JPH04259971A - ヘッド用スライダの表面加工方法 - Google Patents
ヘッド用スライダの表面加工方法Info
- Publication number
- JPH04259971A JPH04259971A JP4294991A JP4294991A JPH04259971A JP H04259971 A JPH04259971 A JP H04259971A JP 4294991 A JP4294991 A JP 4294991A JP 4294991 A JP4294991 A JP 4294991A JP H04259971 A JPH04259971 A JP H04259971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- micro
- nozzle
- groove
- grooves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はヘッド用スライダの表面
加工方法に係り、とくにヘッド用スライダのエアベアリ
ング面の幅方向の片側または両側に微細加工溝を形成す
る表面加工方法に関する。
加工方法に係り、とくにヘッド用スライダのエアベアリ
ング面の幅方向の片側または両側に微細加工溝を形成す
る表面加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク等の記録再生用ディスク
によって信号の記録あるいは再生を行なう場合には、例
えば特公平１−４６９４０号公報に示されるようなフラ
イングヘッドが用いられる。このようなフライングヘッ
ドはスライダを備えており、このスライダがエアベアリ
ング層を介してディスクと対接されるようになっている
。従ってスライダの表面は固定砥粒による研削と、ラッ
プ盤による仕上げ加工とによって加工されており、高精
度の仕上げ面になっている。
によって信号の記録あるいは再生を行なう場合には、例
えば特公平１−４６９４０号公報に示されるようなフラ
イングヘッドが用いられる。このようなフライングヘッ
ドはスライダを備えており、このスライダがエアベアリ
ング層を介してディスクと対接されるようになっている
。従ってスライダの表面は固定砥粒による研削と、ラッ
プ盤による仕上げ加工とによって加工されており、高精
度の仕上げ面になっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】フライングヘッドのス
ライダの表面を研削とラップ盤とによって加工するよう
にすると、加工に時間がかかるばかりでなく、段取が非
常に面倒になっていた。
ライダの表面を研削とラップ盤とによって加工するよう
にすると、加工に時間がかかるばかりでなく、段取が非
常に面倒になっていた。
【０００４】とくにラップトップ型のコンピュータに用
いられる例えば２．５インチのハードディスクの場合に
は、その中心側から最外周までフライングヘッドが常に
一定の浮上高さを維持するようにしなければならない。 このような目的を達成するための特殊な形状の溝は、従
来のダイヤモンド砥石による加工技術ではとても達成で
きなかった。イオンビームエッチングによる表面加工は
、精度がよいものの、時間がかかり過ぎてスライダ加工
には不適当である。
いられる例えば２．５インチのハードディスクの場合に
は、その中心側から最外周までフライングヘッドが常に
一定の浮上高さを維持するようにしなければならない。 このような目的を達成するための特殊な形状の溝は、従
来のダイヤモンド砥石による加工技術ではとても達成で
きなかった。イオンビームエッチングによる表面加工は
、精度がよいものの、時間がかかり過ぎてスライダ加工
には不適当である。
【０００５】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであって、比較的短時間でしかも高精度に微細加
工溝を形成するようにしたヘッド用スライダの表面加工
方法を提供することを目的とするものである。
たものであって、比較的短時間でしかも高精度に微細加
工溝を形成するようにしたヘッド用スライダの表面加工
方法を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気ヘッド、
光磁気ヘッド等のマイクロスライダのエアベアリング面
上に薄い幅の噴口を有する矩形ノズルから微細砥粒を含
む固気２相流を高速噴射させ、微細砥粒の衝撃エネルギ
によってエアベアリング面に高精度の溝を微細加工する
ものである。
光磁気ヘッド等のマイクロスライダのエアベアリング面
上に薄い幅の噴口を有する矩形ノズルから微細砥粒を含
む固気２相流を高速噴射させ、微細砥粒の衝撃エネルギ
によってエアベアリング面に高精度の溝を微細加工する
ものである。
【０００７】矩形ノズルの噴口の幅は微細加工溝の幅よ
りも小さな値になっており、これに対してノズルの噴口
の長さは加工溝の長さよりも長くなっており、このノズ
ルを微細加工溝の幅方向に相対的に移動させながらその
噴口から微細砥粒をガスとともに高速噴射させ、微細砥
粒の衝撃エネルギによってスライダのエアベアリング面
