JPH04249320A - 自動洗浄装置における輸送方式 - Google Patents
自動洗浄装置における輸送方式Info
- Publication number
- JPH04249320A JPH04249320A JP3682891A JP3682891A JPH04249320A JP H04249320 A JPH04249320 A JP H04249320A JP 3682891 A JP3682891 A JP 3682891A JP 3682891 A JP3682891 A JP 3682891A JP H04249320 A JPH04249320 A JP H04249320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- magazine
- carrier box
- wafers
- automatic cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は例えば半導体ウエハな
どの小片を薬液に浸漬して洗浄やエッチングを行う装置
の輸送手段の改善に関する。
どの小片を薬液に浸漬して洗浄やエッチングを行う装置
の輸送手段の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスを製造するうえで、半導
体ウエハを清浄に洗浄するプロセスは、一般に５乃至１
０工程繰り返されるが、この洗浄には、薬液、純水など
の液体を用いるのが、いわゆるドライプロセスと比較し
ても有利である。その理由は、微粒子の除去力が優れて
いるからである。即ち、半導体ウエハ（以下ウエハとい
う）には、拡散・ＣＶＤ・イオン注入などのプロセス発
塵，ハンドリング・保管・輸送などで受けるメカニカル
発塵など、様々な種類・形態の微粒子が付着し、製造歩
留りに大きな影響を及ぼしているが、液体を用いる、い
わゆる湿式プロセスは、このような多様な微粒子を低コ
ストで一括して洗浄できるからである。
体ウエハを清浄に洗浄するプロセスは、一般に５乃至１
０工程繰り返されるが、この洗浄には、薬液、純水など
の液体を用いるのが、いわゆるドライプロセスと比較し
ても有利である。その理由は、微粒子の除去力が優れて
いるからである。即ち、半導体ウエハ（以下ウエハとい
う）には、拡散・ＣＶＤ・イオン注入などのプロセス発
塵，ハンドリング・保管・輸送などで受けるメカニカル
発塵など、様々な種類・形態の微粒子が付着し、製造歩
留りに大きな影響を及ぼしているが、液体を用いる、い
わゆる湿式プロセスは、このような多様な微粒子を低コ
ストで一括して洗浄できるからである。
【０００３】以上の理由から、半導体工場では従来から
図２に示す様な自動洗浄装置が使用されている。図２に
おいて、１は自動洗浄装置で、天井部２，洗浄槽部３，
ローダー部４，アンローダー部５及びワーク搬送部６と
で構成されている。７はウエハ７ａを搭載した専用のマ
ガジンで、ローダー部４に一定量載置しておき、制御機
８に洗浄条件を打ち込むと、ワーク搬送部６が目的の洗
浄槽部３に順次所定時間ずつ搬出・入し、最後にアンロ
ーダー部５のＩＰＡ蒸気乾燥機９にて乾燥し、オペレー
ターに洗浄処理が終了したことを知らせる様になってい
る。そしてオペレーターはウエハ７ａを専用のマガジン
から取り出す。
図２に示す様な自動洗浄装置が使用されている。図２に
おいて、１は自動洗浄装置で、天井部２，洗浄槽部３，
ローダー部４，アンローダー部５及びワーク搬送部６と
で構成されている。７はウエハ７ａを搭載した専用のマ
ガジンで、ローダー部４に一定量載置しておき、制御機
８に洗浄条件を打ち込むと、ワーク搬送部６が目的の洗
浄槽部３に順次所定時間ずつ搬出・入し、最後にアンロ
ーダー部５のＩＰＡ蒸気乾燥機９にて乾燥し、オペレー
ターに洗浄処理が終了したことを知らせる様になってい
る。そしてオペレーターはウエハ７ａを専用のマガジン
から取り出す。
【０００４】洗浄処理のシーケンスは、例えば加熱濃硫
酸−純水−加熱濃硝酸−希弗酸−純水−ＩＰＡ蒸気乾燥
の方式とか、アンモニア水＋過酸化水素水−純水−アン
モニア水＋塩酸−純水−希弗酸−純水−ＩＰＡ蒸気乾燥
の方式が一般に採用されている。この場合、各洗浄槽３
間のピッチはウエハ７ａの直径が５インチで３７５ｍｍ
程度を要し、例えば１２槽では４．５ｍとなり、ローダ
ー，アンローダーコンベア等を加えると、７〜８ｍの長
尺装置になるのが一般的である。なお図中、６ａはワー
ク搬送部６のツメで、マガジン７を挟持する様になって
おり、１０は洗浄槽３の周りにある排気メッシュである
。
酸−純水−加熱濃硝酸−希弗酸−純水−ＩＰＡ蒸気乾燥
