JPH04251855A - 水なし平版印刷版の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水なし平版印刷版（本
明細書では、水なしＰＳ版と略称）の処理装置に関し、
更に詳しくは、最終処理工程の完了した水なしＰＳ版の
版面及び裏面に付着している処理液を拭き取る機構を有
する水なしＰＳ版の処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在知られている水なしＰＳ版は、アル
ミ等の支持体上に光可溶化性あるいは水不溶化性ないし
光接着性感光層及びインク反発層としてシリコーンゴム
層が積層されており、更に、必要に応じて、その表面に
保護フィルムがラミネートされている。

【０００３】上記した水なしＰＳ版を露光した後、現像
処理するには、幾つかの方式があるが、基本原理は、処
理液を水なしＰＳ版の感光層側に供給し、その表面をブ
ラシローラにより擦ることにより、露光により可溶化・
不溶化した感光層の内、可溶化部分を掻き取ると云うも
のであり、可溶化した感光層の上面のシリコーンゴム層
も同時に掻き取られる。この方式においては、処理液は
処理液タンクに溜められて用意されており、ポンプによ
りブラシローラの上方から供給され、掻き取った感光層
及びシリコーンゴム層の、所謂現像カスを含んだ処理液
は処理液タンク内に回収され、ポンプにより循環されて
再利用される。

【０００４】処理液の供給が行われて１の工程が完了し
た水なしＰＳ版は、次工程に移設される前に、スクイズ
機構により、版面及び裏面に付着している前工程の処理
液のスクイズが行われる。これは、前工程の処理液が次
工程に持ち込まれることにより、次工程の処理性能に悪
影響を受けるのを防止するためであり、また、染色工程
を経た後で、染色液が残存するのを防止するため、スク
イズに加えて、版面の拭き取りを行うことが実施ないし
提案されている。例えば、東レ水なし自動現像機ＴＷＬ
８６０、ＴＷＬ１１６０（東レ社・商品名）では、染色
工程の後で、上側（版面側）のローラがモルトンローラ
である対ローラにより版面の拭き取りを行っているし、
特開平２−２２００５３号公報では、染色工程の後で、
撥水性のローラと親水性のローラを２段に設けて染色液
を拭き取ることが提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の水なしＰＳ版の
処理装置では、最終工程を経た水なしＰＳ版の版面及び
裏面に処理液（前記した従来の装置では染色液、本発明
が適用される装置では第２水洗工程を行うので水）が残
存し、この状態のまま印刷を行うと、処理液が付着して
いる部分が着肉不良となり刷りだしが遅くなるという問
題があった。また、処理液が付着し、乾燥不充分な版面
ないし裏面に手が触れると、手が汚れたりする、等の衛
生上の問題もある。

【０００６】本発明は、上記に鑑み、処理の最終工程を
経た水なしＰＳ版の版面のみならず裏面をも十分に拭き
取り、処理液が残存することがないよう改善された機構
を有する水なしＰＳ版の処理装置を明らかにすることを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の水なしＰＳ版処
理装置は、水なしＰＳ版の最終処理工程に続いて、各々
少なくとも１対のスクイズローラと拭き取りローラの組
み合わせから成る拭き取り工程を配置し、前記拭き取り
ローラが、少なくとも１対の上側ローラと、少なくとも
１対の下側ローラの表面が粗面化されており、水なしＰ
Ｓ版の版面及び裏面に付着している残存処理液の拭き取
りを行うこと、を特徴とする。

【０００８】本発明の好ましい実施態様は、前記最終処
理工程が水洗工程であり、且つ該水洗工程が第２水洗工
程であること、を特徴とする。

【０００９】

【実施例】次に、本発明に係る水なしＰＳ版処理装置を
、添付図面に示す実施例に従って更に詳細に説明する。

【００１０】図１に示す如く、第１の実施例が適用され
る水なしＰＳ版処理装置では、水なしＰＳ版１は、水平
状態で搬送され、現像工程、第１水洗工程、染色工程、
第２水洗工程を経て外部に搬出される。現像液タンクに
溜められて用意される現像液は、フィルタ３を介してポ
ンプ４に供給され、ポンプ４の作動により、シャワーノ
ズル５から噴射され、直接に、若しくは、ブラシローラ
６を介して、水なしＰＳ版の表面に供給される。処理工
程を経て、現像カスを含む現像液は、自然落下により現
像工程部の下方に用意されている受け部７に落下し、フ
ィルタ機構８によって現像カスの除去が行われた後、現
像液タンク２に回収され、再利用される。なお、９はオ
ーバーフローによる排出口であり、原液タンク１０及び
希釈水タンク１１からの補充液の供給が行われた際に廃
液が外部に排出される。１２はスクイズ機構であって、
水なしＰＳ版の版面及び裏面に付着している現像処理液
をスクイズするものであり、本発明の装置では、スクイ
ズの後に第１水洗工程を置き、版面の水洗を行ってから
染色工程を行うよう構成されており、更に、染色工程の
後にも第２水洗工程を行って非画像面に染色液が残存す
ることが防止されている。

