JPH042613B2 - - Google Patents
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- JPH042613B2 JPH042613B2 JP63061775A JP6177588A JPH042613B2 JP H042613 B2 JPH042613 B2 JP H042613B2 JP 63061775 A JP63061775 A JP 63061775A JP 6177588 A JP6177588 A JP 6177588A JP H042613 B2 JPH042613 B2 JP H042613B2
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- liquid crystal
- crystal polymer
- acid
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Description
（産業上の利用分野）
本発明はサーモトロピツク液晶ポリマー成形物
の付着性向上方法に関するものである。 （従来技術） サーモトロピツク液晶ポリマーは、耐熱性、耐
薬品性、低線膨張率、高弾性、高強度、自消性等
の優れた性質を有し、電子部品、IC封止材料、
光フアイバーの被覆材、化学装置の部品、自動車
関連部品、電子レンジ用容器、VTR部品、等へ
の応用が考えられ、一部既に実用化されている
が、表面が不活性であるため成形物表面への塗
装、印刷、接着、メツキ、金属蒸着等が困難であ
る。 従来、プラスチツク成形物の表面への塗装、印
刷、接着等を行う場合には前処理が必要であり、
これらの方法としてサンドブラスト処理、溶剤処
理、クロム酸混液処理、コロナ放電処理、プラズ
マ処理などが提案されているが、いずれの方法も
このサーモトロピツク液晶ポリマーに対して満足
がいく方法ではない。 例えば、サンドブラスト処理は、粒状研磨材を
高速度で素材に衝突させ粗面化する方法であり、
粒状研磨材により作業環境や製品が汚れ効果が不
十分である。 また溶剤処理は、成形物を有機溶剤蒸気中に置
き成形物表面をエツチングする方法でルあるが、
サーモトロピツク液晶ポリマーに対して十分な効
果をあげる有機溶剤がない。クロム酸混液処理
は、処理廃液の無害化に要する負担が大きいなど
の問題がある。 更にコロナ放電処理は、フイルム状以外の物の
処理は出来ず、プラズマ処理は、処理設備に要す
る費用が大きい等の難点がある。 （発明の目的） 本発明は、サーモトロピツク液晶ポリマー成形
物の表面処理に見られる前記欠点を克服すること
を目的とする。 （発明の構成） 本発明は、全芳香族ポリエステル系サーモトロ
ピツク液晶ポリマー成形物の表面に合成石英ラン
プを用いて1849Åを主な作用波長とする紫外線を
照射することを特徴とする液晶ポリマー成形物の
付着性向上方法である。 本発明において成形物の付着性向上方法とは成
形物表面に塗装、印刷、接着、メツキ、金属蒸着
等の手段で何らかの被付着体を付着させる際の付
着性を向上させる方法を意味する。 本発明で言うサーモトロピツク液晶ポリマーと
は、溶融時に光学的異方性を示す熱可塑性溶融可
能な全芳香族ポリエステルである。このような溶
融時に光学的異方性を示すポリマーは、溶融状態
でポリマー分子鎖が規則的な並行配列をとる性質
を有している。光学的異方性溶融相の性質は、直
交偏光子を利用した通常の偏光検査法より確認で
きる。 サーモトロピツク液晶ポリマーは、一般に細長
く、偏平で、分子の長鎖に沿つて剛性が高く同軸
または並行のいずれかの関係にある複数の連鎖伸
長結合を有しているようなモノマーから製造され
る。 上記のように光学的異方性溶融相を形成するポ
リマーの構成成分としては (A) 芳香族ジカルボン酸系化合物の少なくとも１
種、 (B) 芳香族ヒドロキシカルボン酸系化合物の少な
くとも１種、 (C) 芳香族ジオール系化合物の少なくとも１種、 (D) 芳香族ジオール、芳香族チオフエノール、芳
香族チオールカルボン酸系化合物の少なくとも
１種、 (E) 芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン化
合物の少なくとも１種等があげられる。これ等
は単独で構成される場合もあるが、多くは(A)と
(C)、(A)と(D)、(A)(B)と(C)、(A)(B)と(E)、あるいは(
A)
(B)(C)と(E)等の様に組合せて構成される。 上記 (A1) 芳香族ジカルボン酸系化合物としては、テ
レフタル酸、４，4′−ジフエニルジカルボン
酸、４，4′−トリフエニルジカルボン酸、
２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフエニ
ルエーテル−４，4′−ジカルボン酸、ジフエ
ノキシエタン−４，4′−ジカルボン酸、ジフ
エノキシブタン−４，4′−ジカルボン酸、ジ
フエニルエタン−４，4′−ジカルボン酸、イ
ソフタル酸、ジフエニルエーテル−３，3′−
ジカルボン酸、ジフエノキシエタン−３，
3′−ジカルボン酸、ジフエニルエタン−３，
3′−ジカルボン酸、ナフタレン−１，６−ジ
カルボン酸のごとき芳香族ジカルボン酸また
はクロロテレフタル酸、ジクロロテレフタル
酸、ブロモテレフタル酸、メチルテレフタル
酸、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタ
ル酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレ
フタル酸のアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン置換体等が挙げられる。 (B) 芳香族ヒドロキシカルボン酸系化合物として
は、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ
安息香酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、
６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸等の芳香族ヒ
ドロキシカルボン酸または３−メチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、３−メトキシ−４−ヒドロ
キシ安息香酸、３，５−ジメトキシ−４−ヒド
ロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−５−メチル
−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−５−メトキシ
−ナフトエ酸、２−クロロ−４−ヒドロキシ安
息香酸、３−クロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、２，３−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、２，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、３−ブロモ−４−ヒドロキシ安息香酸、６
−ヒドロキシ−５−クロロ−２−ナフトエ酸、
６−ヒドロキシ−７−クロロ−２−ナフトエ
酸、６−ヒドロキシ−５，７−ジクロロ−２−
ナフトエ酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸の
アルキル、アルコキシまたはハロゲン置換体等
が挙げられる。 (C1) 芳香族ジオールとしては、４，4′−ジヒド
ロキシジフエニル、３，3′−ジヒドロキシジ
フエニル、４，4′−ジヒドロキシトリフエニ
ル、ハイドロキノン、レゾルシン、２，６−
ナフタレンジオール、４，4′−ジヒドロキシ
ジフエニルエーテル、ビス（４−ヒドロキシ
フエノキシ）エタン、３，3′−ジヒドロキシ
ジフエニルエーテル、１，６−ナフタレンジ
オール、２，2′−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン、２，2′−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）メタン等の芳香族ジオールま
たはクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、１−ブチルハイドロキノン、フエニ
ルハイドロキノン、メトキシハイドロキノ
ン、フエノキシハイドロキノン、４−クロロ
レゾルシン、４−メチルレゾルシン等の芳香
族ジオールのアルキル、アルコキシまたはハ
ロゲン置換体等が挙げられる。 (D1) 芳香族ジオールとしては、ベンゼン１，４
−ジチオール、ベンゼン−１，３−ジチオー
ル、２，６−ナフタレン−ジチオール、２，
７−ナフタレン−ジチオール等が挙げられ
る。 (D2) 芳香族メルカプトカルボン酸としては、４
−メルカプト安息香酸、３−メルカプト安息
香酸、６−メルカプト−２−ナフトエ酸、７
−メルカプト−２−ナフトエ酸等が挙げられ
る。 (D3) 芳香族メルカプトフエノールとしては、４
−メルカプトフエノール、３−メルカプトフ
エノール、６−メルカプトフエノール、７−
メルカプトフエノール等が挙げられる。 (E) 芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン系
化合物としては、４−アミノフエノール、Ｎ−
メチル−４−アミノフエノール、１，４−フエ
ニレンジアミン、Ｎ−メチル−１，４−フエニ
レンジアミン、Ｎ，N′−ジメチル−１，４−
フエニレンジアミン、３−アミノフエノール、
３−メチル−４−アミノフエノール、２−クロ
ロ−４−アミノフエノール、４−アミノ−１−
ナフトール、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフ
エニル、４−アミノ−4′−ヒドロキシフエニル
エーテル、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフエ
ニルメタン、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフ
エニルスルフイド、４，4′−ジアミノフエニル
スルフイド（チオジアニリン）、４，4′−ジア
ミノジフエニルスルホン酸、２，５−ジアミノ
トルエン、４，4′−エチレンジアニリン、４，
4′−ジアミノジフエノキシエタン、４，4′−ジ
アミノジフエニルメタン（メチレンジアニリ
ン）、４，4′−ジアミノジフエニルエーテル
（オキシジアニリン）等が挙げられる。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
へ上記化合物を溶融アシドリシス法やスラリー重
合法等の多様なエステル形成法により製造するこ
とが出来る。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
には、一つの高分子鎖の一部が異方性溶融相を形
成するポリマーのセグメントで構成され、残りの
部分が異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂の
セグメントから構成されるポリマーも含まれる。
また、複数のサーモトロピツク液晶ポリマーを複
合したものも含まれる。 これらのサーモトロピツク液晶ポリマーの中、
好ましくは、少なくとも一般式 で表わされるモノマー単位を含む（共）重合体で
あつて、具体的には 等があり、特に耐熱性、耐薬品性、低線膨張率等
の優れた性質を保有し、塗料、印刷等が困難な全
芳香族ポリエステルについても効果的に表面活性
化が可能である。 本発明では、上記のごとき液晶ポリマーの成形
物の表面に紫外線を照射する。この場合成形物
は、型物、フイルム、シート、板状体、パイプ、
繊維等の各種形状の成形品である。 該液晶ポリマー成形物の表面に照射する紫外線
は、1849Åを主な作用波長とする紫外線である。
この紫外線は、高純度の合成石英ランプの光源よ
り得られる。 本発明では、紫外線を照射する前に紫外線吸収
性溶剤で表面を処理することが好ましい。 紫外線吸収性溶剤は、その溶剤自体が分子内に
紫外線吸収構造を持つものでも、紫外線吸収性を
持つ添加物を溶剤に溶解させたものでもよい。 前者の具体例としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族系溶剤、四塩化炭素、テトラ
クロロエチレン、トリクロロエチレン、トリクロ
ロトリフロロエチレン等のハロゲン化炭素系溶
剤、アクリル酸エステル等のエステル系溶剤等が
あり、後者の例としては、アセトフエノン系誘導
体、ベンゾフエノン系誘導体、ベンゾイン系誘導
体、スルフイド系誘導体、ジアゾニウム塩系誘導
体等の光増感剤を溶解した芳香族系溶剤、ハロゲ
ン化炭化水素系溶剤、エステル系溶剤等がある。 本発明では、液晶ポリマーの成形物を予め加熱
して照射ても良いし、紫外線吸収性有機溶剤で処
理する場合にも、液晶ポリマーの成形物を予め加
熱しておくことが好ましい。加熱温度は、30℃以
上、好ましくは50℃異常で、かつ融点以下で行わ
れる。 処理時間は、20分以内好ましくは５秒〜５分で
ある。成形物と光源との距離は近いほうが好まし
く、通常１〜100cmの範囲で行われる。 また、本発明では、液晶ポリマーの成形物を予
め加熱して有機溶剤と接触させることもできるが
溶剤の加熱は蒸気の発性を伴うので、火災や人体
に対する危険性があるため注意を要する。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
中に、種々の添加物を配合することが出来る。こ
れには、無機充填剤、有機充填剤、安定剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、他のポリマ
ー、改質剤等が挙げられる。このうち特に無機充
填剤が重要で、加工性、物性等の改良の為にしば
しば用いられる。無機充填剤としては、タルク、
マイカ、クレー、セリサイト、炭酸カルシユウ
ム、珪酸カルシユウム、シリカ、アルミナ、水酸
化アルミニウム、水酸化マグネシユウム、黒鉛、
チタンサンカリ、ガラス繊維、炭素繊維、各種ウ
イスカー等がある。 （発明の効果） 本発明によれば、サーモトロピツク液晶ポリマ
ー成形物の表面が高活性化され、塗装、印刷、接
着、金属蒸着等の表面加工に適したものとなる。 本発明により生じた特有の効果は次のようなも
のである。 (1) 本発明による処理をほどこしたものは、表面
に付着した塗膜、印刷膜等の均一性がよいこと
から、美麗であり、また、その膜の成形体に対
する付着は強固である。 (2) 処理の方法が複雑な化学操作を用いる方法で
はなく、処理後の水洗、下塗などの工程がない
ため、操作が簡便で、短い処理時間で済む。 (3) 紫外線照射装置は低価格なので、設備費が安
価である。 (4) コロナ放電処理と違い、フイルム状以外の物
でも処理できる。 (5) 1849Åの光を主な作用波長とするため処理時
間が短い。 （実施例） 本発明を実施例により、更に詳細に説明する。 実施例 １ テレフタル酸、４−ヒドロキシ安息香酸、及び
４，4′−ジヒドロキシジフエニルよりなるサーモ
トロピツク液晶ポリマーであるザイダー（日本石
油化学(株)の商品名）SRT−300の射出成形体にた
いし、1849Åを主な作用波長として有する合成石
英ガラス製ランプの紫外線を、50mmの距離から５
分間照射した。 この板に、アクリル系樹脂塗料（アクリル酸エ
ステルが主成分、分散媒体はケトン系溶剤）を用
い、処理後30分経過した後に吹き付け塗装した。 塗膜を空気雰囲気中に於て約24時間乾燥させた
後に付着性を調べた。塗膜に２mm幅のクロスカツ
トを縦横11本づつ入れ、セロハンテープ（三菱ユ
ニセロハンテープ18）を塗膜の上に圧着し、引き
剥がした後の残存目数の割合により付着性（残存
目数／元の目数×100）を表わした。結果を表１
に示す。 実施例 ２ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC110（ガラス繊維40％を含む）を使用する以外
は実施例１と同じ方法で行つた。結果を表１に示
す。 実施例 ３ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC130（タルク50％を含む）を使用する以外は実
施例１と同じ方法で行つた。結果を表１に示す。 実施例 ４ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC110を使用した成形体を60℃に加熱し、四塩化
炭素とテトラクロルエチレンの50：50（容積比）
混合液に５分間浸漬し、５分間乾燥後、実施例例
１と同じ方法で紫外線照射しその後の評価を行つ
た。結果を表１に示す。 実施例 ５ 紫外線照射時間を１分間とした以外は実施例４
と同じ方法で紫外線照射しその後の評価を行つ
た。結果を表１に示す。 実施例 ６ 実施例４のザイダーFC110の代わりに４−ヒド
ロキシ安息香酸、６−ハイドロキシ−２−ナフト
エ酸、テレフタル酸とからなるサーモトロピツク
液晶ポリマーであるベクトラA130（ガラス繊維30
％入り、ポリプラスチツク社製）を使用して、実
施例１と同様に行い、その結果を表１に示した。 実施例 ７ 実施例６のベクトラの代わりに４−ヒドロキシ
安息香酸、ポリエチレンテレフタレートからなる
サーモトロピツク液晶ポリマーであるロツドラン
LC2000（ユニチカ社製）を使用し、実施例６と同
様に評価し、その結果を表１に示した。 比較例 １ 紫外線照射を行わない以外は実施例２と同じ方
法で行つた。結果を表１に示す。 比較例 ２ 紫外線照射を行わない以外は実施例４と同じ方
法で行つた。結果を表１に示す。
の付着性向上方法に関するものである。 （従来技術） サーモトロピツク液晶ポリマーは、耐熱性、耐
薬品性、低線膨張率、高弾性、高強度、自消性等
の優れた性質を有し、電子部品、IC封止材料、
光フアイバーの被覆材、化学装置の部品、自動車
関連部品、電子レンジ用容器、VTR部品、等へ
の応用が考えられ、一部既に実用化されている
が、表面が不活性であるため成形物表面への塗
装、印刷、接着、メツキ、金属蒸着等が困難であ
る。 従来、プラスチツク成形物の表面への塗装、印
刷、接着等を行う場合には前処理が必要であり、
これらの方法としてサンドブラスト処理、溶剤処
理、クロム酸混液処理、コロナ放電処理、プラズ
マ処理などが提案されているが、いずれの方法も
このサーモトロピツク液晶ポリマーに対して満足
がいく方法ではない。 例えば、サンドブラスト処理は、粒状研磨材を
高速度で素材に衝突させ粗面化する方法であり、
粒状研磨材により作業環境や製品が汚れ効果が不
十分である。 また溶剤処理は、成形物を有機溶剤蒸気中に置
き成形物表面をエツチングする方法でルあるが、
サーモトロピツク液晶ポリマーに対して十分な効
果をあげる有機溶剤がない。クロム酸混液処理
は、処理廃液の無害化に要する負担が大きいなど
の問題がある。 更にコロナ放電処理は、フイルム状以外の物の
処理は出来ず、プラズマ処理は、処理設備に要す
る費用が大きい等の難点がある。 （発明の目的） 本発明は、サーモトロピツク液晶ポリマー成形
物の表面処理に見られる前記欠点を克服すること
を目的とする。 （発明の構成） 本発明は、全芳香族ポリエステル系サーモトロ
ピツク液晶ポリマー成形物の表面に合成石英ラン
プを用いて1849Åを主な作用波長とする紫外線を
照射することを特徴とする液晶ポリマー成形物の
付着性向上方法である。 本発明において成形物の付着性向上方法とは成
形物表面に塗装、印刷、接着、メツキ、金属蒸着
等の手段で何らかの被付着体を付着させる際の付
着性を向上させる方法を意味する。 本発明で言うサーモトロピツク液晶ポリマーと
は、溶融時に光学的異方性を示す熱可塑性溶融可
能な全芳香族ポリエステルである。このような溶
融時に光学的異方性を示すポリマーは、溶融状態
でポリマー分子鎖が規則的な並行配列をとる性質
を有している。光学的異方性溶融相の性質は、直
交偏光子を利用した通常の偏光検査法より確認で
きる。 サーモトロピツク液晶ポリマーは、一般に細長
く、偏平で、分子の長鎖に沿つて剛性が高く同軸
または並行のいずれかの関係にある複数の連鎖伸
長結合を有しているようなモノマーから製造され
る。 上記のように光学的異方性溶融相を形成するポ
リマーの構成成分としては (A) 芳香族ジカルボン酸系化合物の少なくとも１
種、 (B) 芳香族ヒドロキシカルボン酸系化合物の少な
くとも１種、 (C) 芳香族ジオール系化合物の少なくとも１種、 (D) 芳香族ジオール、芳香族チオフエノール、芳
香族チオールカルボン酸系化合物の少なくとも
１種、 (E) 芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン化
合物の少なくとも１種等があげられる。これ等
は単独で構成される場合もあるが、多くは(A)と
(C)、(A)と(D)、(A)(B)と(C)、(A)(B)と(E)、あるいは(
A)
(B)(C)と(E)等の様に組合せて構成される。 上記 (A1) 芳香族ジカルボン酸系化合物としては、テ
レフタル酸、４，4′−ジフエニルジカルボン
酸、４，4′−トリフエニルジカルボン酸、
２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフエニ
ルエーテル−４，4′−ジカルボン酸、ジフエ
ノキシエタン−４，4′−ジカルボン酸、ジフ
エノキシブタン−４，4′−ジカルボン酸、ジ
フエニルエタン−４，4′−ジカルボン酸、イ
ソフタル酸、ジフエニルエーテル−３，3′−
ジカルボン酸、ジフエノキシエタン−３，
3′−ジカルボン酸、ジフエニルエタン−３，
3′−ジカルボン酸、ナフタレン−１，６−ジ
カルボン酸のごとき芳香族ジカルボン酸また
はクロロテレフタル酸、ジクロロテレフタル
酸、ブロモテレフタル酸、メチルテレフタル
酸、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタ
ル酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレ
フタル酸のアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン置換体等が挙げられる。 (B) 芳香族ヒドロキシカルボン酸系化合物として
は、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ
安息香酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、
６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸等の芳香族ヒ
ドロキシカルボン酸または３−メチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸、３−メトキシ−４−ヒドロ
キシ安息香酸、３，５−ジメトキシ−４−ヒド
ロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−５−メチル
−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−５−メトキシ
−ナフトエ酸、２−クロロ−４−ヒドロキシ安
息香酸、３−クロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、２，３−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、２，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、３−ブロモ−４−ヒドロキシ安息香酸、６
−ヒドロキシ−５−クロロ−２−ナフトエ酸、
６−ヒドロキシ−７−クロロ−２−ナフトエ
酸、６−ヒドロキシ−５，７−ジクロロ−２−
ナフトエ酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸の
アルキル、アルコキシまたはハロゲン置換体等
が挙げられる。 (C1) 芳香族ジオールとしては、４，4′−ジヒド
ロキシジフエニル、３，3′−ジヒドロキシジ
フエニル、４，4′−ジヒドロキシトリフエニ
ル、ハイドロキノン、レゾルシン、２，６−
ナフタレンジオール、４，4′−ジヒドロキシ
ジフエニルエーテル、ビス（４−ヒドロキシ
フエノキシ）エタン、３，3′−ジヒドロキシ
ジフエニルエーテル、１，６−ナフタレンジ
オール、２，2′−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン、２，2′−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）メタン等の芳香族ジオールま
たはクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、１−ブチルハイドロキノン、フエニ
ルハイドロキノン、メトキシハイドロキノ
ン、フエノキシハイドロキノン、４−クロロ
レゾルシン、４−メチルレゾルシン等の芳香
族ジオールのアルキル、アルコキシまたはハ
ロゲン置換体等が挙げられる。 (D1) 芳香族ジオールとしては、ベンゼン１，４
−ジチオール、ベンゼン−１，３−ジチオー
ル、２，６−ナフタレン−ジチオール、２，
７−ナフタレン−ジチオール等が挙げられ
る。 (D2) 芳香族メルカプトカルボン酸としては、４
−メルカプト安息香酸、３−メルカプト安息
香酸、６−メルカプト−２−ナフトエ酸、７
−メルカプト−２−ナフトエ酸等が挙げられ
る。 (D3) 芳香族メルカプトフエノールとしては、４
−メルカプトフエノール、３−メルカプトフ
エノール、６−メルカプトフエノール、７−
メルカプトフエノール等が挙げられる。 (E) 芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン系
化合物としては、４−アミノフエノール、Ｎ−
メチル−４−アミノフエノール、１，４−フエ
ニレンジアミン、Ｎ−メチル−１，４−フエニ
レンジアミン、Ｎ，N′−ジメチル−１，４−
フエニレンジアミン、３−アミノフエノール、
３−メチル−４−アミノフエノール、２−クロ
ロ−４−アミノフエノール、４−アミノ−１−
ナフトール、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフ
エニル、４−アミノ−4′−ヒドロキシフエニル
エーテル、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフエ
ニルメタン、４−アミノ−4′−ヒドロキシジフ
エニルスルフイド、４，4′−ジアミノフエニル
スルフイド（チオジアニリン）、４，4′−ジア
ミノジフエニルスルホン酸、２，５−ジアミノ
トルエン、４，4′−エチレンジアニリン、４，
4′−ジアミノジフエノキシエタン、４，4′−ジ
アミノジフエニルメタン（メチレンジアニリ
ン）、４，4′−ジアミノジフエニルエーテル
（オキシジアニリン）等が挙げられる。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
へ上記化合物を溶融アシドリシス法やスラリー重
合法等の多様なエステル形成法により製造するこ
とが出来る。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
には、一つの高分子鎖の一部が異方性溶融相を形
成するポリマーのセグメントで構成され、残りの
部分が異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂の
セグメントから構成されるポリマーも含まれる。
また、複数のサーモトロピツク液晶ポリマーを複
合したものも含まれる。 これらのサーモトロピツク液晶ポリマーの中、
好ましくは、少なくとも一般式 で表わされるモノマー単位を含む（共）重合体で
あつて、具体的には 等があり、特に耐熱性、耐薬品性、低線膨張率等
の優れた性質を保有し、塗料、印刷等が困難な全
芳香族ポリエステルについても効果的に表面活性
化が可能である。 本発明では、上記のごとき液晶ポリマーの成形
物の表面に紫外線を照射する。この場合成形物
は、型物、フイルム、シート、板状体、パイプ、
繊維等の各種形状の成形品である。 該液晶ポリマー成形物の表面に照射する紫外線
は、1849Åを主な作用波長とする紫外線である。
この紫外線は、高純度の合成石英ランプの光源よ
り得られる。 本発明では、紫外線を照射する前に紫外線吸収
性溶剤で表面を処理することが好ましい。 紫外線吸収性溶剤は、その溶剤自体が分子内に
紫外線吸収構造を持つものでも、紫外線吸収性を
持つ添加物を溶剤に溶解させたものでもよい。 前者の具体例としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族系溶剤、四塩化炭素、テトラ
クロロエチレン、トリクロロエチレン、トリクロ
ロトリフロロエチレン等のハロゲン化炭素系溶
剤、アクリル酸エステル等のエステル系溶剤等が
あり、後者の例としては、アセトフエノン系誘導
体、ベンゾフエノン系誘導体、ベンゾイン系誘導
体、スルフイド系誘導体、ジアゾニウム塩系誘導
体等の光増感剤を溶解した芳香族系溶剤、ハロゲ
ン化炭化水素系溶剤、エステル系溶剤等がある。 本発明では、液晶ポリマーの成形物を予め加熱
して照射ても良いし、紫外線吸収性有機溶剤で処
理する場合にも、液晶ポリマーの成形物を予め加
熱しておくことが好ましい。加熱温度は、30℃以
上、好ましくは50℃異常で、かつ融点以下で行わ
れる。 処理時間は、20分以内好ましくは５秒〜５分で
ある。成形物と光源との距離は近いほうが好まし
く、通常１〜100cmの範囲で行われる。 また、本発明では、液晶ポリマーの成形物を予
め加熱して有機溶剤と接触させることもできるが
溶剤の加熱は蒸気の発性を伴うので、火災や人体
に対する危険性があるため注意を要する。 本発明で用いるサーモトロピツク液晶ポリマー
中に、種々の添加物を配合することが出来る。こ
れには、無機充填剤、有機充填剤、安定剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、他のポリマ
ー、改質剤等が挙げられる。このうち特に無機充
填剤が重要で、加工性、物性等の改良の為にしば
しば用いられる。無機充填剤としては、タルク、
マイカ、クレー、セリサイト、炭酸カルシユウ
ム、珪酸カルシユウム、シリカ、アルミナ、水酸
化アルミニウム、水酸化マグネシユウム、黒鉛、
チタンサンカリ、ガラス繊維、炭素繊維、各種ウ
イスカー等がある。 （発明の効果） 本発明によれば、サーモトロピツク液晶ポリマ
ー成形物の表面が高活性化され、塗装、印刷、接
着、金属蒸着等の表面加工に適したものとなる。 本発明により生じた特有の効果は次のようなも
のである。 (1) 本発明による処理をほどこしたものは、表面
に付着した塗膜、印刷膜等の均一性がよいこと
から、美麗であり、また、その膜の成形体に対
する付着は強固である。 (2) 処理の方法が複雑な化学操作を用いる方法で
はなく、処理後の水洗、下塗などの工程がない
ため、操作が簡便で、短い処理時間で済む。 (3) 紫外線照射装置は低価格なので、設備費が安
価である。 (4) コロナ放電処理と違い、フイルム状以外の物
でも処理できる。 (5) 1849Åの光を主な作用波長とするため処理時
間が短い。 （実施例） 本発明を実施例により、更に詳細に説明する。 実施例 １ テレフタル酸、４−ヒドロキシ安息香酸、及び
４，4′−ジヒドロキシジフエニルよりなるサーモ
トロピツク液晶ポリマーであるザイダー（日本石
油化学(株)の商品名）SRT−300の射出成形体にた
いし、1849Åを主な作用波長として有する合成石
英ガラス製ランプの紫外線を、50mmの距離から５
分間照射した。 この板に、アクリル系樹脂塗料（アクリル酸エ
ステルが主成分、分散媒体はケトン系溶剤）を用
い、処理後30分経過した後に吹き付け塗装した。 塗膜を空気雰囲気中に於て約24時間乾燥させた
後に付着性を調べた。塗膜に２mm幅のクロスカツ
トを縦横11本づつ入れ、セロハンテープ（三菱ユ
ニセロハンテープ18）を塗膜の上に圧着し、引き
剥がした後の残存目数の割合により付着性（残存
目数／元の目数×100）を表わした。結果を表１
に示す。 実施例 ２ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC110（ガラス繊維40％を含む）を使用する以外
は実施例１と同じ方法で行つた。結果を表１に示
す。 実施例 ３ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC130（タルク50％を含む）を使用する以外は実
施例１と同じ方法で行つた。結果を表１に示す。 実施例 ４ サーモトロピツク液晶ポリマーとしてザイダー
FC110を使用した成形体を60℃に加熱し、四塩化
炭素とテトラクロルエチレンの50：50（容積比）
混合液に５分間浸漬し、５分間乾燥後、実施例例
１と同じ方法で紫外線照射しその後の評価を行つ
た。結果を表１に示す。 実施例 ５ 紫外線照射時間を１分間とした以外は実施例４
と同じ方法で紫外線照射しその後の評価を行つ
た。結果を表１に示す。 実施例 ６ 実施例４のザイダーFC110の代わりに４−ヒド
ロキシ安息香酸、６−ハイドロキシ−２−ナフト
エ酸、テレフタル酸とからなるサーモトロピツク
液晶ポリマーであるベクトラA130（ガラス繊維30
％入り、ポリプラスチツク社製）を使用して、実
施例１と同様に行い、その結果を表１に示した。 実施例 ７ 実施例６のベクトラの代わりに４−ヒドロキシ
安息香酸、ポリエチレンテレフタレートからなる
サーモトロピツク液晶ポリマーであるロツドラン
LC2000（ユニチカ社製）を使用し、実施例６と同
様に評価し、その結果を表１に示した。 比較例 １ 紫外線照射を行わない以外は実施例２と同じ方
法で行つた。結果を表１に示す。 比較例 ２ 紫外線照射を行わない以外は実施例４と同じ方
法で行つた。結果を表１に示す。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 全芳香族ポリエステル系サーモトロピツク液
晶ポリマー成形物の表面に合成石英ランプを用い
て1849Åを主な作用波長とする紫外線を照射する
ことを特徴とする液晶ポリマー成形物の付着性向
上方法。 ２ サーモトロピツク液晶ポリマー成形物の表面
に該紫外線を照射するに際して、該成形物を加温
することを特徴とする請求項１に記載の方法。 ３ サーモトロピツク液晶ポリマー成形物の表面
に該紫外線を照射するに際して、該成形物を予め
紫外線吸収性溶剤と接触させることを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の方法。 ４ サーモトロピツク液晶ポリマー成形物と紫外
線吸収性溶剤を接触せるに際して、該成形物およ
び／または該溶剤を加温して、成形物を浸漬もし
くは蒸気処理することを特徴とする請求項３に記
載の方法。 ５ サーモトロピツク液晶ポリマーが、少なくと
も下記一般式で表されるモノマー単位を含む
（共）重合体である請求項１〜請求項４のいずれ
か１項に記載の方法。 一般式
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6177588A JPH01236246A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | サーモトロピック液晶ポリマー成形物の付着性向上方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6177588A JPH01236246A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | サーモトロピック液晶ポリマー成形物の付着性向上方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01236246A JPH01236246A (ja) | 1989-09-21 |
| JPH042613B2 true JPH042613B2 (ja) | 1992-01-20 |
Family
ID=13180811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6177588A Granted JPH01236246A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | サーモトロピック液晶ポリマー成形物の付着性向上方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01236246A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR101290670B1 (ko) * | 2013-06-03 | 2013-07-29 | 구본술 | 도금 신뢰성 향상 기능을 갖는 내장형 안테나 제조방법 |
| JP5893596B2 (ja) * | 2013-10-01 | 2016-03-23 | 株式会社クラレ | 接着性熱可塑性液晶ポリマーフィルム、多層回路基板およびその製造方法 |
| CN112533985B (zh) | 2018-06-01 | 2024-09-10 | 株式会社可乐丽 | 热塑性液晶聚合物成形体及其制造方法 |
| US20240145320A1 (en) | 2021-03-09 | 2024-05-02 | Tomoegawa Co., Ltd | Electronic component sealing lid |
| EP4307358A1 (en) | 2021-03-09 | 2024-01-17 | Tomoegawa Co., Ltd. | Electronic component sealing lid |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4417948A (en) * | 1982-07-09 | 1983-11-29 | International Business Machines Corporation | Self developing, photoetching of polyesters by far UV radiation |
-
1988
- 1988-03-17 JP JP6177588A patent/JPH01236246A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01236246A (ja) | 1989-09-21 |
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