JPH04276305A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH04276305A JPH04276305A JP6258991A JP6258991A JPH04276305A JP H04276305 A JPH04276305 A JP H04276305A JP 6258991 A JP6258991 A JP 6258991A JP 6258991 A JP6258991 A JP 6258991A JP H04276305 A JPH04276305 A JP H04276305A
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 92
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 13
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基体の一面上に下部磁
性膜、絶縁膜によって覆われたコイル導体膜及び上部磁
性膜を集積した薄膜磁気ヘッドに関し、集積面となる基
体の一面上に、下部磁性膜のポール部形成面の後方にお
いて落ち込む凹部を設け、凹部内に下部磁性膜を設ける
ことにより、上部磁性膜側のみならず、下部磁性膜にも
エペックス角を持たせ、電磁変換特性を向上させるよう
にしたものである。
性膜、絶縁膜によって覆われたコイル導体膜及び上部磁
性膜を集積した薄膜磁気ヘッドに関し、集積面となる基
体の一面上に、下部磁性膜のポール部形成面の後方にお
いて落ち込む凹部を設け、凹部内に下部磁性膜を設ける
ことにより、上部磁性膜側のみならず、下部磁性膜にも
エペックス角を持たせ、電磁変換特性を向上させるよう
にしたものである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは、例えば特公昭５７ー
１０１９１号（米国特許４，２７９，７０７ 号明細書
） 、特開昭５５ー８４０１９号（米国特許４，１９０
，８７２ 号明細書） 公報等で公知であり、ＩＣ製造
テクノロジーと同様のプロセスに従って、スライダとな
る基体の一面上に磁性膜、コイル導体膜、コイル層間絶
縁膜及び保護膜等を集積した構造となっている。
１０１９１号（米国特許４，２７９，７０７ 号明細書
） 、特開昭５５ー８４０１９号（米国特許４，１９０
，８７２ 号明細書） 公報等で公知であり、ＩＣ製造
テクノロジーと同様のプロセスに従って、スライダとな
る基体の一面上に磁性膜、コイル導体膜、コイル層間絶
縁膜及び保護膜等を集積した構造となっている。
【０００３】図４は従来の薄膜磁気ヘッドの磁気変換素
子部分の構造をモデル化して示す断面図である。１は基
体、２は下部磁性膜、３はアルミナ等でなるギャップ膜
、４は上部磁性膜、５はコイル導体膜、６１〜６３はノ
ボラック樹脂等の有機絶縁樹脂で構成された絶縁膜、７
はアルミナ等の保護膜である。
子部分の構造をモデル化して示す断面図である。１は基
体、２は下部磁性膜、３はアルミナ等でなるギャップ膜
、４は上部磁性膜、５はコイル導体膜、６１〜６３はノ
ボラック樹脂等の有機絶縁樹脂で構成された絶縁膜、７
はアルミナ等の保護膜である。
【０００４】基体１を構成するセラミック構造体１１の
一面１２上に、下部磁性膜２、ギャップ膜３、絶縁膜６
１〜６３によって覆われたコイル導体膜５及び上部磁性
膜４等を集積して、薄膜素子を形成してある。薄膜素子
を形成した面１２に対して側面となる端面１３は空気ベ
アリング面となる。空気ベアリング面１３は、通常は、
レール表面によって構成される。セラミック構造体１１
は代表的にはＡｌ２Ｏ３ーＴｉＣ で構成される。Ａｌ
２Ｏ３ーＴｉＣ 系セラミック構造体１１を用いた場合
には表面にアルミナ等の絶縁膜を形成し、その上に薄膜
素子を集積する。
一面１２上に、下部磁性膜２、ギャップ膜３、絶縁膜６
１〜６３によって覆われたコイル導体膜５及び上部磁性
膜４等を集積して、薄膜素子を形成してある。薄膜素子
を形成した面１２に対して側面となる端面１３は空気ベ
アリング面となる。空気ベアリング面１３は、通常は、
レール表面によって構成される。セラミック構造体１１
は代表的にはＡｌ２Ｏ３ーＴｉＣ で構成される。Ａｌ
２Ｏ３ーＴｉＣ 系セラミック構造体１１を用いた場合
には表面にアルミナ等の絶縁膜を形成し、その上に薄膜
素子を集積する。
【０００５】下部磁性膜２及び上部磁性膜４のそれぞれ
は、パーマロイ等の磁性材料でなり、空気ベアリング面
１３側に、変換ギャップＧ１ を構成するポール部２１
、４１を有しており、反対側にはポール部２１、４１に
連続するヨーク部２２、４２を有している。ポール部２
１、４１はギャップ膜３を介して互いに対向して変換ギ
