JPS6343341A - 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ - Google Patents
半導体装置製造装置のオ−トロ−ダInfo
- Publication number
- JPS6343341A JPS6343341A JP61186335A JP18633586A JPS6343341A JP S6343341 A JPS6343341 A JP S6343341A JP 61186335 A JP61186335 A JP 61186335A JP 18633586 A JP18633586 A JP 18633586A JP S6343341 A JPS6343341 A JP S6343341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- stage
- casette
- cassette
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 43
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 abstract 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Specific Conveyance Elements (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＣｔＯＣ方式半導体装置製造装置に関し、特
に、オートローダのウェーハカセットの姿勢変換及びウ
ェーハ周辺の清浄度の確保に関する。
に、オートローダのウェーハカセットの姿勢変換及びウ
ェーハ周辺の清浄度の確保に関する。
従来、ＣｔｏＣ方式半導体装置製造装置のオートローダ
においては、ウェーハカセット（以下カセット）を、ス
テージ上にウェーハ表面が上を向くようにセットし、ス
テージのエレベータ機構およびウェーハのベルト搬送機
構によってウェーハが一枚ずつ処理室内へ送シ込まれ、
又処理終了後も同様な機構によってウェーハがカセット
内へ回収されていた。
においては、ウェーハカセット（以下カセット）を、ス
テージ上にウェーハ表面が上を向くようにセットし、ス
テージのエレベータ機構およびウェーハのベルト搬送機
構によってウェーハが一枚ずつ処理室内へ送シ込まれ、
又処理終了後も同様な機構によってウェーハがカセット
内へ回収されていた。
上述した従来のオートローダでは、作業者がカセットヲ
ステージにセットしてから、ウェーハが処理室内に送シ
込み可能となるまでの時間、又、処理終了後ウェーハが
カセット内に全て回収されてから作業者が取シに来るま
での間、ウェーハがカセット内で待機状態となる時間が
あり、この間も、ウェーハは表面が上を向いた状態とな
っていた。このため、ウェーハ周辺の清浄な空気のダウ
ンフローが乱れ、作業者などから発生する及埃がウェー
ハに付着しやすい状態となっておシ、歩留ｈ ’ｃ低下
させる要因になるという問題点がある。
ステージにセットしてから、ウェーハが処理室内に送シ
込み可能となるまでの時間、又、処理終了後ウェーハが
カセット内に全て回収されてから作業者が取シに来るま
での間、ウェーハがカセット内で待機状態となる時間が
あり、この間も、ウェーハは表面が上を向いた状態とな
っていた。このため、ウェーハ周辺の清浄な空気のダウ
ンフローが乱れ、作業者などから発生する及埃がウェー
ハに付着しやすい状態となっておシ、歩留ｈ ’ｃ低下
させる要因になるという問題点がある。
本発明のオートローダは、ステージにセットしたカセッ
トの姿勢を変換するための機構を有し、これによシ、ウ
ェーハが処３１ｚへ送られるまでの待珀状態ではウェー
ハをカセット内で垂直状態とし、搬送時には水平状態と
している。又、ウェーハが垂直な状態におけるウェーハ
周辺の清浄な空気のダウン７０−を保つために、カセッ
トがセットされているステージを、上下方向に空気が通
）抜は可能な構造としている。
トの姿勢を変換するための機構を有し、これによシ、ウ
ェーハが処３１ｚへ送られるまでの待珀状態ではウェー
ハをカセット内で垂直状態とし、搬送時には水平状態と
している。又、ウェーハが垂直な状態におけるウェーハ
周辺の清浄な空気のダウン７０−を保つために、カセッ
トがセットされているステージを、上下方向に空気が通
）抜は可能な構造としている。
次に、不発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の構成を示す概略図でちる。
図において、１はウェハカセット、２はカセットステー
ジで、３はステージ支持部である。
ジで、３はステージ支持部である。
先ず、作業者は、第１図のように、ステージ２にカセッ
ト１をウェーハが垂直となる向きにセットする。カセッ
トおよびステージは、例えばパンチングボード構造など
にニジ、上下に空気が通υ抜は可能となっており、又装
置本体もステージ２の下方が開口されている。これに二
って、ＨＥＰＡフィルタ（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎ
ｃｙ ＰａｒｔｉｃｌｅＡｉｒｓ Ｆｉｌｔｒ） ４
によって生じた清浄な空気のｆ’Ｚ７フローを保ってい
る。次に、真空処理室５ヘウエーハが送り込み可能とな
った時点で、モータ６とボールネジ７およびガイド棒８
によって構成されたエレベータ機構によって、ステージ