の方式とか、アンモニア水＋過酸化水素水−純水−アン
モニア水＋塩酸−純水−希弗酸−純水−ＩＰＡ蒸気乾燥
の方式が一般に採用されている。この場合、各洗浄槽３
間のピッチはウエハ７ａの直径が５インチで３７５ｍｍ
程度を要し、例えば１２槽では４．５ｍとなり、ローダ
ー，アンローダーコンベア等を加えると、７〜８ｍの長
尺装置になるのが一般的である。なお図中、６ａはワー
ク搬送部６のツメで、マガジン７を挟持する様になって
おり、１０は洗浄槽３の周りにある排気メッシュである
。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置は以上のよ
うに構成されているが、この装置を運転するには、洗浄
やエッチングに用いて薬液に耐久力のある材料で構成し
たマガジンにウエハを入れて、各洗浄槽部３に通す必要
がある。ところが耐薬品性に優れた材料としては、テフ
ロン等の弗素樹脂が好適であるが、非常に高価であるこ
とと、洗浄やエッチングに用いたマガジンには極微量の
薬液が残るために、自動洗浄装置の前後工程では比較的
安価なポリプロピレンやポリエチレン製のマガジンをキ
ャリアボックスに収納、或いは一体化して各工程間に流
通させ、運搬用にするのが一般的である。
うに構成されているが、この装置を運転するには、洗浄
やエッチングに用いて薬液に耐久力のある材料で構成し
たマガジンにウエハを入れて、各洗浄槽部３に通す必要
がある。ところが耐薬品性に優れた材料としては、テフ
ロン等の弗素樹脂が好適であるが、非常に高価であるこ
とと、洗浄やエッチングに用いたマガジンには極微量の
薬液が残るために、自動洗浄装置の前後工程では比較的
安価なポリプロピレンやポリエチレン製のマガジンをキ
ャリアボックスに収納、或いは一体化して各工程間に流
通させ、運搬用にするのが一般的である。
【０００６】従って従来の装置では、ウエハの洗浄或い
はエッチングのためには、前工程からキャリアボックス
にて運ばれてきたウエハを専用のマガジンに移し替えて
洗浄或いはエッチングし、その後、再び前工程から運ば
れてきた上記キャリアボックスに戻して次工程に送る訳
であるが、自動洗浄装置はウエハの大口径化に従って長
尺化し、前述したように７〜８ｍあるいは大口径化に伴
ってそれ以上の装置長さになるため、ウエハの洗浄或い
はエッチング投入を行うと、その都度、キャリアボック
スと専用マガジンの７〜８ｍものマテハンと多数量のキ
ャリアボックスの保管を行わねばならず、オペレーター
はマテハン要員化するなど、人手と場所を要するなどの
問題点が生じていた。
はエッチングのためには、前工程からキャリアボックス
にて運ばれてきたウエハを専用のマガジンに移し替えて
洗浄或いはエッチングし、その後、再び前工程から運ば
れてきた上記キャリアボックスに戻して次工程に送る訳
であるが、自動洗浄装置はウエハの大口径化に従って長
尺化し、前述したように７〜８ｍあるいは大口径化に伴
ってそれ以上の装置長さになるため、ウエハの洗浄或い
はエッチング投入を行うと、その都度、キャリアボック
スと専用マガジンの７〜８ｍものマテハンと多数量のキ
ャリアボックスの保管を行わねばならず、オペレーター
はマテハン要員化するなど、人手と場所を要するなどの
問題点が生じていた。
【０００７】この発明は以上のような問題点を解消せん
とするもので、キャリアボックスやマガジンなどのマテ
ハンを合理化すると同時に、それらの保管スペースの創
出を目的としている。
とするもので、キャリアボックスやマガジンなどのマテ
ハンを合理化すると同時に、それらの保管スペースの創
出を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明に係る自動洗浄
装置の輸送方式は、ワークの洗浄処理中に、この洗浄処
理工程とバイパスして空のキャリヤボックスをワークの
洗浄処理方向に送り、一方空の洗浄専用のマガジンを逆
の方向に輸送するようにしたものである。
装置の輸送方式は、ワークの洗浄処理中に、この洗浄処
理工程とバイパスして空のキャリヤボックスをワークの
洗浄処理方向に送り、一方空の洗浄専用のマガジンを逆
の方向に輸送するようにしたものである。
【０００９】
【作用】この発明におけるキャリアボックス及びマガジ
ンの輸送は、ワークの洗浄処理工程とは別にバイパスし
て配置されかつ互いに逆方向に流れる一対のコンベアに
のって反対方向に給送されるので、人手を要せずに円滑
に連続してリサイクルするとともに、これらの保管スペ
ースも不要とする。
ンの輸送は、ワークの洗浄処理工程とは別にバイパスし
て配置されかつ互いに逆方向に流れる一対のコンベアに
のって反対方向に給送されるので、人手を要せずに円滑
