JPH04251450A - 光記録ディスク - Google Patents
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- JPH04251450A JPH04251450A JP2418747A JP41874790A JPH04251450A JP H04251450 A JPH04251450 A JP H04251450A JP 2418747 A JP2418747 A JP 2418747A JP 41874790 A JP41874790 A JP 41874790A JP H04251450 A JPH04251450 A JP H04251450A
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- cyclic polyolefin
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録ディスク、例え
ば光磁気記録ディスク、相変化型の光記録ディスク、ピ
ット形成型の光記録ディスク等に関する。
ば光磁気記録ディスク、相変化型の光記録ディスク、ピ
ット形成型の光記録ディスク等に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録ディスクは、基板上に記録層を設
層して構成され、その記録・再生に際しては、通常、基
板側からレーザビーム等を照射する。このため、用いる
基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹脂から構成され
る。このような場合、ディスクの軽量化や、トラッキン
グ用のグルーブやピット形成の容易さの点から、従来光
記録ディスクの基板としては樹脂製の基板が用いられて
おり、特に、ポリメチルメタクリレートとポリカーボネ
ートが汎用されている。
層して構成され、その記録・再生に際しては、通常、基
板側からレーザビーム等を照射する。このため、用いる
基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹脂から構成され
る。このような場合、ディスクの軽量化や、トラッキン
グ用のグルーブやピット形成の容易さの点から、従来光
記録ディスクの基板としては樹脂製の基板が用いられて
おり、特に、ポリメチルメタクリレートとポリカーボネ
ートが汎用されている。
【０００３】このうち、ポリメチルメタクリレートは光
弾性係数が小さく、複屈折が非常に小さいため、すぐれ
た光学特性をもっているが、吸水率が高く、耐熱性も低
いため、寸法安定性の面で劣っている。このため、吸水
率が小さく、耐熱性が比較的高いポリカーボネートが多
用されている。
弾性係数が小さく、複屈折が非常に小さいため、すぐれ
た光学特性をもっているが、吸水率が高く、耐熱性も低
いため、寸法安定性の面で劣っている。このため、吸水
率が小さく、耐熱性が比較的高いポリカーボネートが多
用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリカーボネ
ートは、光弾性係数が大きく、高分子鎖が流動方向に配
向しやすく、複屈折が大きくなりやすい。特に、近年、
より一層の高密度記録化や高転送レート化のため、２０
０ｍｍ以上の直径の大径ディスクを用い、これを１８０
０ｒｐｍ以上の高速回転で記録再生を行なうことが試み
られているが、このような大径サイズでは、射出成形時
に複屈折が生じ、しかも高速回転時の応力の印加によっ
て複屈折がより一層大きくなってしまい、記録再生出力
が低下してしまう。
ートは、光弾性係数が大きく、高分子鎖が流動方向に配
向しやすく、複屈折が大きくなりやすい。特に、近年、
より一層の高密度記録化や高転送レート化のため、２０
０ｍｍ以上の直径の大径ディスクを用い、これを１８０
０ｒｐｍ以上の高速回転で記録再生を行なうことが試み
られているが、このような大径サイズでは、射出成形時
に複屈折が生じ、しかも高速回転時の応力の印加によっ
て複屈折がより一層大きくなってしまい、記録再生出力
が低下してしまう。
【０００５】また、吸水率も十分小さいものではなく、
大径サイズでは変形が大きい。しかも、塗布型の記録層
を設層するときには耐溶剤性の点で不十分である。
大径サイズでは変形が大きい。しかも、塗布型の記録層
を設層するときには耐溶剤性の点で不十分である。
【０００６】本発明の主たる目的は、大径サイズにて高
速回転で使用しても、十分な出力やＣ／Ｎが得られ、寸
法安定性や耐溶剤性にすぐれた樹脂基板を用いた光記録
ディスクを提供することにある。
速回転で使用しても、十分な出力やＣ／Ｎが得られ、寸
法安定性や耐溶剤性にすぐれた樹脂基板を用いた光記録
ディスクを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の本発明によって達成される。
