ジェンシロキサンが挙げられる。

【００１５】多官能ビニル化合物としては、例えば、二
官能ビニル化合物〔ジビニルベンゼン、５−エチリデン
ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン、５−ビニル
ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン、３ａ，４，
７，７ａ−テトラヒドロインデン、４−ビニル−１−シ
クロヘキセン、ジビニルアジペート、アリル（メタ）ア
クリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、
ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートなど〕；三官
能ビニル化合物〔トリビニルシクロヘキサン、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）
アクリロキシエチルイソシアヌレートなど〕；ならびに
四官能ビニル化合物〔アリル化シクロヘキシルジ（メタ
）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）
アクリレートなど〕が挙げられる。

【００１６】また、多官能ビニル化合物としては上記の
他にも、イソシアネート化合物とヒドロキシル基を有す
るビニル化合物との重付加反応により合成される化合物
が挙げられる。上記のイソシアネート化合物としては、
例えば、メタクリロイルイソシアネート、２−イソシア
ネートエチルメタクリレート、エチレンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トラン
ス−１，４−シクロヘキシルジイソシアネート、トリシ
クロヘキシルメタン−４，４’，４’’−トリイソシア
ネート、トリフェニルメタン−４，４’，４’’−トリ
イソシアネート、ナフタリン−１，３，７−トリイソシ
アナート、ビフェニル−２，４，４’−トリイソシアネ
ート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、
６，６’−ジメチルトリフェニルメタン−３，３’，５
，５’−テトライソシアネート、４，４’−ジメチルジ
フェニルメタン−２，２’，５，５’−テトライソシア
ネートおよびテトライソシアネートシランが挙げられる
。また、ヒドロキシル基を有するビニル化合物としては
、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、４−ヒドロキシブ
チルアクリレート、３−アクリロイルオキシグリセリン
モノメタクリレート、グリセリンジメタクリレートおよ
びビニル−４−ヒドロキシブチルエーテルが挙げられる
。

【００１７】さらに、多官能ビニル化合物としては、エ
ポキシ化合物とカルボキシル基またはヒドロキシル基を
有するビニル化合物との付加反応により合成される化合
物も挙げられる。このエポキシ化合物としては、例えば
、グリシジル（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシ
ジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエス
テル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ジ
グリシジル−ｐ−オキシ安息香酸、Ｎ，Ｎ−ジグリシジ
ルアニリン、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン
、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、トリグリシ
ジルイソシアヌレートおよびビスβ−トリフルオロメチ
ルジグリシジルビスフェノールＡが挙げられる。また、
カルボキシル基を有するビニル化合物としては、例えば
、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキ
サヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チルフタル酸およびクロトン酸などが、ヒドロキシル基
を有するビニル化合物としては、例えば、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−
アクリロイルオキシグリセリンモノメタクリレート、グ
リセリンジメタクリレートおよびビニル−４−ヒドロキ
シブチルエーテルが挙げられる。

【００１８】該架橋剤（ｂ）は、後述の水面展開法など
の方法で架橋性組成物を製膜することにより、重合体（
ａ）の分子鎖の配列を一方向に揃えられ、さらに得られ
る膜を架橋させることで、重合体（ａ）の分子配列の状
態をより強固にできると考えられる。

【００１９】本発明において、必要により用いられる皮
膜形成性高分子化合物（ｃ）としては、後述の展開溶媒
（ｄ）に可溶のものであればよく、特に限定しない。こ
れを例示すれば、フッ素樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、フェノール樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂、アルキ
ッド樹脂、ウレタン樹脂、レゾルシン樹脂、フラン樹脂
、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアル
コール、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポ
リアミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラー
ト、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリアセタール
、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース系樹脂、
天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴム、ポリブタジエンおよびポリイソプ
レンが挙げられる。また、これらの２種類以上を併用し
てもよい。これらの皮膜形成性高分子化合物（ｃ）は、
特に水面展開法などの方法による製膜の際、架橋性組成
物の造膜性や膜強度を高める必要や熱処理後の熱硬化膜
に可とう性を付与する必要、膜強度を高めるなどの必要
がある場合に重合体（ａ）と架橋剤（ｂ）からなる架橋
性組成物と併用するとよい。