に連続してリサイクルするとともに、これらの保管スペ
ースも不要とする。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示す斜視図で、２
〜１０は従来の図２と同一のものである。１１はキャリ
アボックスで、内部にウエハ７ａを一定量（例えば２５
枚）を櫛形溝１１ａに立てて保持するようになっていて
、更にフタ１１ｂをして防塵し、前後工程を流通してい
る。ここで、ウエハ７ａを洗浄或いはエッチング処理す
る場合、まずキャリアボックス１１内のウエハ７ａを専
用マガジン７に移し替え、ローダー４に載置して処理条
件を指令する。するとウエハ７ａは従来と同様に自動的
に洗浄処理される。この間に、前述の空のキャリアボッ
クス１１はエレベーター１２ａに載置される。このエレ
ベーター１２ａは架台１３ａ内に取付けた昇降機構によ
り天井部２までキャリアボックス１１を移動せしめ、更
にエヤーシリンダー１４ａにて搬送ベルト１５ａ上に移
載される。この搬送ベルト１５ａは、通常ウエハ７ａの
進行方向に連続又は間欠的に回転しており、少なくとも
洗浄或いはエッチング処理中のウエハ７ａが納まってい
た キャリアボックス１１の数量が載置できる長さ及
び回転速度を有している。
〜１０は従来の図２と同一のものである。１１はキャリ
アボックスで、内部にウエハ７ａを一定量（例えば２５
枚）を櫛形溝１１ａに立てて保持するようになっていて
、更にフタ１１ｂをして防塵し、前後工程を流通してい
る。ここで、ウエハ７ａを洗浄或いはエッチング処理す
る場合、まずキャリアボックス１１内のウエハ７ａを専
用マガジン７に移し替え、ローダー４に載置して処理条
件を指令する。するとウエハ７ａは従来と同様に自動的
に洗浄処理される。この間に、前述の空のキャリアボッ
クス１１はエレベーター１２ａに載置される。このエレ
ベーター１２ａは架台１３ａ内に取付けた昇降機構によ
り天井部２までキャリアボックス１１を移動せしめ、更
にエヤーシリンダー１４ａにて搬送ベルト１５ａ上に移
載される。この搬送ベルト１５ａは、通常ウエハ７ａの
進行方向に連続又は間欠的に回転しており、少なくとも
洗浄或いはエッチング処理中のウエハ７ａが納まってい
た キャリアボックス１１の数量が載置できる長さ及
び回転速度を有している。
【００１１】そして、キャリアボックス１１が他方のエ
レベーター１２ｂに押し込まれると、架台１３ｂに内蔵
した昇降機構によりオペレーターの手元まで下降するよ
うになっており、そこで洗浄やエッチング処理が終った
ウエハ７ａは再び元のキャリアボツクスに移し替えられ
て、次工程に送られる。
レベーター１２ｂに押し込まれると、架台１３ｂに内蔵
した昇降機構によりオペレーターの手元まで下降するよ
うになっており、そこで洗浄やエッチング処理が終った
ウエハ７ａは再び元のキャリアボツクスに移し替えられ
て、次工程に送られる。
【００１２】このとき、専用マガジン７が空になるため
、これをエレベーター１２ｃに載置する。エレベーター
１２ｃは架台１３ｂに内蔵された昇降機構により天井部
２まで専用マガジン７を押し上げ、エアーシリンダー１
４ｂにて搬送ベルト１５ｂ上に移される。この搬送ベル
ト１５ｂは上記ベルト１５ａとは逆方向に作動して、専
用マガジン７を一定量ストックしつつエレベーター１２
ｄに順次移載していくようになっている。次に新しく洗
浄処理するべきウエハ７ａがくると、この専用マガジン
７に移し替えて洗浄処理し、前述したウエハのキャリア
ボックスは天井部２を迂回するようになっている。
、これをエレベーター１２ｃに載置する。エレベーター
１２ｃは架台１３ｂに内蔵された昇降機構により天井部
２まで専用マガジン７を押し上げ、エアーシリンダー１
４ｂにて搬送ベルト１５ｂ上に移される。この搬送ベル
ト１５ｂは上記ベルト１５ａとは逆方向に作動して、専
用マガジン７を一定量ストックしつつエレベーター１２
ｄに順次移載していくようになっている。次に新しく洗
浄処理するべきウエハ７ａがくると、この専用マガジン
７に移し替えて洗浄処理し、前述したウエハのキャリア
ボックスは天井部２を迂回するようになっている。
【００１３】なお上記実施例では、キャリアボックス１
１と専用マガジン７の輸送は装置の天井部を活用したが
、更にこの上に防塵カバーをしてその中に清浄気体を満
たしてもよく、或いはまた天井部以外の場所を活用して
、輸送機構を取付けてもよい。
１と専用マガジン７の輸送は装置の天井部を活用したが
、更にこの上に防塵カバーをしてその中に清浄気体を満
たしてもよく、或いはまた天井部以外の場所を活用して
、輸送機構を取付けてもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上のようにこの発明では、ウエハの洗