（１）〜（３）の本発明によって達成される。
【０００８】（１）下記化２のくり返し構造単位を有す
る環状ポリオレフィン製の２００ｍｍ以上の直径の基板
上に、記録層を設け、１８００ｒｐｍ以上の回転数にて
記録再生を行なうことを特徴とする光記録ディスク。
る環状ポリオレフィン製の２００ｍｍ以上の直径の基板
上に、記録層を設け、１８００ｒｐｍ以上の回転数にて
記録再生を行なうことを特徴とする光記録ディスク。
【０００９】
【化２】
【００１０】（２）前記環状ポリオレフィンの数平均分
子量は１万〜１０万である上記（１）に記載の光記録デ
ィスク。
子量は１万〜１０万である上記（１）に記載の光記録デ
ィスク。
【００１１】（３）前記基板は、前記環状ポリオレフィ
ンを射出成形したものである上記（１）または（２）に
記載の光記録ディスク。
ンを射出成形したものである上記（１）または（２）に
記載の光記録ディスク。
【００１２】
【具休的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】本発明における基板材質は、前記化２をく
り返し構造単位とする環状ポリオレフィンである。前記
化２において、Ｒ１およびＲ２は、炭化水素残基である
が、特に、炭素数１〜５の非置換のアルキル基であるこ
とが好ましい。
り返し構造単位とする環状ポリオレフィンである。前記
化２において、Ｒ１およびＲ２は、炭化水素残基である
が、特に、炭素数１〜５の非置換のアルキル基であるこ
とが好ましい。
【００１４】用いる環状ポリオレフィンは、このような
化２のくり返し単位のみからなるホモポリマーであるこ
とが好ましいが、Ｒ１、Ｒ２の異なる化２のくり返し単
位の複数からなるコポリマーであってもよい。そして、
その数平均分子量は、１万〜１０万、特に２万〜５万で
あることが好ましい。このような環状ポリオレフインは
、常法に従い重合させて用いても、例えば日本ゼオン社
製Ｚｅｏｎｅｘ ２８０等として市販されているもの
を用いてもよい。
化２のくり返し単位のみからなるホモポリマーであるこ
とが好ましいが、Ｒ１、Ｒ２の異なる化２のくり返し単
位の複数からなるコポリマーであってもよい。そして、
その数平均分子量は、１万〜１０万、特に２万〜５万で
あることが好ましい。このような環状ポリオレフインは
、常法に従い重合させて用いても、例えば日本ゼオン社
製Ｚｅｏｎｅｘ ２８０等として市販されているもの
を用いてもよい。
【００１５】このような環状ポリオレフィンは、射出成
形による加工が可能である。射出成形時の溶融温度は３
００〜４００℃程度、金型温度は８０〜１２０℃程度、
射出圧は３００〜４００ｋｇ／ｃｍ２程度とし、その他
、保圧や型締力等は通常の条件とすればよい。
形による加工が可能である。射出成形時の溶融温度は３
００〜４００℃程度、金型温度は８０〜１２０℃程度、
射出圧は３００〜４００ｋｇ／ｃｍ２程度とし、その他
、保圧や型締力等は通常の条件とすればよい。
【００１６】このようにして射出成形されて得られる基
板は２００ｍｍ以上の直径をもつものである。２００ｍ
ｍ未満の直径では、最適成形条件で射出成形したときの
ポリカーボネートと大差はなく、本発明の出力向上およ
びノイズ低減効果は顕在化しない。
板は２００ｍｍ以上の直径をもつものである。２００ｍ
ｍ未満の直径では、最適成形条件で射出成形したときの
ポリカーボネートと大差はなく、本発明の出力向上およ
びノイズ低減効果は顕在化しない。
【００１７】他方、本発明のように、２００ｍｍ以上の
大径サイズでは、２〜５ｄＢ以上のＣ／Ｎ向上効果とノ
イズ低減効果が得られる。なお、基板直径の上限につい
ては特に制限はないが、通常３８０ｍｍ程度以下とする
。
大径サイズでは、２〜５ｄＢ以上のＣ／Ｎ向上効果とノ
イズ低減効果が得られる。なお、基板直径の上限につい
ては特に制限はないが、通常３８０ｍｍ程度以下とする
。
【００１８】また、厚さは１．０〜１．５ｍｍ程度とす
る。なお、基板表面には、グルーブやピット等のプレフ
ォーマット情報等のパターンが形成されていてもよい。 また、基板には、ハブが一体化されていてもよい。ハブ
には、割れやクラック防止のため、ガラス繊維を混入す
ることが好ましい。
る。なお、基板表面には、グルーブやピット等のプレフ
ォーマット情報等のパターンが形成されていてもよい。 また、基板には、ハブが一体化されていてもよい。ハブ
には、割れやクラック防止のため、ガラス繊維を混入す
ることが好ましい。
【００１９】このような基板上には、直接、あるいは適
当な下地層ないし中間層を介して記録層が設けられる。 また記録層上には必要に応じ、保護層や反射層等が設け
られ、種々の光記録ディスク構造とされる。
当な下地層ないし中間層を介して記録層が設けられる。 また記録層上には必要に応じ、保護層や反射層等が設け