支持部３が下降していく。これに伴ない、ステージ２の
レバー９とフォロア１０との間の作用によりステージ２
が回転し、仮想線のようにウェーハが水平な状態となる
と、ウエーノ・ベルト搬送機構１１およびステージ支持
部のエレベータ機構によってウェーハが一枚ずつ真空処
理室５内へ送シ込まれていく。
ト１をウェーハが垂直となる向きにセットする。カセッ
トおよびステージは、例えばパンチングボード構造など
にニジ、上下に空気が通υ抜は可能となっており、又装
置本体もステージ２の下方が開口されている。これに二
って、ＨＥＰＡフィルタ（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎ
ｃｙ ＰａｒｔｉｃｌｅＡｉｒｓ Ｆｉｌｔｒ） ４
によって生じた清浄な空気のｆ’Ｚ７フローを保ってい
る。次に、真空処理室５ヘウエーハが送り込み可能とな
った時点で、モータ６とボールネジ７およびガイド棒８
によって構成されたエレベータ機構によって、ステージ
支持部３が下降していく。これに伴ない、ステージ２の
レバー９とフォロア１０との間の作用によりステージ２
が回転し、仮想線のようにウェーハが水平な状態となる
と、ウエーノ・ベルト搬送機構１１およびステージ支持
部のエレベータ機構によってウェーハが一枚ずつ真空処
理室５内へ送シ込まれていく。
又、処理終了後は、仮想線の向きにあるカセット内に処
理′済みウェーハが収納されていき、カセット１にウェ
ーハが全部回収された時点でステージ支持部３が上昇し
、カセット１が実線の状態、すなわち、ウェーハを垂直
な状態として、清浄度を保持し、作業者が取シに来るの
を待つ。
理′済みウェーハが収納されていき、カセット１にウェ
ーハが全部回収された時点でステージ支持部３が上昇し
、カセット１が実線の状態、すなわち、ウェーハを垂直
な状態として、清浄度を保持し、作業者が取シに来るの
を待つ。
又、バッチ式の装置において、ウェーハが特定の枚数ず
つ間隔をおいて真空処理室へ入っていく装置があり、こ
のような場合の待機時間の間も、カセットを図の状態に
しておくことによってウェーハの清浄度を確保すること
が可能となる。
つ間隔をおいて真空処理室へ入っていく装置があり、こ
のような場合の待機時間の間も、カセットを図の状態に
しておくことによってウェーハの清浄度を確保すること
が可能となる。
以上説明したように、本発明は、発塵源である作業者に
近いカセットステージにおりて、待機状態にあり、塵埃
の付着しやすい環境におかれているウェーハの向きを垂
直とし、さらにウェーハ周辺の清浄な空気のダウンフロ
ーを確保することによって、ウェーハ表面に付着する塵
埃の数を低減させ、歩留シ、すなわち、生産性を向上さ
せる効果がある。
近いカセットステージにおりて、待機状態にあり、塵埃
の付着しやすい環境におかれているウェーハの向きを垂
直とし、さらにウェーハ周辺の清浄な空気のダウンフロ
ーを確保することによって、ウェーハ表面に付着する塵
埃の数を低減させ、歩留シ、すなわち、生産性を向上さ
せる効果がある。
第１図は、本発明の一実施例のＣｔｏＣ方式半導体装置
製造装置のオートローダの構成を示す概略図である。 ｌ・・・・・・ウェーハカセット、２・・・・・・カセ
ットステージ、３・・・・・・ステージ支持部、４・・
・・・・ＨＥＰＡフィルタ、５・・・・・・真空処理室
、６・・・・・・モータ、７・・・・・・ボールネジ、
８・・・・−・ガイド棒、９・・・・−・レバー、１０
・・・・・・７オロア、１１・・・・・・ウェーハ搬送
ヘルド。 ＼１．．−’
製造装置のオートローダの構成を示す概略図である。 ｌ・・・・・・ウェーハカセット、２・・・・・・カセ
ットステージ、３・・・・・・ステージ支持部、４・・
・・・・ＨＥＰＡフィルタ、５・・・・・・真空処理室
、６・・・・・・モータ、７・・・・・・ボールネジ、
８・・・・−・ガイド棒、９・・・・−・レバー、１０
・・・・・・７オロア、１１・・・・・・ウェーハ搬送
ヘルド。 ＼１．．−’
Claims (1)
- ＣｔｏＣ（カセットツウカセット）方式半導体装置製
造装置のオートローダにおいて、ステージにセットした
ウェーハカセットの姿勢を、このカセットに収容されて
いるウェーハの向きが垂直および水平となるよう変換す
る機構を有し、さらに、前記ウェーハが垂直状態にある
時に、このウェーハ周辺の空気のダウンフローを確保す
るよう前記ステージに空気の通路を設けたことを特徴と
する半導体装置製造装置のオートローダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61186335A JPS6343341A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61186335A JPS6343341A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6343341A true JPS6343341A (ja) | 1988-02-24 |
Family
ID=16186546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61186335A Pending JPS6343341A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6343341A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03257882A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Sekisui Plastics Co Ltd | ＰｂＴｉＯ３固溶体の製造方法 |