【００２０】本発明における架橋性組成物の組成比は、
通常、重合体（ａ）に対して、架橋剤（ｂ）が０．１〜
２０重量％、皮膜形成性高分子化合物（ｃ）が０〜９９
．９重量％である。

【００２１】該液晶配向膜の膜厚は、通常３０〜１５０
０オングストローム、好ましくは５０〜１０００オング
ストロームである。

【００２２】該架橋性組成物を用いて、製膜する方法と
しては、刷毛塗り法、浸せき法、スピンコート法、印刷
法、蒸着法、水面展開法、ラングミュアー−ブロジェッ
ト法など公知の如何なる手段も用いることができる。刷
毛塗り法、浸せき法、スピンコート法、印刷法などで製
膜し、熱硬化させた後、ラビング処理して液晶表示素子
としてもよいが、均一な高分子膜を製造しやすいこと、
ラビング処理をしなくても液晶配向膜の分子配列を制御
できることなどから、水面展開法あるいはラングミュア
ー−ブロジェット法（Ｌａｎｇｕｍｕｉｒ−Ｂｌｏｄｇ
ｅｔｔ法、以下ＬＢ法と略記）が好ましく、特に好まし
いのは水面展開法である。この水面展開法では、１回で
５０オングストローム以上の所望する膜厚の高分子膜が
形成できる。

【００２３】水面展開法では、該架橋性組成物を展開溶
媒（ｄ）で溶解した高分子溶液を水面上に連続的に展開
し、展開方向に延展しながら、展開溶媒を揮発させて高
分子膜とし、それを連続的に巻取ることにより製膜でき
る。また、ＬＢ法では、該架橋性組成物を展開溶媒（ｄ
）で溶解した高分子溶液を水面上に展開し、次いで一定
の表面圧で圧縮しながら、展開溶媒を揮発させて高分子
膜とし、支持体に移し取ることにより単分子製膜できる
。

【００２４】水面展開法およびＬＢ法における展開溶媒
（ｄ）としては、該架橋性組成物を溶解させる有機溶媒
であればよく、特に限定しない。このような展開溶媒と
しては、例えば、水と非相溶性の有機溶媒〔ヘキサン、
ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素，ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素，ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭
化水素，シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールな
ど〕；水と相溶性の有機溶媒〔Ｎ−メチル−ピロリドン
、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド化合物，ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド化合物，テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどの環状エーテル化合物など〕；ならびにこれ
らの２種類以上の混合物が挙げられる。

【００２５】また、水面展開法において、該架橋性組成
物を上記の展開溶媒（ｄ）で溶解した高分子溶液が自発
展開しにくいときには、高分子溶液に展開助剤を添加し
てもよい。展開助剤として、脂肪族、脂環式または芳香
族のケトン、エステル、アルコール、アミン、アルデヒ
ド、エーテル、パーオキサイドおよびこれらの２種類以
上の混合物などが挙げられる。

【００２６】さらに、水面展開法において、高分子溶液
の展開性を良くするために、高分子溶液に界面活性剤を
添加してもよい。界面活性剤としては、水面展開法で使
用できる界面活性剤であれは、特に限定しないが、好ま
しくはノニオン系もしくはアニオン系界面活性剤がよい
。

【００２７】本発明において、電極基板は、特に限定は
なく、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３な
どの透明電極を形成したガラス基板；前記の透明電極上
にカラーフィルターを形成したガラス基板；ポリエステ
ルなどのプラスチックス基板；薄膜トランジスターや薄
膜ダイオードなどを形成したガラス基板；シリコーンウ
エハーなどが挙げられる。

【００２８】本発明による液晶配向膜は、上記のような
電極基板上に直接形成することができるが、電極の上層
または下層に無機絶縁膜としてＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａ
ｌ２Ｏ３などの膜を設けたものの上に液晶配向膜を形成
することもできる。また、液晶配向膜と電極基板との接
着を高めるために、シランカップリング剤（例えば、３
−アミノプロピルトリメトキシシラン、アリルトリメチ
ルシラン、クロロジメチルビニルシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリルオ
キシプロピルジメトキシメチルシラン）を１種類以上用
いてもよい。