浄処理中にキャリアボックスをローダー側からアンロー
ダー側に、一方、洗浄専用マガジンは逆にアンローダー
側からローダー側に輸送するようにしたので、これらの
キャリアボックスやマガジン類を長尺化した装置の前に
積み上げることなく、且つ、オペレーターはウエハの容
器類やマガジンのマテハンに手間を要することなく、本
来の作業に専念し得るという効果がある。
浄処理中にキャリアボックスをローダー側からアンロー
ダー側に、一方、洗浄専用マガジンは逆にアンローダー
側からローダー側に輸送するようにしたので、これらの
キャリアボックスやマガジン類を長尺化した装置の前に
積み上げることなく、且つ、オペレーターはウエハの容
器類やマガジンのマテハンに手間を要することなく、本
来の作業に専念し得るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示す一部切欠きの斜視図ａ
と専用マガジンとキャリアボックスの斜視図ｂである。
と専用マガジンとキャリアボックスの斜視図ｂである。
【図２】従来の自動洗浄処理装置を示す斜視図である。
２ 天井部
３ 洗浄槽
４ ローダー部
５ アンローダー部７
マガジン １１ キャリアボックス１２ａ〜１２ｄ
エレベーター １４ａ，ｂ エヤーシリンダー １５ａ，ｂ 搬送ベルト
マガジン １１ キャリアボックス１２ａ〜１２ｄ
エレベーター １４ａ，ｂ エヤーシリンダー １５ａ，ｂ 搬送ベルト
Claims (1)
- 【請求項１】 自動洗浄装置の中央部に多数の清浄槽
を配備し、装置の一端のローダー側で前工程からキャリ
アボックスにてはこばれてきたワークを洗浄或いはエッ
チング専用のマガジンに移し替えて、上記洗浄槽に順次
自動で投入し、上記装置の他端のアンローダー側で上記
専用のマガジンごと上記ワークを回収し、再び上記キャ
リアボックスに戻す方式の自動洗浄装置であって、上記
ワークの自動洗浄中に上記キャリアボックスを上記装置
の一端（ローダー側）から他端（アンローダー側）に、
一方、上記専用のマガジンを上記装置の他端（アンロー
ダー側）から一端（ローダー側）にそれぞれ逆方向に輸
送するようにしたことを特徴とする自動洗浄装置におけ
る輸送方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3682891A JPH04249320A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 自動洗浄装置における輸送方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3682891A JPH04249320A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 自動洗浄装置における輸送方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04249320A true JPH04249320A (ja) | 1992-09-04 |
Family
ID=12480609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3682891A Pending JPH04249320A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 自動洗浄装置における輸送方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04249320A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05198545A (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-06 | Enya Syst:Kk | カセット及びウエ−ハの洗浄処理装置 |
| JPH06252126A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Sugai:Kk | 基板洗浄方法および基板洗浄システム |
| JP2020161654A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社オーク製作所 | 収納体搬送装置及びレーザ加工装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52139378A (en) * | 1976-05-17 | 1977-11-21 | Hitachi Ltd | Integrated treatment apparatus for semiconductor wafers |