| US5620295A (en) * | 1990-11-17 | 1997-04-15 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus |
| JP2013251432A (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-12 | Yaskawa Electric Corp | 搬送ロボットおよび搬送ロボットを備えた局所クリーン装置 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP61186335A patent/JPS6343341A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03257882A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Sekisui Plastics Co Ltd | ＰｂＴｉＯ３固溶体の製造方法 |
| US5620295A (en) * | 1990-11-17 | 1997-04-15 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus |
| JP2013251432A (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-12 | Yaskawa Electric Corp | 搬送ロボットおよび搬送ロボットを備えた局所クリーン装置 |
| US8807911B2 (en) | 2012-06-01 | 2014-08-19 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Transfer robot and equipment front end module including transfer robot with vent part |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62222625A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US4806057A (en) | Automatic wafer loading method and apparatus | |
| JPH04229633A (ja) | 真空ウェハ搬送処理装置及び方法 | |
| JPH04190840A (ja) | 真空処理装置 | |
| US4929139A (en) | Passive electrostatic vacuum particle collector | |
| JP4342745B2 (ja) | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 | |
| DE102019205588B4 (de) | Fördermechanismus zum fördern einer wafereinheit | |
| JP3486462B2 (ja) | 減圧・常圧処理装置 | |
| JPH04269824A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP3108460B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| US6354781B1 (en) | Semiconductor manufacturing system | |
| KR19990028767A (ko) | 반도체 웨이퍼 일괄 적재 시스템 및 반도체 웨이퍼 조작 시스템 | |
| JPH03505946A (ja) | ベルヌーイのピックアップを備えるウエーハ取り扱いシステム | |
| JPH01251734A (ja) | マルチチャンバ型ｃｖｄ装置 | |
| JPS6343341A (ja) | 半導体装置製造装置のオ−トロ−ダ | |
| JP2873761B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| US6358328B1 (en) | Method for dry cleaning a wafer container | |
| JP4838293B2 (ja) | 基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置 | |
| JPS6129143B2 (ja) | ||
| JP2876250B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| CN109994401A (zh) | 半导体设备前端模块、半导体设备及晶圆处理方法 | |
| JPH0731539Y2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3434014B2 (ja) | スタッカロボット | |
| JPS60206017A (ja) | 清浄搬送システム | |
| JPS62196240A (ja) | 半導体ウエハ搬送装置 |