に高精度の溝を微細加工するものである。
りも小さな値になっており、これに対してノズルの噴口
の長さは加工溝の長さよりも長くなっており、このノズ
ルを微細加工溝の幅方向に相対的に移動させながらその
噴口から微細砥粒をガスとともに高速噴射させ、微細砥
粒の衝撃エネルギによってスライダのエアベアリング面
に高精度の溝を微細加工するものである。
【０００８】このような加工の際に、スライダのエアベ
アリング面上に微細加工溝を形成するとともに、その表
面のブレンド加工を行なうことが好ましい。
アリング面上に微細加工溝を形成するとともに、その表
面のブレンド加工を行なうことが好ましい。
【０００９】スライダを構成する材料が例えばＡｌ２
Ｏ３ ＴｉＣ等のようなセラミックの難削材の場合には
、上記ノズルからガスとともに噴射される遊離砥粒の微
粒子は、ＳｉＣ、Ｂ４ Ｃ、ＣＢＮ、ダイヤモンド粉等
の砥粒であってよい。そしてその粒径は１〜５μｍ程度
の値であってよく、このような遊離砥粒をガスとともに
固気２相流としてノズルから噴射することによって、溝
加工をするものである。
Ｏ３ ＴｉＣ等のようなセラミックの難削材の場合には
、上記ノズルからガスとともに噴射される遊離砥粒の微
粒子は、ＳｉＣ、Ｂ４ Ｃ、ＣＢＮ、ダイヤモンド粉等
の砥粒であってよい。そしてその粒径は１〜５μｍ程度
の値であってよく、このような遊離砥粒をガスとともに
固気２相流としてノズルから噴射することによって、溝
加工をするものである。
【００１０】スライダの表面が平面である場合には、微
細加工溝も上記平面に沿った平坦な深さの溝を形成する
。これに対してスライダの表面の傾斜面の部分にはこの
傾斜面に沿った傾斜した一定の深さの溝を形成する。 すなわち平面状をなすエアベアリング面から傾斜面をな
すエアベアリング面に沿って連続溝を微細加工すること
になる。
細加工溝も上記平面に沿った平坦な深さの溝を形成する
。これに対してスライダの表面の傾斜面の部分にはこの
傾斜面に沿った傾斜した一定の深さの溝を形成する。 すなわち平面状をなすエアベアリング面から傾斜面をな
すエアベアリング面に沿って連続溝を微細加工すること
になる。
【００１１】
【作用】噴射ノズルの矩形の噴射口と、遊離砥粒を構成
する微粒子を含む固気２相流の性質によって、スライダ
のエアベアリング面に微細加工溝を形成することができ
る。とくにマイクロスライダにおいて、一定の浮上高さ
を達成するための微細加工溝は複雑であって高精度な加
工技術が必要だが、上述のような性質によって、フラッ
トなエアベアリング面から傾斜するエアベアリング面に
かけて効率よくしかも簡単に微細加工溝を形成すること
ができる。
する微粒子を含む固気２相流の性質によって、スライダ
のエアベアリング面に微細加工溝を形成することができ
る。とくにマイクロスライダにおいて、一定の浮上高さ
を達成するための微細加工溝は複雑であって高精度な加
工技術が必要だが、上述のような性質によって、フラッ
トなエアベアリング面から傾斜するエアベアリング面に
かけて効率よくしかも簡単に微細加工溝を形成すること
ができる。
【００１２】
【実施例】図１〜図４は本発明の第１の実施例を示して
いる。この実施例においては、フライングヘッド用のマ
イクロスライダ１０に微細加工溝を加工するようにして
いる。マイクロスライダ１０はＡｌ２ Ｏ３ ＴｉＣを
用いて製作されており、その大きさは２ｍｍ×２．５ｍ
ｍの寸法になっている。このような材料はセラミックス
の中では最も加工が困難な難削材に属し、その微細加工
は非常に難しいものである。
いる。この実施例においては、フライングヘッド用のマ
イクロスライダ１０に微細加工溝を加工するようにして
いる。マイクロスライダ１０はＡｌ２ Ｏ３ ＴｉＣを
用いて製作されており、その大きさは２ｍｍ×２．５ｍ
ｍの寸法になっている。このような材料はセラミックス
の中では最も加工が困難な難削材に属し、その微細加工
は非常に難しいものである。
【００１３】マイクロスライダ１０は双胴タイプで、中
央に溝１１を有するとともに、その両側に突条１２が形
成されている。そして突条１２はその上面が平面になさ
れており、しかもその両端には傾斜面１３、１４が形成
されている。突条１３の中央の平坦面から両端の傾斜面
１３、１４にかけて、エアベアリング面を形成しており
、ハードディスクとの間に形成されるエアベアリングに
よってフライングヘッドを構成するようになっている。
央に溝１１を有するとともに、その両側に突条１２が形
成されている。そして突条１２はその上面が平面になさ
れており、しかもその両端には傾斜面１３、１４が形成
されている。突条１３の中央の平坦面から両端の傾斜面
１３、１４にかけて、エアベアリング面を形成しており
、ハードディスクとの間に形成されるエアベアリングに
よってフライングヘッドを構成するようになっている。
【００１４】しかもこのようなマイクロスライダ１０は
ハードディスクに対して一定の浮上高さ、すなわちコン
スタントフライングハイトを達成するために、突条１２
の上面に微細加工溝１５を形成するようにしている。こ
のような微細加工溝１５はその両端が突条１２の傾斜面