【００２９】該架橋性組成物の膜を電極基板上に貼合わ
せる方法としては、水面上の該架橋性組成物の膜を直接
積層しても良いし、予め該架橋性組成物の膜を支持フィ
ルム（ポリエチレンテレフタレートなど）上に積層して
おいたものを電極基板に転写する方法を用いても良い。 電極基板上に形成される該架橋性組成物の膜は、単層、
複層のいずれであっても良く、複層の場合は、転写した
該架橋性組成物の膜に付着した水分を完全に除去してか
ら、次を積層することが望ましい。

【００３０】電極基板上に形成された該架橋性組成物の
膜を熱処理することにより、熱硬化膜とすることができ
る。この熱処理の温度は、通常１６０℃〜２７０℃、好
ましくは、１８０℃〜２３０℃である。また、熱処理時
間は、通常１〜１０時間である。この熱硬化膜は、前記
の展開溶媒（ｄ）に不溶化された膜となる。

【００３１】さらに、露光部と非露光部とを設けたマス
クを通して、硬化膜の所定部位に紫外線を照射するか、
紫外線を走査照射するなどして、露光部（所定部位）を
分解した後、この所定部位を現像液（前記の展開溶媒な
どの露光部を溶解するような溶媒）で溶解除去すること
により、露光部の除去された硬化膜のみが電極基板上に
形成され、液晶配向膜が得られる。所定部位とは、例え
ば、電極基板上に封止剤（ガラスペースト、エポキシ樹
脂など）が塗布される部分以外であり、少なくとも電極
を形成してある部分を指す。

【００３２】本発明において、液晶としては、例えば、
ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液
晶および強誘電性液晶が挙げられる。また、本発明の液
晶表示素子は、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子、ア
クティブマトリックス駆動による液晶表示素子、スーパ
ーツイスティドネマティックタイプの液晶表示素子、ツ
イスティドネマティックタイプの液晶表示素子、ゲスト
−ホスト方式による液晶表示素子などの幅広いタイプの
液晶表示素子として有用である。さらに、本発明の液晶
表示素子は、電卓や時計などの分野からカラーテレビ、
ワープロ、パソコンなど幅広い用途に有用である。

【００３３】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されない。

【００３４】実施例１ ポリクロロフェニルアセチレン（重量平均分子量１２０
万）１００重量部およびジビニルベンゼン２重量部から
なる架橋性組成物をトルエンに溶解し、濃度１％の高分
子溶液を調製した。次に、図１に示すような水面展開製
膜装置で架橋性組成物を製膜した。図１において、（１
）は定量ポンプ、（２）は供給口、（３）は水槽、（４
）は水面、（５）は高分子膜、（６）は転写ローラー、
（７）はフィルム状基材、（８）は堰を表している。図
１の水面展開製膜装置における定量ポンプ（１）により
、上記の高分子溶液を供給口（２）から水槽（３）内の
水面（４）上に放出した結果、高分子溶液が水面上に自
発的に展開して、高分子膜（５）が生成した。このよう
にして生成した高分子膜（５）を、転写ローラー（６）
によりフィルム状基材（７）上に予め付設しておいた電
極基板に直接接触させ、転写した。

【００３５】この高分子膜を転写した電極基板の水分を
乾燥除去した後、２００℃で５時間、熱硬化させ、硬化
膜が形成された電極基板を得た。電極基板上に形成され
た高分子膜の膜厚は、約８０オングストローム程度であ
った。続いて、図２に示すような液晶表示素子を作成し
た。図２において、（９）は電極基板、（１０）は透明
電極、（１１）は液晶配向膜、（１２）はスペーサー、
（１３）は液晶、（１４）はシール剤、（１５）は偏向
板を表している。上下の電極基板（９）上の各々の液晶
配向膜（１１）は、製膜方向が直交するように配設して
ある。また、電極基板間には、１０μｍのアルミナスペ
ーサー（１１）を介在させてある。電極基板間には、フ
ェニルシクロヘキサン系のネマティック液晶（１３）が
注入され、液晶注入口はエポキシ樹脂で封止してある。 また、各偏向板（１５）は、その偏向軸が液晶配向膜の
製膜方向と同方向となるように貼付けてある。この液晶
表示素子を用いて駆動した結果、配向ムラは見られず、
均一な配向性を示した。また、電極間のショート、電極
破壊による点灯不良は一切見られなかった。