ャップＧ１ を構成している。ヨーク部２２、４２は磁
気回路を完成するように後方側で互いに結合されている
。
は、パーマロイ等の磁性材料でなり、空気ベアリング面
１３側に、変換ギャップＧ１ を構成するポール部２１
、４１を有しており、反対側にはポール部２１、４１に
連続するヨーク部２２、４２を有している。ポール部２
１、４１はギャップ膜３を介して互いに対向して変換ギ
ャップＧ１ を構成している。ヨーク部２２、４２は磁
気回路を完成するように後方側で互いに結合されている
。
【０００６】コイル導体膜５は、下部磁性膜２及び上部
磁性膜と共に薄膜磁気回路を構成している。コイル導体
膜５は、通常、ＣＵ／Ｔｉのスパッタ膜でなる下地導体
膜の上にＣＵメッキでなる導体膜を積層して設けた構造
とされ、磁性膜２、４のヨーク部２２、４２の結合部の
まわりに渦巻状に形成されている。
磁性膜と共に薄膜磁気回路を構成している。コイル導体
膜５は、通常、ＣＵ／Ｔｉのスパッタ膜でなる下地導体
膜の上にＣＵメッキでなる導体膜を積層して設けた構造
とされ、磁性膜２、４のヨーク部２２、４２の結合部の
まわりに渦巻状に形成されている。
【０００７】上部磁性膜４は、ポール部４１が基体１の
面１２に対して実質的に平行となり高さを変えずに延び
る部分４１１と、絶縁膜６１〜６３の傾斜に従って基体
１の一面から次第に離れながら立ち上る部分４１２とを
有している。部分４１２と絶縁ギャップ膜３とのなす角
θは、当業者間ではエペックス角（ａｐｅｘ ａｎｇｌ
ｅ）と称されている。下部磁性膜２は、ポール部２１及
びヨーク部２２を含めた全体が基体１の面１２とほぼ平
行となるように形成されている。
面１２に対して実質的に平行となり高さを変えずに延び
る部分４１１と、絶縁膜６１〜６３の傾斜に従って基体
１の一面から次第に離れながら立ち上る部分４１２とを
有している。部分４１２と絶縁ギャップ膜３とのなす角
θは、当業者間ではエペックス角（ａｐｅｘ ａｎｇｌ
ｅ）と称されている。下部磁性膜２は、ポール部２１及
びヨーク部２２を含めた全体が基体１の面１２とほぼ平
行となるように形成されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の薄膜磁気ヘッドは、上部磁性膜４のポール部４１にエ
ペックス角θが付されているけれども、下部磁性膜２は
、ポール部２１及びヨーク部２２を含めた全体が基体１
の面１２とほぼ平行となるように形成されていて、エペ
ックス角が零である。このため、読み書き動作時に、上
部磁性膜４のポール部４１の立ち上り部分４１２の内側
において、下部磁性膜２と上部磁性膜４との間で漏洩す
る磁束φが増大し、電磁変換効率が低下するという問題
点があった。
の薄膜磁気ヘッドは、上部磁性膜４のポール部４１にエ
ペックス角θが付されているけれども、下部磁性膜２は
、ポール部２１及びヨーク部２２を含めた全体が基体１
の面１２とほぼ平行となるように形成されていて、エペ
ックス角が零である。このため、読み書き動作時に、上
部磁性膜４のポール部４１の立ち上り部分４１２の内側
において、下部磁性膜２と上部磁性膜４との間で漏洩す
る磁束φが増大し、電磁変換効率が低下するという問題
点があった。
【０００９】そこで、本発明の課題は、上述する従来の
問題点を解決し、ポール部の内側における磁束漏洩を減
少させ、電磁変換特性を向上させることである。
問題点を解決し、ポール部の内側における磁束漏洩を減
少させ、電磁変換特性を向上させることである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述する課題解決のため
、本発明は、基体の一面上に下部磁性膜、絶縁膜によっ
て覆われたコイル導体膜及び上部磁性膜を集積した薄膜
磁気ヘッドであって、前記下部磁性膜及び前記上部磁性
膜は、ギャップ膜を介して対向するポール部及び前記ポ
ール部に連なり磁気回路を完成するように結合されるヨ
ーク部をそれぞれ有しており、前記コイル導体膜は、前
記ヨーク部の結合部の周りを渦巻状に回るように配置さ
れており、前記基体は、前記一面側に、前記下部磁性膜
の前記ポール部形成面の後方において前記ポール部形成
面から落ち込む凹部を有しており、前記下部磁性膜は、
前記凹部を含む面内に設けられていることを特徴とする
。
、本発明は、基体の一面上に下部磁性膜、絶縁膜によっ
て覆われたコイル導体膜及び上部磁性膜を集積した薄膜
磁気ヘッドであって、前記下部磁性膜及び前記上部磁性
膜は、ギャップ膜を介して対向するポール部及び前記ポ
ール部に連なり磁気回路を完成するように結合されるヨ
ーク部をそれぞれ有しており、前記コイル導体膜は、前
記ヨーク部の結合部の周りを渦巻状に回るように配置さ
れており、前記基体は、前記一面側に、前記下部磁性膜
の前記ポール部形成面の後方において前記ポール部形成
面から落ち込む凹部を有しており、前記下部磁性膜は、
前記凹部を含む面内に設けられていることを特徴とする
。
【００１１】
【作用】基体は、薄膜素子を集積する一面側に、下部磁
性膜のポール部形成面の後方において、ポール部形成面
から落ち込む凹部を有しており、下部磁性膜は凹部を含
む面内に形成されているから、下部磁性膜のポール部に
もエペックス角が付与される。従来のシングル．エペッ
クス型からダブル．エペックス型になる。このため、ポ
ール部の内側における漏洩磁束が減少し、電磁変換特性
が向上する。
性膜のポール部形成面の後方において、ポール部形成面
から落ち込む凹部を有しており、下部磁性膜は凹部を含
む面内に形成されているから、下部磁性膜のポール部に
もエペックス角が付与される。従来のシングル．エペッ
クス型からダブル．エペックス型になる。このため、ポ
ール部の内側における漏洩磁束が減少し、電磁変換特性
が向上する。
【００１２】
【実施例】図１は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの薄膜素
子部分の拡大断面図である。図において、図４と同一の
参照符号は、同一性ある構成部分を示している。基体１
は、薄膜素子を集積する一面１２側に、下部磁性膜２の
ポール部形成面１４の後方において、ポール部形成面１
４から落ち込む凹部１５を有している。下部磁性膜２は
凹部１５を含む面内に形成されている。従って、下部磁
性膜２のポール部２１にもエペックス角θ２が付与され
る。上部磁性膜４のポール部４１は絶縁膜６１〜６３の
傾斜に従って基体１の一面から次第に離れる立ち上り部
分４１２を有しており、立ち上り部分４１２と絶縁ギャ
ップ膜３との間にエペックス角θ１が形成されているか
ら、ダブル．エペックス型になる。このため、ポール部
２１、４１の内側における磁束漏洩が減少し、電磁変換
特性が向上する。凹部１５はエペック角が確保できるよ
うな形状であればよく、図示のような態様に限定されな
い。図示よりも、ずっと狭くなるような形状で、上部磁
性膜４の立ち上り部分４１２の基部付近に溝状に設ける
ことも可能である。
子部分の拡大断面図である。図において、図４と同一の
参照符号は、同一性ある構成部分を示している。基体１
は、薄膜素子を集積する一面１２側に、下部磁性膜２の
ポール部形成面１４の後方において、ポール部形成面１
４から落ち込む凹部１５を有している。下部磁性膜２は
凹部１５を含む面内に形成されている。従って、下部磁
性膜２のポール部２１にもエペックス角θ２が付与され
る。上部磁性膜４のポール部４１は絶縁膜６１〜６３の
傾斜に従って基体１の一面から次第に離れる立ち上り部
分４１２を有しており、立ち上り部分４１２と絶縁ギャ
ップ膜３との間にエペックス角θ１が形成されているか
ら、ダブル．エペックス型になる。このため、ポール部
２１、４１の内側における磁束漏洩が減少し、電磁変換
特性が向上する。凹部１５はエペック角が確保できるよ
うな形状であればよく、図示のような態様に限定されな
い。図示よりも、ずっと狭くなるような形状で、上部磁
性膜４の立ち上り部分４１２の基部付近に溝状に設ける
ことも可能である。
【００１３】図２は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の
実施例における断面図である。凹部１５は、上部磁性膜
４の立ち上り部４１２の基部よりも後方の位置で落ち込
むように設けられている。図３は本発明に係る薄膜磁気
ヘッドの更に別の実施例における断面図を示している。 この実施例では、凹部１５は、上部磁性膜４の立ち上り
部４１２の基部よりも前方の位置で落ち込むように設け
られている。何れの実施例の場合も、ポール部２１、４
１の内側における磁束漏洩を減少させ、電磁変換特性を
向上させることができる。
実施例における断面図である。凹部１５は、上部磁性膜
４の立ち上り部４１２の基部よりも後方の位置で落ち込
むように設けられている。図３は本発明に係る薄膜磁気
ヘッドの更に別の実施例における断面図を示している。 この実施例では、凹部１５は、上部磁性膜４の立ち上り
部４１２の基部よりも前方の位置で落ち込むように設け
られている。何れの実施例の場合も、ポール部２１、４
１の内側における磁束漏洩を減少させ、電磁変換特性を
向上させることができる。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明に係る薄膜磁
気ヘッドは、集積面となる基体の一面上に、下部磁性膜
のポール部形成面の後方においてポール部形成面から落
ち込む凹部を設け、凹部を含む面内に下部磁性膜を設け
てあるから、上部磁性膜側のみならず、下部磁性膜側に
もエペックス角を持たせ、電磁変換特性を向上させた薄
膜磁気ヘッドを提供することができる。
気ヘッドは、集積面となる基体の一面上に、下部磁性膜
のポール部形成面の後方においてポール部形成面から落
ち込む凹部を設け、凹部を含む面内に下部磁性膜を設け
てあるから、上部磁性膜側のみならず、下部磁性膜側に
もエペックス角を持たせ、電磁変換特性を向上させた薄
膜磁気ヘッドを提供することができる。
【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁気変換素子部
分の構造をモデル化して示す断面図である。
分の構造をモデル化して示す断面図である。
【図２】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例にお
ける磁気変換素子部分の構造をモデル化して示す断面図
である。
ける磁気変換素子部分の構造をモデル化して示す断面図
である。
【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例にお
ける磁気変換素子部分の構造をモデル化して示す断面図
である。
ける磁気変換素子部分の構造をモデル化して示す断面図
である。
【図４】従来の薄膜磁気ヘッドにおける磁気変換素子部
分の構造をモデル化して示す断面図である。 １ 基体 ２ 下部磁性膜２１
ポール部２２
ヨーク部３ ギャップ
膜４ 上部磁性膜４１
ポール部４２
ヨーク部５ コイル
導体膜６１〜６３ 絶縁膜 １４ ポール部形成面１５
凹部
分の構造をモデル化して示す断面図である。 １ 基体 ２ 下部磁性膜２１
ポール部２２
ヨーク部３ ギャップ
膜４ 上部磁性膜４１
ポール部４２
ヨーク部５ コイル
導体膜６１〜６３ 絶縁膜 １４ ポール部形成面１５
凹部
Claims (1)
- 【請求項１】 基体の一面上に下部磁性膜、絶縁膜に
よって覆われたコイル導体膜及び上部磁性膜を集積した
薄膜磁気ヘッドであって、前記下部磁性膜及び前記上部
磁性膜は、ギャップ膜を介して対向するポール部及び前
記ポール部に連なり磁気回路を完成するように結合され
るヨーク部をそれぞれ有しており、前記コイル導体膜は
、前記ヨーク部の結合部の周りを渦巻状に回るように配
置されており、前記基体は、前記一面側に、前記下部磁
性膜の前記ポール部形成面の後方において前記ポール部
形成面から落ち込む凹部を有しており、前記下部磁性膜
は、前記凹部を含む面内に設けられていることを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6258991A JPH04276305A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6258991A JPH04276305A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04276305A true JPH04276305A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13204663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6258991A Pending JPH04276305A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04276305A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0589430A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-04-09 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH05120630A (ja) * | 1991-04-25 | 1993-05-18 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP6258991A patent/JPH04276305A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05120630A (ja) * | 1991-04-25 | 1993-05-18 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPH0589430A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-04-09 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990629 |