１３、１４に対応する傾斜溝１６、１７から構成される
ようになっている。しかも微細加工溝１５は突条１２の
片側にそれぞれ形成されるようになっている。
ハードディスクに対して一定の浮上高さ、すなわちコン
スタントフライングハイトを達成するために、突条１２
の上面に微細加工溝１５を形成するようにしている。こ
のような微細加工溝１５はその両端が突条１２の傾斜面
１３、１４に対応する傾斜溝１６、１７から構成される
ようになっている。しかも微細加工溝１５は突条１２の
片側にそれぞれ形成されるようになっている。
【００１５】微細加工溝１５の幅は例えば０．３ｍｍで
あって、その深さは例えば２〜３μｍである。また微細
加工溝１５はマイクロスライダ１０の突条１２の全長に
及ぶように形成される。すなわち突条１２の両側の傾斜
面１３、１４に対応し、傾斜溝１６、１７を含む微細加
工溝１５が連続した状態で形成されるようになっている
。
あって、その深さは例えば２〜３μｍである。また微細
加工溝１５はマイクロスライダ１０の突条１２の全長に
及ぶように形成される。すなわち突条１２の両側の傾斜
面１３、１４に対応し、傾斜溝１６、１７を含む微細加
工溝１５が連続した状態で形成されるようになっている
。
【００１６】図３および図４はこのような微細加工溝１
５を遊離砥粒とガスとの固気２相流の噴射によって形成
する状態を示しており、長さがＡであって幅がＢの噴口
２１を有する噴射ノズル２０をマイクロスライダ１０の
上部に配置する。なお噴口２１の先端部とスライダ１０
の表面との間の間隔は１〜１０ｍｍとする。そしてノズ
ル２０の噴口２１からＳｉＣ等の微粒子を含む固気２相
混合流を固気２相噴流として突条１２の所定の位置に４
０ｍ／ｓｅｃ以上の速さで高速噴射させる。このような
高速噴射流によって的確にマイクロスライダ１０の突条
１２の片側のエッジの部分に微細加工溝１５を形成する
ためには、つぎのような条件が必要になる。すなわちマ
イクロスライダ１０に形成される微細加工溝１５の幅ｂ
を噴射ノズル２０の噴口２１の幅Ｂよりも大きな値に設
定する。またマイクロスライダ１０の突条１２の長さａ
を噴射ノズル２０の噴口２１の長さＡよりも小さな値に
設定する。
５を遊離砥粒とガスとの固気２相流の噴射によって形成
する状態を示しており、長さがＡであって幅がＢの噴口
２１を有する噴射ノズル２０をマイクロスライダ１０の
上部に配置する。なお噴口２１の先端部とスライダ１０
の表面との間の間隔は１〜１０ｍｍとする。そしてノズ
ル２０の噴口２１からＳｉＣ等の微粒子を含む固気２相
混合流を固気２相噴流として突条１２の所定の位置に４
０ｍ／ｓｅｃ以上の速さで高速噴射させる。このような
高速噴射流によって的確にマイクロスライダ１０の突条
１２の片側のエッジの部分に微細加工溝１５を形成する
ためには、つぎのような条件が必要になる。すなわちマ
イクロスライダ１０に形成される微細加工溝１５の幅ｂ
を噴射ノズル２０の噴口２１の幅Ｂよりも大きな値に設
定する。またマイクロスライダ１０の突条１２の長さａ
を噴射ノズル２０の噴口２１の長さＡよりも小さな値に
設定する。
【００１７】このような条件を与えることによって、Ａ
ｌ２ Ｏ３ＴｉＣのような難削材から成る材料によって
作られたマイクロスライダ１０であっても、その表面に
微細加工溝１５が約０．３ｍｍの幅でしかも深さが２〜
３μｍの値で形成される。すなわち従来の機械加工では
不可能であった溝加工が簡単に行なわれるようになる。 またこのような固気２相流による加工は、高い能率を有
している。すなわちイオンビーム加工においては、０．
００６μｍ／ｍｉｎであるのに対して、本実施例の方法
によると、６００μｍ／ｍｉｎの加工速度が得られる。
ｌ２ Ｏ３ＴｉＣのような難削材から成る材料によって
作られたマイクロスライダ１０であっても、その表面に
微細加工溝１５が約０．３ｍｍの幅でしかも深さが２〜
３μｍの値で形成される。すなわち従来の機械加工では
不可能であった溝加工が簡単に行なわれるようになる。 またこのような固気２相流による加工は、高い能率を有
している。すなわちイオンビーム加工においては、０．
００６μｍ／ｍｉｎであるのに対して、本実施例の方法
によると、６００μｍ／ｍｉｎの加工速度が得られる。
【００１８】上述の如く噴射ノズル２０の噴口２１の幅
Ｂは微細加工溝１５の幅ｂよりも小さな値に設定されて
いるために、ノズル２０によって微細加工溝１５を形成
する場合には、ノズル２０を固定してマイクロスライダ
１０を微細加工溝１５の幅方向に移動させる。逆にノズ
ル２０をスライダ１０に対して微細加工溝１５の幅方向
に移動させてもよい。なおそのために高精度の位置決め
機構が利用される。
Ｂは微細加工溝１５の幅ｂよりも小さな値に設定されて
いるために、ノズル２０によって微細加工溝１５を形成
する場合には、ノズル２０を固定してマイクロスライダ
１０を微細加工溝１５の幅方向に移動させる。逆にノズ
ル２０をスライダ１０に対して微細加工溝１５の幅方向
に移動させてもよい。なおそのために高精度の位置決め
機構が利用される。
【００１９】図５〜図８は第２の実施例を示している。
この実施例も双胴型のマイクロスライダ１０に関するも
のである。そしてこのスライダ１０においては、両側の
突条１２がそれぞれそれらの両側に微細加工溝１５を有
するように溝加工を施すようにしたものである。
のである。そしてこのスライダ１０においては、両側の
突条１２がそれぞれそれらの両側に微細加工溝１５を有
するように溝加工を施すようにしたものである。
【００２０】従ってこの実施例によれば、マイクロスラ
イダは両側の突条１２の両側にそれぞれ微細加工溝１５
を有し、１つのスライダ１０に４本の微細加工溝が形成
されることになる。これらの溝１５の加工は図７および
図８に示す噴射ノズル２０によって行なわれる。ノズル
２０による砥粒加工は上記第１の実施例と同様の方法で
行なう。そして微細加工溝１５はその両端に傾斜溝１６
、１７をそれぞれ備えており、突条１２の両端の傾斜面
１３、１４に対応している。すなわち突条１２の平坦面
および両端の傾斜面１３、１４に沿った連続した微細加
工溝１５が１度にかつ簡単に形成されることになる。
イダは両側の突条１２の両側にそれぞれ微細加工溝１５
を有し、１つのスライダ１０に４本の微細加工溝が形成
されることになる。これらの溝１５の加工は図７および
図８に示す噴射ノズル２０によって行なわれる。ノズル
２０による砥粒加工は上記第１の実施例と同様の方法で
行なう。そして微細加工溝１５はその両端に傾斜溝１６
、１７をそれぞれ備えており、突条１２の両端の傾斜面
１３、１４に対応している。すなわち突条１２の平坦面
および両端の傾斜面１３、１４に沿った連続した微細加
工溝１５が１度にかつ簡単に形成されることになる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明は、スライダの全長
よりも長くかつ微細加工溝よりも狭い矩形の噴射口を有
するノズルによって遊離砥粒とガスとの固気２相流を噴
射し、ノズルをスライダに対して微細加工溝の幅方向に
相対的に移動させながら加工を行なって微細加工溝を形
成するようにしたものである。従ってヘッド用スライダ
の表面に高能率でしかも高精度な微細加工溝を形成する
ことが可能になる。
よりも長くかつ微細加工溝よりも狭い矩形の噴射口を有
するノズルによって遊離砥粒とガスとの固気２相流を噴
射し、ノズルをスライダに対して微細加工溝の幅方向に
相対的に移動させながら加工を行なって微細加工溝を形
成するようにしたものである。従ってヘッド用スライダ
の表面に高能率でしかも高精度な微細加工溝を形成する
ことが可能になる。
【図１】第１の実施例の方法によって製作されたマイク
ロスライダの外観斜視図である。
ロスライダの外観斜視図である。
【図２】同マイクロスライダの平面図である。
【図３】マイクロスライダの微細加工溝の形成を示す要
部断面図である。
部断面図である。
【図４】
【図３】におけるＩＶ〜ＩＶ線断面図である。
【図５】第２の実施例の方法によって作られたヘッド用
スライダの外観斜視図である。
スライダの外観斜視図である。
【図６】同ヘッド用スライダの平面図である。
【図７】同ヘッド用スライダの溝加工を示す断面図であ
る。
る。
【図８】
【図７】におけるＩＩＸ〜ＩＩＸ線断面図である。
１０ マイクロスライダ
１１ 溝
１２ 突条
１３ 傾斜面
１４ 傾斜面
１５ 微細加工溝
１６ 傾斜溝
１７ 傾斜溝
２０ 噴射ノズル
２１ 噴口
Claims (1)
- 【請求項１】 ヘッド用スライダのエアベアリング面
の幅方向の片側または両側に微細加工溝を前記スライダ
の全長にわたって形成する方法において、前記スライダ
の全長よりも長くかつ前記微細加工溝よりも幅の狭い矩
形の噴射口を有するノズルによって遊離砥粒とガスとの
固気２相流を噴射し、前記ノズルを前記スライダに対し
て前記微細加工溝の幅方向に相対的に移動させながら加
工を行なって前記微細加工溝を形成するようにしたこと
を特徴とする磁気ヘッド用スライダの表面加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294991A JPH04259971A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | ヘッド用スライダの表面加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294991A JPH04259971A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | ヘッド用スライダの表面加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04259971A true JPH04259971A (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12650272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4294991A Pending JPH04259971A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | ヘッド用スライダの表面加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04259971A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07169034A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-07-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | スライダの製造方法 |