【００３６】実施例２ 実施例１と同様の硬化膜が形成された電極基板を用い、
この電極基板のシール剤を塗布する部分にのみ紫外線を
照射し、トルエンを現像液として、紫外線照射部分を洗
い流し、液晶配向膜がパターンニングされた電極基板を
得た。この液晶配向膜がパターニングされた電極基板を
用いた以外、実施例１と同様にして液晶表示素子を作成
した。この液晶表示素子も実施例１と同様に配向ムラは
見られず均一な配向性を示し、電極間のショート、電極
破壊による点灯不良は一切見られなかった。

【００３７】実施例３ ポリクロロフェニルアセチレン（重量平均分子量１２０
万）１００重量部、ジビニルベンゼン８重量部およびポ
リメチルメタクリレート（重量平均分子量４０万）４０
重量部からなる架橋性組成物をベンゼンで溶解し、濃度
１％の高分子溶液を調製した。この高分子溶液を用いた
以外、実施例１と同様にして、硬化膜が形成された電極
基板を得、かつ液晶表示素子を作成した。この液晶表示
素子も実施例１と同様に、液晶配向性は良好であり、点
灯不良はなかった。

【００３８】実施例４ 実施例３と同様の硬化膜が形成された電極基板を用い、
さらに実施例２と同様にして、液晶配向膜がパターニン
グされた電極基板を得た。この電極基板を用いた以外は
、実施例１と同様にして、液晶表示素子を作成した。 この液晶表示素子も実施例１と同様に、液晶配向性は良
好であり、点灯不良はなかった。

【００３９】

【発明の効果】本発明の液晶表示素子は、ラビング処理
を行わないでも、液晶組成物を良好に配向させうる液晶
配向膜を有してなるものである。そのため、静電気の発
生によって電極や薄膜トランジスターなどを破壊するこ
となく、液晶配向膜表面を汚染することなどもない。さ
らに、液晶配向膜を水面展開法により製膜する場合、一
回の処理で均一な約５０オングストローム以上の任意の
膜厚の高分子膜を形成できる。従って、本発明の液晶表
示素子は、表示品質を低下させることなく、量産性にも
優れた液晶配向膜を有するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１〜４における組成物を製膜するための
水面展開製膜装置の概要図である。

【図２】実施例１〜４における液晶表示素子の基本構成
図（断面図）である。

【符号の説明】

１　　定量ポンプ ２　　供給口 ３　　水槽 ４　　水面 ５　　高分子膜 ６　　転写ローラー ７　　フィルム状基材 ８　　堰 ９　　電極基板 １０　　透明電極 １１　　液晶配向膜 １２　　スペーサー １３　　液晶 １４　　シール剤 １５　　偏向板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　表面に液晶配向膜が形成された電極基
   板一対が対向して配設され、この電極基板間に液晶が挟
   持された液晶表示素子において、該液晶配向膜が下記一
   般式（１） Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ　　　　　　　　　　　　　　　　　　
   　　（１）（式中、ＸおよびＹはハロゲン原子もしくは
   アルキル基で置換されているか置換されていないフェニ
   ル基、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シリル基
   またはハロゲン原子を表す。ただし、ＸとＹが同時に水
   素原子であることはない。）で示されるアセチレン系化
   合物１種以上を構成単位とし、平均重合度が１０〜１０
   ００００の重合体（ａ）、架橋剤（ｂ）および必要によ
   り皮膜形成性高分子化合物（ｃ）からなる架橋性組成物
   の熱硬化膜であることを特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】　　該熱硬化膜が架橋性組成物を水面展開
   法もしくはラングミュアー−ブロジェット法により製膜
   し、熱硬化した膜である請求項１に記載の液晶表示素子
   。
3. 【請求項３】　　電極基板上に形成された請求項１に記
   載の熱硬化膜の所定部位のみに紫外線を照射し、現像し
   て露光部のみ除去された熱硬化膜とすることを特徴とす
   る液晶配向膜の製法。