られ、種々の光記録ディスク構造とされる。
【００２０】この場合、光記録ディスクとしては、変調
された熱ビームあるいは変調された磁界により、情報が
磁気的に記録され、記録情報を磁気−光変換して再生す
る、いわゆる光磁気記録ディスクや、いわゆる相変化型
の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を行なう
光記録ディスク等の消去可能型のディスクや、エアーサ
ンドイッチ構造を有し、ピット形成により反射率変化を
生じる、いわゆるピット形成型の記録層を有する光記録
ディスク、あるいはこれに反射層を設けたレーザーディ
スク（ＬＤ）規格対応の光記録ディスク等の追記型ディ
スクなどのいずれであってもよい。
された熱ビームあるいは変調された磁界により、情報が
磁気的に記録され、記録情報を磁気−光変換して再生す
る、いわゆる光磁気記録ディスクや、いわゆる相変化型
の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を行なう
光記録ディスク等の消去可能型のディスクや、エアーサ
ンドイッチ構造を有し、ピット形成により反射率変化を
生じる、いわゆるピット形成型の記録層を有する光記録
ディスク、あるいはこれに反射層を設けたレーザーディ
スク（ＬＤ）規格対応の光記録ディスク等の追記型ディ
スクなどのいずれであってもよい。
【００２１】このような光記録ディスクは、１８００ｒ
ｐｍ以上の回転数にて回転され、記録再生が行なわれる
。１８００ｒｐｍ未満の回転数では、本発明の出力向上
ないしノイズ低減効果は顕在化しない。なお、回転数の
上限は、一般に、５４００ｒｐｍ程度であり、回転方式
はＣＡＶであっても、ＣＬＶであってもよい。
ｐｍ以上の回転数にて回転され、記録再生が行なわれる
。１８００ｒｐｍ未満の回転数では、本発明の出力向上
ないしノイズ低減効果は顕在化しない。なお、回転数の
上限は、一般に、５４００ｒｐｍ程度であり、回転方式
はＣＡＶであっても、ＣＬＶであってもよい。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００２３】［実施例１］前記化２において、Ｒ１＝Ｒ
２＝エチルの１，４−ジメチレン−２，３−ジエチルシ
クロペンタンをくり返し単位とし、数平均分子量２９，
０００の環状ポリオレフィンのペレツ卜を得た。これを
３５０℃にて溶融し、金型温度１００℃、射出圧３５０
ｋｇ／ｃｍ２で射出成形し、３００ｍｍ直径、厚さ１．
２ｍｍの基板を得た。
２＝エチルの１，４−ジメチレン−２，３−ジエチルシ
クロペンタンをくり返し単位とし、数平均分子量２９，
０００の環状ポリオレフィンのペレツ卜を得た。これを
３５０℃にて溶融し、金型温度１００℃、射出圧３５０
ｋｇ／ｃｍ２で射出成形し、３００ｍｍ直径、厚さ１．
２ｍｍの基板を得た。
【００２４】この基板に、順次、ガラス保護層、ＳｉＮ
ｘの中間層、ＴｂＦｅＣｏ記録層、ＳｉＮｘ保護層、お
よび樹脂製の保護コートを形成し、最後にこのディスク
を２枚、接着剤により記録層が対向するように張り合せ
て両面記録型の光磁気記録ディスクを製造した。基板の
表面にはトラッキング用グルーブを形成した。
ｘの中間層、ＴｂＦｅＣｏ記録層、ＳｉＮｘ保護層、お
よび樹脂製の保護コートを形成し、最後にこのディスク
を２枚、接着剤により記録層が対向するように張り合せ
て両面記録型の光磁気記録ディスクを製造した。基板の
表面にはトラッキング用グルーブを形成した。
【００２５】このディスクを３６００ｒｐｍにて回転し
、記録周波数１０ＭＨｚで記録を行ない、その後再生し
て、１７５ｍｍ直径の位置（線速３３ｍ／ｓ）および１
３０ｍｍ直径の位置（線速２４ｍ／ｓ）の位置でのＣ／
Ｎとノイズレベルを測定した。結果を表１に示す。
、記録周波数１０ＭＨｚで記録を行ない、その後再生し
て、１７５ｍｍ直径の位置（線速３３ｍ／ｓ）および１
３０ｍｍ直径の位置（線速２４ｍ／ｓ）の位置でのＣ／
Ｎとノイズレベルを測定した。結果を表１に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１には比較のため、ビスフェノールＡタ
イプのポリカーボネート（数平均分子量１５０００）を
、溶融温度３４０℃、金型温度１００℃、射出圧３００
ｋｇ／ｃｍ２の最適条件で射出成形した場合の結果が併
記される。
イプのポリカーボネート（数平均分子量１５０００）を
、溶融温度３４０℃、金型温度１００℃、射出圧３００
ｋｇ／ｃｍ２の最適条件で射出成形した場合の結果が併
記される。
【００２８】さらに、基板サイズを１３０ｍｍ直径とし
て、上記の環状ポリオレフィンとポリカーポネートの比
較を行なった。回転速度は１８００ｒｐｍ、記録周波数
３．７ＭＨｚとし、６０ｎｍ直径（線速５．７ｍ／ｓ）
位置でのＣ／Ｎとノイズレベルとを測定した。結果を表
２に示す。