| JPS61169412A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Hitachi Ltd | 受払装置 |
| JPS61174722A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄装置 |
-
1991
- 1991-02-05 JP JP3682891A patent/JPH04249320A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52139378A (en) * | 1976-05-17 | 1977-11-21 | Hitachi Ltd | Integrated treatment apparatus for semiconductor wafers |
| JPS61169412A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Hitachi Ltd | 受払装置 |
| JPS61174722A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05198545A (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-06 | Enya Syst:Kk | カセット及びウエ−ハの洗浄処理装置 |
| JPH06252126A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Sugai:Kk | 基板洗浄方法および基板洗浄システム |
| JP2020161654A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社オーク製作所 | 収納体搬送装置及びレーザ加工装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960002616A (ko) | 기판표면 처리장치 및 기판표면 처리방법 | |
| KR19980070828A (ko) | 자동 보관 선반 및 자동 보관 방법 | |
| US6623231B2 (en) | Plant for producing semiconductor products | |
| JPH0697262A (ja) | 半導体ウエハ搬送装置 | |
| KR100920323B1 (ko) | 습식세정장치 및 기판처리방법 | |
| JP2002237512A (ja) | ウエハー枚葉搬送用コンベヤの移載装置 | |
| JPS62291939A (ja) | 半導体用浸漬処理装置 | |
| JP2725496B2 (ja) | 移替装置 | |
| JP2003152047A (ja) | 半導体装置の生産システム | |
| JP3954664B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH04329636A (ja) | ウエット処理装置及びウエット処理方法 | |
| JPS61185931A (ja) | 半導体ウエハの洗浄装置 | |
| JPH11214472A (ja) | ワーク搬送方法 | |
| JPH0610686Y2 (ja) | ウエハ移し替装置 | |
| JPS58134441A (ja) | ウエハ処理装置 | |
| JPH06342779A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3766450B2 (ja) | 半導体基板加工設備における半導体基板の供給装置 | |
| KR200159654Y1 (ko) | 반도체 이송장치 | |
| JPH0398806A (ja) | 自動箱詰方式 | |
| JPS61174722A (ja) | 半導体ウエハの洗浄装置 | |
| JP2834970B2 (ja) | 基板収納装置 | |
| JP2505263Y2 (ja) | ウエハの表面処理装置のウエハ移送装置 | |
| JP3434014B2 (ja) | スタッカロボット | |
| JPH0239450A (ja) | 枚葉処理装置のウェハー移送方法 | |
| JPS6343341A (ja) | 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ |