JPH04275541A - ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法Info
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- JPH04275541A JPH04275541A JP3760991A JP3760991A JPH04275541A JP H04275541 A JPH04275541 A JP H04275541A JP 3760991 A JP3760991 A JP 3760991A JP 3760991 A JP3760991 A JP 3760991A JP H04275541 A JPH04275541 A JP H04275541A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は印刷製版用ハロゲン化銀
写真感光材料に関し、詳しくは迅速現像でも超硬調でか
つ故障の少ないハロゲン化銀写真感光材料に関する。
写真感光材料に関し、詳しくは迅速現像でも超硬調でか
つ故障の少ないハロゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【発明の背景】写真製版工程には連続調の原稿を網点画
像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬調の
画像再現をなしうる写真技術として、伝染現像による技
術が用いられてきた。
像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬調の
画像再現をなしうる写真技術として、伝染現像による技
術が用いられてきた。
【0003】伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約0.2μmで粒
子分布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有
率の高い(少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よ
りなる。このリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫酸
イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、い
わゆるリス型現像液で処理することにより、高いコント
ラスト、高鮮鋭度、高解像力の画像が得られる。
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約0.2μmで粒
子分布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有
率の高い(少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よ
りなる。このリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫酸
イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、い
わゆるリス型現像液で処理することにより、高いコント
ラスト、高鮮鋭度、高解像力の画像が得られる。
【0004】しかしながら、これらのリス型現像液は空
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば特開
昭56−106244号公報等に見られるように、ハロ
ゲン化銀写真感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せし
めるものである。これらの方法によれば、保恒性が良く
、迅速処理可能な現像液で処理することによっても硬調
な画像を得ることができる。
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば特開
昭56−106244号公報等に見られるように、ハロ
ゲン化銀写真感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せし
めるものである。これらの方法によれば、保恒性が良く
、迅速処理可能な現像液で処理することによっても硬調
な画像を得ることができる。
【0005】これらの技術では、ヒドラジン誘導体の硬
調性を十分に発揮させるためにpH 11.0以上のp
Hを有する現像液で処理しなければならなかった。pH
11.0以上の高pH現像液は、空気に触れると現像主
薬が酸化しやすい。リス現像液よりは安定であるが、現
像主薬の酸化によって、しばしば超硬調な画像が得られ
ないことがある。この欠点を補うため、特開昭63−2
9751号及びヨーロッパ特許333,435号、同3
45,025号明細書等には、比較的低pHの現像液で
も硬調化する硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光材料
が開示されている。
調性を十分に発揮させるためにpH 11.0以上のp
Hを有する現像液で処理しなければならなかった。pH
11.0以上の高pH現像液は、空気に触れると現像主
薬が酸化しやすい。リス現像液よりは安定であるが、現
像主薬の酸化によって、しばしば超硬調な画像が得られ
ないことがある。この欠点を補うため、特開昭63−2
9751号及びヨーロッパ特許333,435号、同3
45,025号明細書等には、比較的低pHの現像液で
も硬調化する硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光材料
が開示されている。
【0006】さらに露光用光源として近時LED、He
−Neレーザー、半導体レーザー等が開発され実用化さ
れてきており、これらに対応するためパンクロマチック
増感色素が用いられる。しかしながらこのようなヒドラ
ジン化合物とパンクロマチック増感色素を含みしかも塩
化銀含有率が50%以上になると黒ポツと称せられる故
障が発生しやすくなり、保存性も劣化し、また現像時間
15秒以下のような迅速現像では感度の低下及び硬調性
が損なわれる等の問題がでるため、これらの問題解決が
のぞまれている。
−Neレーザー、半導体レーザー等が開発され実用化さ
れてきており、これらに対応するためパンクロマチック
増感色素が用いられる。しかしながらこのようなヒドラ
ジン化合物とパンクロマチック増感色素を含みしかも塩
化銀含有率が50%以上になると黒ポツと称せられる故
障が発生しやすくなり、保存性も劣化し、また現像時間
15秒以下のような迅速現像では感度の低下及び硬調性
が損なわれる等の問題がでるため、これらの問題解決が
のぞまれている。
【0007】
【発明の目的】上記のような問題に対して、本発明の目
的は、第1に高感度、硬調で保存性に優れた印刷製版用
ハロゲン化銀写真感光材料の提供であり、第2には黒ポ
ツ故障の少ないハロゲン化銀写真感光材料の提供である
。さらに第3には上記目的が現像時間15秒以内の迅速
処理においても達成されるハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
的は、第1に高感度、硬調で保存性に優れた印刷製版用
ハロゲン化銀写真感光材料の提供であり、第2には黒ポ
ツ故障の少ないハロゲン化銀写真感光材料の提供である
。さらに第3には上記目的が現像時間15秒以内の迅速
処理においても達成されるハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
【0008】
【発明の構成】本発明の上記第1及び第2の目的は、支
持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層またはそ
の他の親水性コロイド層中に下記一般式〔H〕で表され
るヒドラジン誘導体を含有し、該ハロゲン化銀乳剤が銀
1モル当たり1×10−9〜1×10−5モルのロジウ
ム塩またはロジウム錯塩の存在下で調製された塩素含有
率50モル%以上の単分散ハロゲン化銀粒子からなり、
かつ下記一般式〔D〕で表される増感色素を含有したこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により達成さ
れる。また、上記のハロゲン化銀乳剤において、乳剤層
またはその他の親水性コロイド層中に、さらに現像を抑
制する化合物を含有することが好ましい。
持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層またはそ
の他の親水性コロイド層中に下記一般式〔H〕で表され
るヒドラジン誘導体を含有し、該ハロゲン化銀乳剤が銀
1モル当たり1×10−9〜1×10−5モルのロジウ
ム塩またはロジウム錯塩の存在下で調製された塩素含有
率50モル%以上の単分散ハロゲン化銀粒子からなり、
かつ下記一般式〔D〕で表される増感色素を含有したこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により達成さ
れる。また、上記のハロゲン化銀乳剤において、乳剤層
またはその他の親水性コロイド層中に、さらに現像を抑
制する化合物を含有することが好ましい。
【0009】
【化6】
【0010】〔式中、Aはアリール基、又は硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、Gは
−(C(O))−基、スルホニル基、スルホキシ基、−
P(O)(R)−基、又はイミノメチレン基を表し、n
は1又は2の整数を表し、A1,A2はともに水素原子
或は一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアル
キルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基
を表し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル
基、オキシカルボニル基又は−O−R3基を表し、R3
はアルキル基又は飽和複素環基を表す。〕
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、Gは
−(C(O))−基、スルホニル基、スルホキシ基、−
P(O)(R)−基、又はイミノメチレン基を表し、n
は1又は2の整数を表し、A1,A2はともに水素原子
或は一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアル
キルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基
を表し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル
基、オキシカルボニル基又は−O−R3基を表し、R3
はアルキル基又は飽和複素環基を表す。〕
【0011】
【化7】
【0012】〔式中、Y1、Y2は各々、硫黄原子又は
セレン原子を表す(ただし、Y1、Y2が同時にセレン
原子であることを除く)。R1、R2は各々、低級アル
キル基又はスルホ基を有するアルキル基を表し、R3は
低級アルキル基を表す。A、Bは各々、ナフトチアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環又は
ベンゾセレナゾール環を完成するに必要な非金属原子群
を表す。X−はアニオンを表し、mは0又は1を表す。 〕さらに、第3の目的は、支持体上に少なくとも1層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
を画像露光後、pH11.0以下の現像液で現像時間1
5秒以下で処理する黒白画像形成方法において、該乳剤
層またはその他の親水性コロイド層中に、請求項1記載
の一般式〔H〕で表されるヒドラジン誘導体と下記一般
式〔1〕または〔2〕から選ばれた少なくとも1つの化
合物と一般式〔3〕で表される化合物を含有し、該ハロ
ゲン化銀乳剤が塩素含有率50モル%以上の単分散ハロ
ゲン化銀粒子からなり、かつ請求項1記載の一般式〔D
〕で表される増感色素を含有したことを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料により達成される。
セレン原子を表す(ただし、Y1、Y2が同時にセレン
原子であることを除く)。R1、R2は各々、低級アル
キル基又はスルホ基を有するアルキル基を表し、R3は
低級アルキル基を表す。A、Bは各々、ナフトチアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環又は
ベンゾセレナゾール環を完成するに必要な非金属原子群
を表す。X−はアニオンを表し、mは0又は1を表す。 〕さらに、第3の目的は、支持体上に少なくとも1層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
を画像露光後、pH11.0以下の現像液で現像時間1
5秒以下で処理する黒白画像形成方法において、該乳剤
層またはその他の親水性コロイド層中に、請求項1記載
の一般式〔H〕で表されるヒドラジン誘導体と下記一般
式〔1〕または〔2〕から選ばれた少なくとも1つの化
合物と一般式〔3〕で表される化合物を含有し、該ハロ
ゲン化銀乳剤が塩素含有率50モル%以上の単分散ハロ
ゲン化銀粒子からなり、かつ請求項1記載の一般式〔D
〕で表される増感色素を含有したことを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料により達成される。
【0013】
【化8】
【0014】〔式中、Yは、ハロゲン化銀に吸着する基
を表す。Xは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子
から選ばれた原子または原子群よりなる2個の連結基を
表す。Aは2個の連結基を表す。Bはアミノ基、アンモ
ニウム基及び含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換さ
れていてもよい。mは1,2または3を表し、nは0ま
たは1を表す。〕
を表す。Xは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子
から選ばれた原子または原子群よりなる2個の連結基を
表す。Aは2個の連結基を表す。Bはアミノ基、アンモ
ニウム基及び含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換さ
れていてもよい。mは1,2または3を表し、nは0ま
たは1を表す。〕
【0015】
【化9】
【0016】〔式中、R1、R2は各々水素原子または
脂肪族残基を表す。R1とR2は互いに結合して環を形
成してもよい。R3は2価の脂肪族基を表す。Xは窒素
、酸素もしくは硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。 nは0または1を表し、Mは水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、4級アンモニウム塩、4級ホスホニ
ウム塩またはアミジノ基を表す。〕
脂肪族残基を表す。R1とR2は互いに結合して環を形
成してもよい。R3は2価の脂肪族基を表す。Xは窒素
、酸素もしくは硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。 nは0または1を表し、Mは水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、4級アンモニウム塩、4級ホスホニ
ウム塩またはアミジノ基を表す。〕
【0017】
【化10】
【0018】〔式中、Yは水素原子またはメルカプト基
を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
ノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、スル
ホ基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置
換のアルケニル基、置換または非置換のアルキニル基、
置換または非置換のアリール基、置換または非置換のア
ルコキシ基、ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボ
ニル基またはアルコキシカルボニル基を表す。〕以下、
本発明について詳細に説明する。
を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
ノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、スル
ホ基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置
換のアルケニル基、置換または非置換のアルキニル基、
置換または非置換のアリール基、置換または非置換のア
ルコキシ基、ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボ
ニル基またはアルコキシカルボニル基を表す。〕以下、
本発明について詳細に説明する。
【0019】本発明に用いられる一般式〔H〕で表され
るヒドラジン誘導体について説明する。
るヒドラジン誘導体について説明する。
【0020】式中Aはアリール基、又は硫黄原子又は酸
素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、Gは−(
C(O))n−、スルホニル基、スルホキシ基、−P(
O)(R)−基、又はイミノメチレン基を表し、nは1
又は2の整数を表し、A1,A2はともに水素原子或は
一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキル
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表
し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基、
オキシカルボニル基又は−O−R3基を表し、R3はア
ルキル基又は飽和複素環基を表す。
素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、Gは−(
C(O))n−、スルホニル基、スルホキシ基、−P(
O)(R)−基、又はイミノメチレン基を表し、nは1
又は2の整数を表し、A1,A2はともに水素原子或は
一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキル
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表
し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基、
オキシカルボニル基又は−O−R3基を表し、R3はア
ルキル基又は飽和複素環基を表す。
【0021】更に下記一般式〔A〕〔B〕であることが
好ましい。
好ましい。
【0022】
【化11】
【0023】式中、Aはアリール基、又は、硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、nは
1又は2の整数を表す。n=1の時、R1及びR2はそ
れぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R1とR
2は窒素原子と共に環を形成してもよい。n=2の時、
R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘ
テロ環オキシ基を表す。ただしn=2の時、R1及びR
2のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基
、飽和複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基
、又はヘテロ環オキシ基を表すものとする。R3はアル
キニル基又は飽和複素環基を表す。一般式〔A〕又は〔
B〕で表される化合物には、式中の−NHNH−の少な
くともいずれかのHが置換基で置換されたものを含む。
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、nは
1又は2の整数を表す。n=1の時、R1及びR2はそ
れぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R1とR
2は窒素原子と共に環を形成してもよい。n=2の時、
R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘ
テロ環オキシ基を表す。ただしn=2の時、R1及びR
2のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基
、飽和複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基
、又はヘテロ環オキシ基を表すものとする。R3はアル
キニル基又は飽和複素環基を表す。一般式〔A〕又は〔
B〕で表される化合物には、式中の−NHNH−の少な
くともいずれかのHが置換基で置換されたものを含む。
【0024】A,R1、R2についてはさらに詳しくは
特願平2−222638号記載のものと同義である。一
般式〔A〕及び〔B〕中の−NHNH−のH、即ちヒド
ラジンの水素原子は、スルホニル基(例えばメタンスル
ホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば、
アセチル、トリフルオロアセチル、エトキシカルボニル
等)、オキザリル基(例えば、エトキザリル、ピルボイ
ル等)等の置換基で置換されていてもよく、一般式〔A
〕及び〔B〕で表される化合物はこのようなものをも含
む。
特願平2−222638号記載のものと同義である。一
般式〔A〕及び〔B〕中の−NHNH−のH、即ちヒド
ラジンの水素原子は、スルホニル基(例えばメタンスル
ホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば、
アセチル、トリフルオロアセチル、エトキシカルボニル
等)、オキザリル基(例えば、エトキザリル、ピルボイ
ル等)等の置換基で置換されていてもよく、一般式〔A
〕及び〔B〕で表される化合物はこのようなものをも含
む。
【0025】本発明においてより好ましい化合物は、一
般式〔A〕のn=2の場合の化合物、及び一般式〔B〕
の化合物である。
般式〔A〕のn=2の場合の化合物、及び一般式〔B〕
の化合物である。
【0026】一般式〔A〕のn=2の化合物において、
R1及びR2が水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環基、
ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつR1及び
R2のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル
基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を
表す化合物が更に好ましい。
R1及びR2が水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環基、
ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつR1及び
R2のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル
基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を
表す化合物が更に好ましい。
【0027】上記一般式〔A〕,〔B〕で表される代表
的な化合物としては、例えば特開平2−327402号
第20頁〜第58頁記載のH−1〜H−187、特開平
2−17054号第23頁〜第32頁記載のI−1〜I
−45または以下の化合物化合物が好ましく用いられる
。
的な化合物としては、例えば特開平2−327402号
第20頁〜第58頁記載のH−1〜H−187、特開平
2−17054号第23頁〜第32頁記載のI−1〜I
−45または以下の化合物化合物が好ましく用いられる
。
【0028】
【化12】
【0029】
【化13】
【0030】
【化14】
【0031】
【化15】
【0032】
【化16】
【0033】次に一般式〔D〕で表される増感色素につ
いて説明する。
いて説明する。
【0034】R1、R2で表される低級アルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等が、スルホ基を有するアルキル基としては、例えば
β−スルホエチル基、γ−スルホプロピル基、γ−スル
ホブチル基、δ−スルホブチル基、スルホエトキシエチ
ル基、スルホプロポキシエチル基などが挙げられる。
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等が、スルホ基を有するアルキル基としては、例えば
β−スルホエチル基、γ−スルホプロピル基、γ−スル
ホブチル基、δ−スルホブチル基、スルホエトキシエチ
ル基、スルホプロポキシエチル基などが挙げられる。
【0035】R3で表される低級アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。
例えばメチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。
【0036】A、Bは各々、ナフトチアゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環又はベンゾセレ
ナゾール環を完成するに必要な非金属原子群を表すが、
これらの環には各々、低級アルキル基(例えばエチル基
、メチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)、ヒドロキシル基、アリール基(例えばフ
ェニル基)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル基)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)等で置換されているものが含まれる。尚、低級
アルキル基は置換された場合を含む。これら置換基を置
換する非金属原子群によって完成されたナフトチアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環、ベ
ンゾセレナゾール環の例は、[1,2−d]、[2,3
−d]及び[2,1−d]ナフトチアゾール、ベンゾチ
アゾール、5−メチルベンゾチアゾール、5−クロロベ
ンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、5−
ブロモベンゾチアゾール、5,6−ジメチルベンゾチア
ゾール、5−シアノベンゾチアゾール、5−フェニルベ
ンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、5
−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾール、5−エト
キシ−6−エチルベンゾチアゾール、5−エトキシ−6
−ブチルベンゾチアゾール、5−エトキシ−6−メチル
ベンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、
[1,2−d]、[2,3−d]及び[2,1−d]ナ
フトセレナゾール、ベンゾセレナゾール、5−メチルベ
ンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5
−メトキシベンゾセレナゾール、5−フェニルベンゾセ
レナゾール、5,6−ジメチルベンゾセレナゾール、5
−ヒドロキシベンゾセレナゾール等である。
ゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環又はベンゾセレ
ナゾール環を完成するに必要な非金属原子群を表すが、
これらの環には各々、低級アルキル基(例えばエチル基
、メチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)、ヒドロキシル基、アリール基(例えばフ
ェニル基)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル基)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)等で置換されているものが含まれる。尚、低級
アルキル基は置換された場合を含む。これら置換基を置
換する非金属原子群によって完成されたナフトチアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環、ベ
ンゾセレナゾール環の例は、[1,2−d]、[2,3
−d]及び[2,1−d]ナフトチアゾール、ベンゾチ
アゾール、5−メチルベンゾチアゾール、5−クロロベ
ンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、5−
ブロモベンゾチアゾール、5,6−ジメチルベンゾチア
ゾール、5−シアノベンゾチアゾール、5−フェニルベ
ンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、5
−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾール、5−エト
キシ−6−エチルベンゾチアゾール、5−エトキシ−6
−ブチルベンゾチアゾール、5−エトキシ−6−メチル
ベンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、
[1,2−d]、[2,3−d]及び[2,1−d]ナ
フトセレナゾール、ベンゾセレナゾール、5−メチルベ
ンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5
−メトキシベンゾセレナゾール、5−フェニルベンゾセ
レナゾール、5,6−ジメチルベンゾセレナゾール、5
−ヒドロキシベンゾセレナゾール等である。
【0037】X−はシアニン色素に通常用いられるアニ
オン、例えばハロゲンイオン、ベンゼンスルホン酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン等を表す。
オン、例えばハロゲンイオン、ベンゼンスルホン酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン等を表す。
【0038】mは1又は0を表すが、R1又はR2が分
子内塩を形成する時はmは0を表す。一般式〔D〕で表
される増感色素の具体的な例としては例えば特願平2−
14430号第9頁〜第14頁No.1〜30に示す増
感色素が好ましく用いられる。下記にその中の代表例を
挙げる。
子内塩を形成する時はmは0を表す。一般式〔D〕で表
される増感色素の具体的な例としては例えば特願平2−
14430号第9頁〜第14頁No.1〜30に示す増
感色素が好ましく用いられる。下記にその中の代表例を
挙げる。
【0039】
【化17】
【0040】
【化18】
【0041】本発明の現像を抑制制御する化合物として
は、感光材料中に添加して感度又はカブリを抑制するも
のなら何でもよいが、具体的には、
は、感光材料中に添加して感度又はカブリを抑制するも
のなら何でもよいが、具体的には、
【0042】
【化19】
【0043】
【化20】
【0044】が好ましい。添加量はハロゲン化銀1モル
当り1×10−1〜1×10−4モルが好ましい。添加
する層は、ハロゲン化銀乳剤層又は、親水性コロイド層
いずれでもよい。
当り1×10−1〜1×10−4モルが好ましい。添加
する層は、ハロゲン化銀乳剤層又は、親水性コロイド層
いずれでもよい。
【0045】以下一般式〔1〕で表わされる化合物につ
いて説明する。
いて説明する。
【0046】Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基とし
ては含窒素複素環化合物があげられる。
ては含窒素複素環化合物があげられる。
【0047】Yが含窒素複素環化合物を表わす場合は一
般式〔1〕の化合物は下記一般式〔1a〕で表わされる
。
般式〔1〕の化合物は下記一般式〔1a〕で表わされる
。
【0048】
【化21】
【0049】式中、lは0または1を表わし、mは1,
2または3を表わし、nは0または1を表わす。
2または3を表わし、nは0または1を表わす。
【0050】〔(X)n−A−B〕mは前記一般式〔2
〕におけるそれと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子
、酸素原子、硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成
される5または6員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表わす。またこの複素環は炭素芳香環または複素芳
香環と縮合していてもよい。
〕におけるそれと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子
、酸素原子、硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成
される5または6員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表わす。またこの複素環は炭素芳香環または複素芳
香環と縮合していてもよい。
【0051】Qによって形成される複素環としては例え
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリテゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類
、トリアジン類、ピリミジン類、キノリン類等があげら
れる。
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリテゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類
、トリアジン類、ピリミジン類、キノリン類等があげら
れる。
【0052】Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えば
ナトリウム原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基
(例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたは
アルカリ金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わ
す。
ナトリウム原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基
(例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたは
アルカリ金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わ
す。
【0053】また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト
基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチ
ル基、シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオ
エチル基、等)、アリール基(例えばフエニル基、4−
メタンスルホンアミドフエニル基、4−メチルフエニル
基、3,4−ジクロルフエニル基、ナフチル基、等)、
アルケニル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(
例えばベンジル基、4−メチルベンジル基、フエネチル
基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、等)、アリールオキシ基(例えばフエノキシ基、4
−メトキシフエノキシ基、等)、アルキルチオ基(例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基
)、アリールチオ基(例えばフエニルチオ基)、スルホ
ニル基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、p−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基
(例えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基
、フエニルカルバモイル基、等)、スルフアモイル基(
例えば無置換スルフアモイル基、メチルスルフアモイル
基、フエニルスルフアモイル基、等)、カルボンアミド
基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等)、ス
ルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基
、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、等)、スルホニルオキシ基(例えば
メタンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えば
無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイ
ド基、フエニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例
えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等
)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ基、1−ピペリ
ジノ基、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニ
ル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−テ
トラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、等)、
オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、フ
エノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ
基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フエノキシカ
ルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ
基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト
基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチ
ル基、シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオ
エチル基、等)、アリール基(例えばフエニル基、4−
メタンスルホンアミドフエニル基、4−メチルフエニル
基、3,4−ジクロルフエニル基、ナフチル基、等)、
アルケニル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(
例えばベンジル基、4−メチルベンジル基、フエネチル
基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、等)、アリールオキシ基(例えばフエノキシ基、4
−メトキシフエノキシ基、等)、アルキルチオ基(例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基
)、アリールチオ基(例えばフエニルチオ基)、スルホ
ニル基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、p−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基
(例えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基
、フエニルカルバモイル基、等)、スルフアモイル基(
例えば無置換スルフアモイル基、メチルスルフアモイル
基、フエニルスルフアモイル基、等)、カルボンアミド
基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等)、ス
ルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基
、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、等)、スルホニルオキシ基(例えば
メタンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えば
無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイ
ド基、フエニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例
えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等
)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ基、1−ピペリ
ジノ基、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニ
ル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−テ
トラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、等)、
オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、フ
エノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ
基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フエノキシカ
ルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ
基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
【0054】Xが表わす2価の連結基としては例えば、
【0055】
【化22】
【0056】等があげられるが、これらの連結基はQと
の間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、1−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R7、R8、R9、R10、R11、R1
2、R13、R14、R15およびR16は水素原子、
それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、等)、置
換もしくは無置換のアリール基(例えばフエニル基、2
−メチルフエニル基、等)、置換もしくは無置換のアル
ケニル基(例えばプロペニル基、1−メチルビニル基、
等)、または置換もしくは無置換のアラルキル基(例え
ばベンジル基、フエネチル基、等)を表わす。
の間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、1−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R7、R8、R9、R10、R11、R1
2、R13、R14、R15およびR16は水素原子、
それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、等)、置
換もしくは無置換のアリール基(例えばフエニル基、2
−メチルフエニル基、等)、置換もしくは無置換のアル
ケニル基(例えばプロペニル基、1−メチルビニル基、
等)、または置換もしくは無置換のアラルキル基(例え
ばベンジル基、フエネチル基、等)を表わす。
【0057】Aは2価の連結基を表わし、2価の連結基
としては直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、1−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐
のアルケニレン基(例えばビニレン基、1−メチルビニ
レン基、等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ばベンジリデン基、等)、アリーレン基(例えばフエニ
レン、ナフチレン、等)等が挙げられる。Aで表わされ
る上記の基はXとAは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。
としては直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、1−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐
のアルケニレン基(例えばビニレン基、1−メチルビニ
レン基、等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ばベンジリデン基、等)、アリーレン基(例えばフエニ
レン、ナフチレン、等)等が挙げられる。Aで表わされ
る上記の基はXとAは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。
【0058】Bの置換もしくは無置換のアミノ基は一般
式〔1b〕で表わされるものである。
式〔1b〕で表わされるものである。
【0059】
【化23】
【0060】(式中、R11、R12は同一であっても
異なってもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の
炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基
、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−オク
チル基、アリル基、3−プテニル基、ベンジル基、1−
ナフチルメチル基、等)、分岐(例えばisoプロピル
基、t−オクチル基、等)または環状(例えばシクロヘ
キシル基、等)、でもよい。
異なってもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の
炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基
、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−オク
チル基、アリル基、3−プテニル基、ベンジル基、1−
ナフチルメチル基、等)、分岐(例えばisoプロピル
基、t−オクチル基、等)または環状(例えばシクロヘ
キシル基、等)、でもよい。
【0061】又、R11とR12は連結して環を形成し
てもよく、その中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(
例えば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽
和のヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、
例えばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基など
を挙げることができる。又、R11、R12の置換基と
しては例えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、
ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
である。)、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基フエノキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フエネチルオキシ基など)、炭素数20以下の単環式の
アリールオキシ基(例えばフエノキシ基、p−トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など)、スルフアモイル基(例えばスルフアモイル
基、N,N−ジメチルスルフアモイル基モルホリノスル
ホニル基、ピペリジノスルホニル基など)、炭素数20
以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロ
ピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミノ
基など)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド基
、p−トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以
下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基
、フエニルカルボンアミド基など)、炭素数20以下の
ウレイド基(例えばメチルウレイド基、フエニルウレイ
ド基など)、アミノ基などが挙げられる。
てもよく、その中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(
例えば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽
和のヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、
例えばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基など
を挙げることができる。又、R11、R12の置換基と
しては例えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、
ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
である。)、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基フエノキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フエネチルオキシ基など)、炭素数20以下の単環式の
アリールオキシ基(例えばフエノキシ基、p−トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など)、スルフアモイル基(例えばスルフアモイル
基、N,N−ジメチルスルフアモイル基モルホリノスル
ホニル基、ピペリジノスルホニル基など)、炭素数20
以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロ
ピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミノ
基など)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド基
、p−トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以
下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基
、フエニルカルボンアミド基など)、炭素数20以下の
ウレイド基(例えばメチルウレイド基、フエニルウレイ
ド基など)、アミノ基などが挙げられる。
【0062】Bのアンモニウム基は一般式〔1c〕で表
わされるものである。
わされるものである。
【0063】
【化24】
【0064】(式中、R13、R14、R15は上述の
一般式〔2−b〕におけるR11およびR12と同様の
基であり、Z−はアニオンを表わし、例えばハライドイ
オン(例えばCl−、Br−、I−など)、スルホナー
トイオン(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パ
ラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラ
クロロベンゼンスルホナートなど)、スルフアトイオン
(例えばエチルスルフアート、メチルスルフアートなど
)、パークロラート、テトラフルオロボラートなどが挙
げられる。pは0または1を表わし、化合物が分子内塩
を形成する場合は0である。)Bの含窒素ヘテロ環は、
少なくとも1つ以上の窒素原子を含んだ5または6員環
であり、それらの環は置換基を有していてもよく、また
他の環と縮合していてもよい。含窒素ヘテロ環としては
例えばイミダゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基など
が挙げられる。
一般式〔2−b〕におけるR11およびR12と同様の
基であり、Z−はアニオンを表わし、例えばハライドイ
オン(例えばCl−、Br−、I−など)、スルホナー
トイオン(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パ
ラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラ
クロロベンゼンスルホナートなど)、スルフアトイオン
(例えばエチルスルフアート、メチルスルフアートなど
)、パークロラート、テトラフルオロボラートなどが挙
げられる。pは0または1を表わし、化合物が分子内塩
を形成する場合は0である。)Bの含窒素ヘテロ環は、
少なくとも1つ以上の窒素原子を含んだ5または6員環
であり、それらの環は置換基を有していてもよく、また
他の環と縮合していてもよい。含窒素ヘテロ環としては
例えばイミダゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基など
が挙げられる。
【0065】一般式〔1〕のうち好ましいものとしては
、下記一般式〔1m〕、〔1n〕、〔1o〕または〔1
p〕で表わされる化合物が挙げられる。
、下記一般式〔1m〕、〔1n〕、〔1o〕または〔1
p〕で表わされる化合物が挙げられる。
【0066】
【化25】
【0067】(式中、−(X)n−A−B、M、mは前
記一般式〔1a〕のそれと同義である。Z1、Z2およ
びZ3は前記一般式〔1a〕における−(X)n−A−
Bと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以下
のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、
ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基を表
わし、その置換基としては前記一般式〔1b〕における
R11、R12の置換基の中から選ぶことができる。但
しZ1、Z2及びZ3の内の少なくとも1つは−(X)
n−A−Bと同義である。
記一般式〔1a〕のそれと同義である。Z1、Z2およ
びZ3は前記一般式〔1a〕における−(X)n−A−
Bと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以下
のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、
ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基を表
わし、その置換基としては前記一般式〔1b〕における
R11、R12の置換基の中から選ぶことができる。但
しZ1、Z2及びZ3の内の少なくとも1つは−(X)
n−A−Bと同義である。
【0068】またこれら複素環は一般式〔1〕の複素環
に適用される置換基で置換されてもよい。
に適用される置換基で置換されてもよい。
【0069】一般式〔1〕で表わされる化合物は特開昭
2−103536第(12)頁〜第(13)頁記載のI
I−1〜II−19化合物を用いることができる。代表
的な化合物例を以下に挙げる。
2−103536第(12)頁〜第(13)頁記載のI
I−1〜II−19化合物を用いることができる。代表
的な化合物例を以下に挙げる。
【0070】
【化26】
【0071】
【化27】
【0072】次に一般式〔2〕においてR1、R2の脂
肪族残基としては、各々炭素1〜12のアルキル基、ア
ルケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当
な基で置換されていてもよい。アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、se
c−ブチル基、シクロヘキシル基などである。アルケニ
ル基としては例えばアリル基、2−ブテニル基、2−ヘ
キセニル基、2−オクテニル基などである。アルキル基
としては例えばプロパルギル基、2−ペンチニル基など
がある。置換基としては、フエニル基、置換フエニル基
、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カル
ボキシル基。スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等
である。
肪族残基としては、各々炭素1〜12のアルキル基、ア
ルケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当
な基で置換されていてもよい。アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、se
c−ブチル基、シクロヘキシル基などである。アルケニ
ル基としては例えばアリル基、2−ブテニル基、2−ヘ
キセニル基、2−オクテニル基などである。アルキル基
としては例えばプロパルギル基、2−ペンチニル基など
がある。置換基としては、フエニル基、置換フエニル基
、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カル
ボキシル基。スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等
である。
【0073】
【化28】
【0074】R1とR2として特に好ましいものは炭素
原子数1〜3のアルキル基で更に好ましくはエチル基で
ある。
原子数1〜3のアルキル基で更に好ましくはエチル基で
ある。
【0075】R3の二価の脂肪族基としては−R4−又
は−R4S−が好ましい。ここでR4は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−CH2−、−CH2CH2−、−(CH2
)3−、−(CH2)4−、−(CH2)6−、−CH
2CH=CHCH2−、−CH2C≡CCH2−、−C
H2CH(CH3)CH2−などである。
は−R4S−が好ましい。ここでR4は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−CH2−、−CH2CH2−、−(CH2
)3−、−(CH2)4−、−(CH2)6−、−CH
2CH=CHCH2−、−CH2C≡CCH2−、−C
H2CH(CH3)CH2−などである。
【0076】R4の好ましい炭素数としては2〜4のも
ので、R4としてさらに好ましくは−CH2CH2−及
び−CH2CH2CH2である。なお(X)nのnが0
のときのR3は−R4−だけを表わす。
ので、R4としてさらに好ましくは−CH2CH2−及
び−CH2CH2CH2である。なお(X)nのnが0
のときのR3は−R4−だけを表わす。
【0077】Xのヘテロ環としては、窒素、酸素又は硫
黄を含む5及び6員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾール
、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オキ
サゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベ
ンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾー
ルとチアジアゾールが好ましい。
黄を含む5及び6員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾール
、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オキ
サゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベ
ンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾー
ルとチアジアゾールが好ましい。
【0078】Mのアルカリ金属としては、Na+、K+
、Li+などがある。
、Li+などがある。
【0079】アルカリ土類金属としては、Ca++、M
g++、などがある。
g++、などがある。
【0080】Mの四級アンモニウム塩としては、炭素数
4〜30からなるもので、例えば(CH3)4N+、(
C2H5)4N+、(C4H9)4N+、C6H5CH
2N+(CH3)3、C16H33N+(CH3)3な
どである。四級ホスホニウム塩としては、(C4H9)
4P+、C16H3P+(CH3)3、C6H5CH2
P+(CH3)などである。
4〜30からなるもので、例えば(CH3)4N+、(
C2H5)4N+、(C4H9)4N+、C6H5CH
2N+(CH3)3、C16H33N+(CH3)3な
どである。四級ホスホニウム塩としては、(C4H9)
4P+、C16H3P+(CH3)3、C6H5CH2
P+(CH3)などである。
【0081】一般式〔2〕で表わされる化合物の無機酸
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり
、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスル
ホン酸塩などがある。
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり
、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスル
ホン酸塩などがある。
【0082】一般式〔2〕で表わされる化合物は特開平
2−103536第(14)頁〜第(15)頁記載のI
II−1〜III−22ものを用いることができる。
2−103536第(14)頁〜第(15)頁記載のI
II−1〜III−22ものを用いることができる。
【0083】以下に、その代表的化合物例を挙げる。
【0084】
【化29】
【0085】
【化30】
【0086】次に一般式〔3〕で表される化合物の代表
的具体例を挙げるが、これらに限定されない。
的具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【0087】(例示化合物)
I−1 ベンゾトリアゾール
I−2 5−メチルベンゾトリアゾールI−3 5
−クロロベンゾトリアゾールI−4 5−ニトロベン
ゾトリアゾールI−5 5−エチルベンゾトリアゾー
ルI−6 5−カルボキシベンゾトリアゾールI−7
5−ヒドロキシベンゾトリアゾールI−8 5−
アミノベンゾトリアゾールI−9 5−スルホベンゾ
トリアゾールI−10 5−シアノベンゾトリアゾー
ルI−11 5−メトキシベンゾトリアゾールI−1
2 5−エトキシベンゾトリアゾールI−13 5
−メルカプトベンゾトリアゾールこれらの化合物は、写
真分野においてカブリ防止剤として知られた化合物であ
り、公知の合成法で合成でき、又、一部の化合物は化学
用試薬として市販されている。
−クロロベンゾトリアゾールI−4 5−ニトロベン
ゾトリアゾールI−5 5−エチルベンゾトリアゾー
ルI−6 5−カルボキシベンゾトリアゾールI−7
5−ヒドロキシベンゾトリアゾールI−8 5−
アミノベンゾトリアゾールI−9 5−スルホベンゾ
トリアゾールI−10 5−シアノベンゾトリアゾー
ルI−11 5−メトキシベンゾトリアゾールI−1
2 5−エトキシベンゾトリアゾールI−13 5
−メルカプトベンゾトリアゾールこれらの化合物は、写
真分野においてカブリ防止剤として知られた化合物であ
り、公知の合成法で合成でき、又、一部の化合物は化学
用試薬として市販されている。
【0088】そして、本発明に係る前記一般式〔3〕で
示される化合物はハロゲン化銀1モル当り10mg〜5
g、好ましくは50mg〜1g添加することが好ましい
。
示される化合物はハロゲン化銀1モル当り10mg〜5
g、好ましくは50mg〜1g添加することが好ましい
。
【0089】本発明において、ハロゲン化銀として例え
ば、塩臭化化銀、及び塩化銀等のハロゲン化銀乳剤であ
って塩化銀を50モル%以上含有するもので、塩臭化銀
が好ましい。
ば、塩臭化化銀、及び塩化銀等のハロゲン化銀乳剤であ
って塩化銀を50モル%以上含有するもので、塩臭化銀
が好ましい。
【0090】また(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値
)×100で表される変動係数は20%以下である単分
散粒子である。単分散度が、20以下になるようハロゲ
ン化銀粒子を調整することが重要であり、単分散度が2
0をこえてしまうと硬調性がそこなわれ、シャープネス
が悪くなったりすることがあるので好ましくない。特に
半導体レーザー用、LED(発光ダイオート)用、ヘリ
ウム−ネオンレーザー用等の感光材料としてはこのよう
な単分散乳剤がより好ましく、適確な網点品質が得られ
る。
)×100で表される変動係数は20%以下である単分
散粒子である。単分散度が、20以下になるようハロゲ
ン化銀粒子を調整することが重要であり、単分散度が2
0をこえてしまうと硬調性がそこなわれ、シャープネス
が悪くなったりすることがあるので好ましくない。特に
半導体レーザー用、LED(発光ダイオート)用、ヘリ
ウム−ネオンレーザー用等の感光材料としてはこのよう
な単分散乳剤がより好ましく、適確な網点品質が得られ
る。
【0091】ここで、硬調性とは写真画像におい明部と
暗部との濃度差の程度を表すものである。またシャープ
ネス(Sharpness)とは、画像の境界部分が明
確であり、微細な部分まで写し出しているか否かの程度
を表すものである。
暗部との濃度差の程度を表すものである。またシャープ
ネス(Sharpness)とは、画像の境界部分が明
確であり、微細な部分まで写し出しているか否かの程度
を表すものである。
【0092】また本発明の乳剤粒子は、銀1モル当り1
0−9〜10−5モルのロジウム塩又はロジウム錯塩及
び/又は10−8〜10−5モルのイリジウム塩又はイ
リジウム錯塩の存在下で調製されることが好ましい。
0−9〜10−5モルのロジウム塩又はロジウム錯塩及
び/又は10−8〜10−5モルのイリジウム塩又はイ
リジウム錯塩の存在下で調製されることが好ましい。
【0093】その他、本発明のハロゲン化銀乳剤には当
業者公知の各種技術、添加剤等を用いることができる。
業者公知の各種技術、添加剤等を用いることができる。
【0094】例えば、本発明で用いるハロゲン化銀写真
乳剤及びバッキング層には、各種の化学増感剤、色調剤
、硬膜剤、界面活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現
像抑制剤、紫外線吸収剤、イラジェーション防止剤染料
、重金属、マット剤等を各種の方法で更に含有させるこ
とができる。又、本発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッ
キング層中にはポリマーラテックスを含有させることが
できる。
乳剤及びバッキング層には、各種の化学増感剤、色調剤
、硬膜剤、界面活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現
像抑制剤、紫外線吸収剤、イラジェーション防止剤染料
、重金属、マット剤等を各種の方法で更に含有させるこ
とができる。又、本発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッ
キング層中にはポリマーラテックスを含有させることが
できる。
【0095】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
ることができる支持体としては、酢酸セルロース、硝酸
セルロース、ポリエチレンテレフタレートのようなポリ
エステル、ポリエチレンのようなポリオレフィン、ポリ
スチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、
ガラス、金属等を挙げることがでる。これらの支持体は
必要に応じて下地加工が施される。
ることができる支持体としては、酢酸セルロース、硝酸
セルロース、ポリエチレンテレフタレートのようなポリ
エステル、ポリエチレンのようなポリオレフィン、ポリ
スチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、
ガラス、金属等を挙げることがでる。これらの支持体は
必要に応じて下地加工が施される。
【0096】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
【0097】黒白現像液は、ヒドロキシベンゼン類、ア
ミノフィノール類、アミノベンゼン、炭酸塩、重亜硫酸
塩、臭化物及び沃化物等を含むことができる。
ミノフィノール類、アミノベンゼン、炭酸塩、重亜硫酸
塩、臭化物及び沃化物等を含むことができる。
【0098】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれにより限定されるものではない。
発明はこれにより限定されるものではない。
【0099】実施例1
ゼラチン60gを水で溶解し、その中に表1で示す染料
を2.0gそれぞれ添加した。更に延展剤として1−デ
シル−2−(3−イソペンチル)サクシネート−2−ス
ルホン酸ナトリウム塩1%水溶液を40ml、硬膜剤と
してグリオキザールの4%水溶液45ml加えて全量1
lとした。このゼラチン含有水溶液をポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体上にゼラチン付量が3.2g
/m2になるように塗布した。一方、下記処方により、
塩臭化銀乳剤を調製した。 (乳剤層用塗布液の調製) 溶液A 水
980ml 塩化ナトリウム
2.0g ゼラチン
20g ヘキ
サクロロイリジウム酸カリウム塩の0.01%水溶液
3.5ml ヘキサブロモロジウム酸カリ
ウム塩の0.001%水溶液 表−1の量溶液
B 水
380ml 塩化ナトリウム
38g 臭化カリウム
42g溶液C 水
380ml 硝酸銀
170g 40℃に保温された上記溶液中に、pHを3、pA
gを7.7に保ちながら上記溶液B及び溶液Cを同時に
関数的に80分間に亙って加え、更に5分間攪拌し続け
た後、炭酸ナトリウム水溶液でpHを5.6に調整し、
通常の脱塩、水洗工程を経て、500mlの水と30g
のゼラチンを加えて、50℃で30分間分散させる。
を2.0gそれぞれ添加した。更に延展剤として1−デ
シル−2−(3−イソペンチル)サクシネート−2−ス
ルホン酸ナトリウム塩1%水溶液を40ml、硬膜剤と
してグリオキザールの4%水溶液45ml加えて全量1
lとした。このゼラチン含有水溶液をポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体上にゼラチン付量が3.2g
/m2になるように塗布した。一方、下記処方により、
塩臭化銀乳剤を調製した。 (乳剤層用塗布液の調製) 溶液A 水
980ml 塩化ナトリウム
2.0g ゼラチン
20g ヘキ
サクロロイリジウム酸カリウム塩の0.01%水溶液
3.5ml ヘキサブロモロジウム酸カリ
ウム塩の0.001%水溶液 表−1の量溶液
B 水
380ml 塩化ナトリウム
38g 臭化カリウム
42g溶液C 水
380ml 硝酸銀
170g 40℃に保温された上記溶液中に、pHを3、pA
gを7.7に保ちながら上記溶液B及び溶液Cを同時に
関数的に80分間に亙って加え、更に5分間攪拌し続け
た後、炭酸ナトリウム水溶液でpHを5.6に調整し、
通常の脱塩、水洗工程を経て、500mlの水と30g
のゼラチンを加えて、50℃で30分間分散させる。
【0100】これによって塩化銀62モル%、臭化銀3
8モル%、平均粒径0.26μm、立方晶粒子の 乳剤
を得た。この乳剤にクエン酸と臭化カリウムを加えpH
5.4、pAg7.6に調整し55℃で金増感及びイオ
ウ増感したのち、ハロゲン化銀1モル当り4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を1.5g、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾー
ルを0.2g添加し分割し、50℃に温度をさげ表1に
示す一般式〔D〕で表される増感色素の0.1%メタノ
ール溶液をハロゲン化銀1モル当り50ml加え、60
分間停滞させたのち36℃にして、一般式〔H〕で表さ
れる化合物を表1のように添加し、さらにカブリ防止剤
としてハイドロキノンの10%メタノール溶液を50m
l、延展剤として20%サポニン水溶液を19ml、増
粘剤としてスチレン−マレイン酸共重合体の4%水溶液
を50ml、アクリル酸エチルの高分子ポリマーラテッ
クスを30g添加し、硬膜剤として1−ヒドロキシ−3
,5−ジクロロトリアジンナトリウム塩1%水溶液20
mlとホルマリン4%水溶液10mlを加えて撹拌し、
前記フィルム上のゼラチン塗布面とは反対の面に塗設し
た。更にその上に保護層として、ゼラチンと1−デシル
−2−(3−イソペンチル)サクシネート−2−スルホ
ン酸ナトリウム塩を含む水溶液を塗布した。このように
作製した試料を下記の処理液により迅速処理用自動現像
機により下記条件で処理を行った。
8モル%、平均粒径0.26μm、立方晶粒子の 乳剤
を得た。この乳剤にクエン酸と臭化カリウムを加えpH
5.4、pAg7.6に調整し55℃で金増感及びイオ
ウ増感したのち、ハロゲン化銀1モル当り4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を1.5g、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾー
ルを0.2g添加し分割し、50℃に温度をさげ表1に
示す一般式〔D〕で表される増感色素の0.1%メタノ
ール溶液をハロゲン化銀1モル当り50ml加え、60
分間停滞させたのち36℃にして、一般式〔H〕で表さ
れる化合物を表1のように添加し、さらにカブリ防止剤
としてハイドロキノンの10%メタノール溶液を50m
l、延展剤として20%サポニン水溶液を19ml、増
粘剤としてスチレン−マレイン酸共重合体の4%水溶液
を50ml、アクリル酸エチルの高分子ポリマーラテッ
クスを30g添加し、硬膜剤として1−ヒドロキシ−3
,5−ジクロロトリアジンナトリウム塩1%水溶液20
mlとホルマリン4%水溶液10mlを加えて撹拌し、
前記フィルム上のゼラチン塗布面とは反対の面に塗設し
た。更にその上に保護層として、ゼラチンと1−デシル
−2−(3−イソペンチル)サクシネート−2−スルホ
ン酸ナトリウム塩を含む水溶液を塗布した。このように
作製した試料を下記の処理液により迅速処理用自動現像
機により下記条件で処理を行った。
【0101】(処理条件)
工程 温度(℃)
時間(秒)現像 3
8 15定着
35
15水洗
30 10乾燥
50
10現像液処方 純水 (イオン交換水)
約 800ml 亜硫酸カリウム
60g エチレンジアミン
四酢酸二ナトリウム塩
2g 水酸化カリウム
10.5g 5−メ
チルベンゾトリアゾール
300mg
ジエチレングリコール
25g 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラ
ゾリジノン 30
0mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール
6
0mg 臭化カリウム
3.5g ハイドロキノン
20g 炭酸カリウ
ム
15g 純水 (イオン交換水) を加えて1,000ml
に仕上げる。 現像液のpHは約10.8であった。
時間(秒)現像 3
8 15定着
35
15水洗
30 10乾燥
50
10現像液処方 純水 (イオン交換水)
約 800ml 亜硫酸カリウム
60g エチレンジアミン
四酢酸二ナトリウム塩
2g 水酸化カリウム
10.5g 5−メ
チルベンゾトリアゾール
300mg
ジエチレングリコール
25g 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラ
ゾリジノン 30
0mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール
6
0mg 臭化カリウム
3.5g ハイドロキノン
20g 炭酸カリウ
ム
15g 純水 (イオン交換水) を加えて1,000ml
に仕上げる。 現像液のpHは約10.8であった。
【0102】
定着液処方
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム (72.5%w/v 水溶
液) 240ml
亜硫酸ナトリウム
17g 酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g 硼 酸
6g クエン酸ナトリウム
・2水塩
2g 酢 酸 (90%
w/w 水溶液)
13.6ml(組成B) 純 水 (イオン交換水)
17ml 酢 酸 (50%w/w 水溶液
)
4.7g 硫酸アルミニウム(A
l2O3 換算含量が8.1%w/wの水溶液)
26.5g 使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの順
に溶かし、1lに仕上げて用いた。この定着液のpHは
約4.3であった。
液) 240ml
亜硫酸ナトリウム
17g 酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g 硼 酸
6g クエン酸ナトリウム
・2水塩
2g 酢 酸 (90%
w/w 水溶液)
13.6ml(組成B) 純 水 (イオン交換水)
17ml 酢 酸 (50%w/w 水溶液
)
4.7g 硫酸アルミニウム(A
l2O3 換算含量が8.1%w/wの水溶液)
26.5g 使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの順
に溶かし、1lに仕上げて用いた。この定着液のpHは
約4.3であった。
【0103】上記処理を行ない写真特性を評価した。た
だし、経時安定性の評価は以下の方法によった。すなわ
ち、二分した一半を23℃相対湿度48%で調湿後、ポ
リ酢酸ビニル(厚さ100μm)でラミネート加工した
防湿材で密封包装し、経時保存性の代用として55℃相
対湿度50%の恒温器で72時間加熱処理した。即日お
よび経時劣化試料を光学クサビ及び680nmの干渉フ
ィルターを通してキセノンフラッシュで10−5秒の閃
光露光した後、自動現像機としてコニカオートマチック
プロセッサーGR−26(コニカ株式会社製)、現像液
として前記の現像液と定着液を用いて現像処理を行い、
評価した。また、黒ポツ評価用として、未露光の試料も
同様に処理した。
だし、経時安定性の評価は以下の方法によった。すなわ
ち、二分した一半を23℃相対湿度48%で調湿後、ポ
リ酢酸ビニル(厚さ100μm)でラミネート加工した
防湿材で密封包装し、経時保存性の代用として55℃相
対湿度50%の恒温器で72時間加熱処理した。即日お
よび経時劣化試料を光学クサビ及び680nmの干渉フ
ィルターを通してキセノンフラッシュで10−5秒の閃
光露光した後、自動現像機としてコニカオートマチック
プロセッサーGR−26(コニカ株式会社製)、現像液
として前記の現像液と定着液を用いて現像処理を行い、
評価した。また、黒ポツ評価用として、未露光の試料も
同様に処理した。
【0104】結果を表1に示す。ただし写真感度は試料
1を100とした時の相対感度で示した。また、未露光
で処理をした試料については、黒ポツを40ばいのルー
ペにより目視評価し、黒ポツ発生状態を5段階で評価し
、「5」は発生なし、「1」は強い発生を示した。「3
」を下回る黒ポツは、一般的な使用に耐えないレベルで
ある。
1を100とした時の相対感度で示した。また、未露光
で処理をした試料については、黒ポツを40ばいのルー
ペにより目視評価し、黒ポツ発生状態を5段階で評価し
、「5」は発生なし、「1」は強い発生を示した。「3
」を下回る黒ポツは、一般的な使用に耐えないレベルで
ある。
【0105】表1に示すように、本発明の試料は感度、
黒ポツともに良好で、かつ経時での性能の劣化が少ない
ことがわかる。
黒ポツともに良好で、かつ経時での性能の劣化が少ない
ことがわかる。
【0106】
【表1】
【0107】
【化31】
【0108】実施例2
実施例1のNo.1,10の乳剤において、増感色素、
ヒドラジン化合物を表−2のものを添加し、さらに現像
を抑制する化合物を表2に示すように加え、現像時間を
13秒にした他はすべて実施例1と同様にして評価を行
った。
ヒドラジン化合物を表−2のものを添加し、さらに現像
を抑制する化合物を表2に示すように加え、現像時間を
13秒にした他はすべて実施例1と同様にして評価を行
った。
【0109】結果を表2に示す。
【0110】
【表2】
【0111】表2の結果から実施例1と同様に、本発明
の試料は感度、黒ポツともに良好で、かつ経時での性能
の劣化が少ないことがわかる。
の試料は感度、黒ポツともに良好で、かつ経時での性能
の劣化が少ないことがわかる。
【0112】実施例3
実施例2のNo.1と同様に調整し乳剤さらに表3に示
すように一般式〔1〕、〔2〕、〔3〕を添加した。
すように一般式〔1〕、〔2〕、〔3〕を添加した。
【0113】この場合、現像時間を13秒にした以外は
、実施例1と同様の評価を行った。
、実施例1と同様の評価を行った。
【0114】結果を表3に示す。
【0115】表3の結果から、15秒以下の現像時間に
よる超迅速処理によっても硬調でしかも黒ポツの発生が
少なく、保存性が良好であることがわかる。
よる超迅速処理によっても硬調でしかも黒ポツの発生が
少なく、保存性が良好であることがわかる。
【0116】
【表3】
【0117】
【発明の効果】本発明により、高感度、硬調で保存性に
優れ、黒ポツ故障の少ない印刷製版用ハロゲン化銀写真
感光材料及び現像時間15秒以内の迅速処理によっても
上記効果の得られるハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることができた。
優れ、黒ポツ故障の少ない印刷製版用ハロゲン化銀写真
感光材料及び現像時間15秒以内の迅速処理によっても
上記効果の得られるハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることができた。
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において
、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に下記一
般式〔H〕で表されるヒドラジン誘導体を含有し、該ハ
ロゲン化銀乳剤が銀1モル当たり1×10−9〜1×1
0−5モルのロジウム塩またはロジウム錯塩の存在下で
調製された塩化銀含有率50モル%以上の単分散ハロゲ
ン化銀粒子からなり、かつ下記一般式〔D〕で表される
増感色素を含有したことを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。 【化1】 〔式中、Aはアリール基、又は硫黄原子又は酸素原子を
少なくとも一つ含む複素環基を表し、Gは−(C(O)
)−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P(O)(R
)−基、又はイミノメチレン基を表し、nは1又は2の
整数を表し、A1,A2はともに水素原子或は一方が水
素原子で他方が置換または非置換のアルキルスルホニル
基、又は置換または非置換のアシル基を表し、Rは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、カルバモイル基、オキシカルボ
ニル基又は−O−R3基を表し、R3はアルキル基又は
飽和複素環基を表す。〕 【化2】 〔式中、Y1、Y2は各々、硫黄原子又はセレン原子を
表す(ただし、Y1、Y2が同時にセレン原子であるこ
とを除く)。R4、R5は各々、低級アルキル基又はス
ルホ基を有するアルキル基を表し、R6は低級アルキル
基を表す。A、Bは各々、ナフトチアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトセレナゾール環又はベンゾセレナ
ゾール環を完成するに必要な非金属原子群を表す。X−
はアニオンを表し、mは0又は1を表す。〕 - 【請求項2】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において
、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に請求項
1記載の一般式〔H〕で表されるヒドラジン誘導体と現
像を抑制する化合物を含有し、該ハロゲン化銀乳剤が塩
化銀含有率50モル%以上の単分散ハロゲン化銀粒子か
らなり、かつ請求項1記載の一般式〔D〕で表される増
感色素を含有したことを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 - 【請求項3】 請求項1記載のハロゲン化銀乳剤にお
いて、乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に、さ
らに現像を抑制する化合物を含有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 請求項1または2または3記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料を、現像時間15秒以下で現像す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。 - 【請求項5】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料を画像露
光後、pH11.0以下の現像液で現像時間15秒以下
で処理する黒白画像形成方法において、該乳剤層または
その他の親水性コロイド層中に、請求項1記載の一般式
〔H〕で表されるヒドラジン誘導体と下記一般式〔1〕
または〔2〕から選ばれた少なくとも1つの化合物と一
般式〔3〕で表される化合物を含有し、該ハロゲン化銀
乳剤が塩素含有率50モル%以上の単分散ハロゲン化銀
粒子からなり、かつ請求項1記載の一般式〔D〕で表さ
れる増感色素を含有したことを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。 【化3】 〔式中、Yは、ハロゲン化銀に吸着する基を表す。Xは
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子から選ばれた
原子または原子群よりなる2個の連結基を表す。Aは2
個の連結基を表す。Bはアミノ基、アンモニウム基及び
含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換されていてもよ
い。mは1,2または3を表し、nは0または1を表す
。〕 【化4】 〔式中、R1、R2は各々水素原子または脂肪族残基を
表す。R1とR2は互いに結合して環を形成してもよい
。R3は2価の脂肪族基を表す。Xは窒素、酸素もしく
は硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。nは0または
1を表し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、4級アンモニウム塩、4級ホスホニウム塩または
アミジノ基を表す。〕 【化5】 〔式中、Yは水素原子またはメルカプト基を表し、Rは
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ
基、ヒドロキシル基、メルカプト基、スルホ基、置換ま
たは非置換のアルキル基、置換または非置換のアルケニ
ル基、置換または非置換のアルキニル基、置換または非
置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、
ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボニル基または
アルコキシカルボニル基を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03760991A JP3261620B2 (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03760991A JP3261620B2 (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04275541A true JPH04275541A (ja) | 1992-10-01 |
| JP3261620B2 JP3261620B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=12502336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03760991A Expired - Fee Related JP3261620B2 (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3261620B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06230497A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた画像形成方法 |
| JPH07114126A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-05-02 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP03760991A patent/JP3261620B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06230497A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた画像形成方法 |
| JPH07114126A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-05-02 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3261620B2 (ja) | 2002-03-04 |
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