【００１１】本発明の装置で特徴的な構成は第２水洗工
程の後に水なしＰＳ版の版面及び裏面の拭き取り工程を
配置した点であり、この工程は、スクイズローラと拭き
取りローラの組み合わせから成る拭き取り機構２０によ
って行われるものであり、図２〜図７に幾つかの実施態
様が示されている。

【００１２】図２に示す態様は、スクイズローラ２１に
続いて上下１対のモルトンローラ２２を配置したもの、
図３は、モルトンローラ２２とブチルゴムローラ２３の
対を、上下逆にして２対配置したもの、図４は、モルト
ンローラ２２とブチルゴムローラ２３の配置を逆にした
もの、図５は、紙巻ローラ２４で水なしＰＳ版の版面及
び裏面を拭き取るもの、図６は、モルトンローラ２２と
ブチルゴムローラ２３の別な組み合わせ態様を示してい
る。

【００１３】本発明の装置における拭き取り機構２０は
、水なしＰＳ版の版面及び裏面の両面の拭き取りを行う
ものであること、従来の工程における最終工程の後に配
置するものである点に特徴を有するが、同様の工程を染
色工程の後に配置する態様も本発明に包含される。

【００１４】また、図７に示す如く、拭き取りローラ２
５の各々に第２の拭き取りローラ２６を接触させて、拭
き取りローラ２５により水なしＰＳ版の版面及び裏面の
拭き取り効率を上昇させることも好ましい。更に、第２
の拭き取りローラ２６を、ブレードに置き代えて、拭き
取りローラ２５の面に付着した水分などを絞り取る態様
であっても好ましい。

【００１５】拭き取りローラ２５として例示した、モル
トンローラ２２、紙巻ローラ２４は例示であり、水なし
ＰＳ版の版面及び裏面に付着している処理液の拭き取り
（吸着・拭き取り）が可能であれば様々のものが利用で
き、例えば、ローラ表面に微小な凹部、例えば、最大巾
０．５μｍ〜１ｍｍ、深さ１μｍ〜２ｍｍの円状、楕円
状、多角形状などの穴、が０．１μｍ〜１ｃｍの間隔で
均一に、或いは、不均一に設けられているゴムローラや
、ローラ表面に吸液性樹脂が配置されているローラなど
の利用も可能である。

【００１６】また、拭き取りローラ２５と対を成すロー
ラのブチルロール２３も例示に過ぎないことは勿論であ
る。

【００１７】

【発明の効果】本発明の装置によれば、処理工程の完了
した水なしＰＳ版の版面及び裏面に付着している残存処
理液を拭き取ることができ、即座に印刷工程で利用する
ことができ、手に接触しても手を汚すことがないので、
頭記した課題が解決される。

【図面の簡単な説明】

【図１】水なしＰＳ版処理装置の全体を示す概略図であ
る。

【図２】他の実施態様を示す概略図である。

【図３】他の実施態様を示す概略図である。

【図４】他の実施態様を示す概略図である。

【図５】他の実施態様を示す概略図である。

【図６】他の実施態様を示す概略図である。

【図７】他の実施態様を示す概略図である。

【符号の説明】

１　　　　水なしＰＳ版 ２　　　　現像液タンク ３　　　　フィルタ ４　　　　ポンプ ５　　　　シャワーノズル ６　　　　ブラシローラ ７　　　　受部 ８　　　　フィルタ機構 ９　　　　オーバーフロー開閉口部 １０　　原液タンク １１　　希釈水タンク １２　　スクイズローラ ２０　　拭き取り機構 ２１　　スクイズローラ ２２　　モルトンローラ ２３　　ブチルゴムローラ ２４　　紙巻ローラ ２５　　拭き取りローラ ２６　　第２拭き取りローラ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】水なしＰＳ版の最終処理工程に続いて、各
   々少なくとも１対のスクイズローラと拭き取りローラの
   組み合わせから成る拭き取り工程を配置し、前記拭き取
   りローラが、少なくとも１対の上側ローラと、少なくと
   も１対の下側ローラの表面が粗面化されており、水なし
   ＰＳ版の版面及び裏面に付着している残存処理液の拭き
   取りを行うことを特徴とする水なしＰＳ版の処理装置。
2. 【請求項２】前記最終処理工程が水洗工程であり、且つ
   該水洗工程が第２水洗工程であることを特徴とする請求
   項１記載の水なしＰＳ版の処理装置。