-
1991
- 1991-02-15 JP JP4294991A patent/JPH04259971A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07169034A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-07-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | スライダの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5266769A (en) | Process for independent control of crown and camber for magnetic head slider | |
| US5722156A (en) | Method for processing ceramic wafers comprising plural magnetic head forming units | |
| US5748408A (en) | Flight slider for magnetic recording | |
| EP0558983B1 (en) | Tripad air bearing magnetic head slider | |
| US5156704A (en) | Method for fabricating magnetic head air bearing sliders | |
| US4785161A (en) | Laser machining for producing very small parts | |
| US4279102A (en) | Method of manufacturing narrow track ferrite head cores | |
| JPH04259971A (ja) | ヘッド用スライダの表面加工方法 | |
| KR100275055B1 (ko) | 유리 입자를 이용한 가공방법 | |
| US5298113A (en) | Method of producing magnetic head core having magnetic gap and narrow track | |
| JPH0773425A (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置の製造方法 | |
| US6242709B1 (en) | Method for manufacturing conductive wafers, method for manufacturing thin-plate sintered compacts, method for manufacturing ceramic substrates for thin-film magnetic head, and method for machining conductive wafers | |
| JPH02205401A (ja) | 微細溝加工方法 | |
| JPH0639702A (ja) | 切断方法及び砥石車アセンブリ | |
| JPS5818688B2 (ja) | 磁気ディスク用マルチヘッドコアスライダの製造法 | |
| EP0617413A2 (en) | Magnetic head sliders and a process for producing the same | |
| JPH06111508A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0340278A (ja) | 浮動式磁気ヘッド | |
| JPH0668632A (ja) | 浮動ヘッドスライダ | |
| JPS6240604A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0592365A (ja) | 超砥粒砥石の修正方法 | |
| JPS62124684A (ja) | ヘツドスライダ | |
| JPH06162431A (ja) | 積層型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0487016A (ja) | 浮動型磁気ヘッドスライダーおよびその製造方法 | |
| JPS59142776A (ja) | 負圧スライダおよびその製造方法 |