JPH0425012A - 半導体装置の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はノズルより滴下する薬液により、半導体基板表
面に薬液の薄膜層、例えば感光性樹脂膜等を形成する半
導体装置の製造装置に関し、特に半導体基板を回転支持
する基体の構造に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の半導体装置の製造装置は、半導体基板を
真空吸着して回転支持する基体と、半導体基板表面に種
々の薬液を滴下するノズルとを有し、滴下された薬液に
より半導体基板表面に感光性樹脂膜等を形成するように
なっていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の半導体装置の製造装置は、回転する半導
体基板表面に感光性樹脂膜等を形成する際に、薬液をノ
ズルから滴下するたけの構造となっているので、薬液が
半導体基板表面に十分に行き渡らず、半導体基板表面上
の場所によっては、感光性樹脂膜等が十分に形成されな
いという欠点かある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の半導体装置の製造装置は、半導体基板を回転支
持する基体部に超音波振動板を有している。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の実施例１の断面図である。

本実施例によれば、半導体基板３を支持する基体４がパ
ルスモータ５により回転し７、ノズル１より滴トされる
薬液２を半導体基板３の表面に十分に行き渡らせ、且つ
超音波発振器６に接続され基体４内に設けられた超音波
発振板７を振動させることにより、薬液２を゛ト導体基
板３の表面に均一にむらなく分布させている。

第２図は本発明の実施例２の断面図である。

基体１１に被せられ半導体基板３の上方を覆う上蓋８の
内側に取り付けられた薬液シャワー噴射口９より、半導
体基板３の表面に均一にシャワー状に薬液２が噴霧され
る。

合わせて、半導体基板３を支持する基体４の下部に取り
付けられたパルスモータ５を回転させ、且つ超音波発振
器６に接続され上Ｍ８の内側に収り付けられた超音波発
振板７を経て、薬液シャワー噴射口つと共に半導体基板
３全体を超音波振動させることにより、薬液２の半導体
基板３−Ｌでの分布の均一性を向上させている。

〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、半導体基板を回転支持す
る基体部に超音波発振板を内蔵させることにより、半導
体基板」二の薬液分布をむらなく均一にし、半導体基板
」二のバタン形成を不十分に終らせることを防ぐ効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１−図は本発明の実施例１−の断面図、第２図は本発
明の実施例２の断面図である。 １−・・・ノズル、２・・・薬液、３・・・半導体基板
、４・・・基体、５・・・パルスモータ、６・・超音波
発振器、７・・・超音波発振板、８・・」−蓋、９・・
・薬液シャワー噴射口。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　半導体装置を真空吸着し回転支持する基体と、半導体
   基板表面に種々の薬液を滴下するノズルとを有し、半導
   体基板表面に滴下された薬液の薄膜層を形成する半導体
   装置の製造装置において、半導体基板を回転支持する基
   体部に超音波発振板を有していることを特徴とする半導
   体装置の製造装置。