て、上記の環状ポリオレフィンとポリカーポネートの比
較を行なった。回転速度は１８００ｒｐｍ、記録周波数
３．７ＭＨｚとし、６０ｎｍ直径（線速５．７ｍ／ｓ）
位置でのＣ／Ｎとノイズレベルとを測定した。結果を表
２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】表１および表２に示される結果から、本発
明の環状ポリオレフィン基板は、２００ｍｍ以上の直径
で、１８００ｒｐｍ以上の高速回転で使用したとき、臨
界的にＣ／Ｎが向上し、ノイズレベルが低減することが
わかる。
明の環状ポリオレフィン基板は、２００ｍｍ以上の直径
で、１８００ｒｐｍ以上の高速回転で使用したとき、臨
界的にＣ／Ｎが向上し、ノイズレベルが低減することが
わかる。
【００３１】
【効果】本発明の環状ポリオレフィンは、光弾性定数が
小さく、２００ｍｍ以上の大径サイズに射出成形しても
複屈折が発生しにくく、また１８００ｒｐｍ以上の高速
回転時の応力によっても複屈折は増大せず、高い出力や
Ｃ／Ｎと、低いノイズレベルがえられる。
小さく、２００ｍｍ以上の大径サイズに射出成形しても
複屈折が発生しにくく、また１８００ｒｐｍ以上の高速
回転時の応力によっても複屈折は増大せず、高い出力や
Ｃ／Ｎと、低いノイズレベルがえられる。
【００３２】また、吸水率が低く、２００ｍｍ以上の大
径サイズでも変形が少なく、高い機械的精度が得られる
。そして、耐溶剤性も良好であり、成形性も良好で、割
れの心配もない。
径サイズでも変形が少なく、高い機械的精度が得られる
。そして、耐溶剤性も良好であり、成形性も良好で、割
れの心配もない。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記化１のくり返し構造単位を有する
環状ポリオレフィン製の２００ｍｍ以上の直径の基板上
に、記録層を設け、１８００ｒｐｍ以上の回転数にて記
録再生を行なうことを特徴とする光記録ディスク。 【化１】 - 【請求項２】 前記環状ポリオレフィンの数平均分子
量は１万〜１０万である請求項１に記載の光記録ディス
ク。 - 【請求項３】 前記基板は、前記環状ポリオレフィン
を射出成形したものである請求項１または２に記載の光
記録ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2418747A JPH04251450A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光記録ディスク |
| US07/804,587 US5213862A (en) | 1990-12-28 | 1991-12-10 | Optical recording disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2418747A JPH04251450A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光記録ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04251450A true JPH04251450A (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=18526535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2418747A Withdrawn JPH04251450A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光記録ディスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5213862A (ja) |
| JP (1) | JPH04251450A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07114030B2 (ja) * | 1986-08-11 | 1995-12-06 | 三菱化学株式会社 | 光デイスク基板 |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP2418747A patent/JPH04251450A/ja not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-12-10 US US07/804,587 patent/US5213862A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5213862A (en) | 1993-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980312 |