JPH04276310A - デジタル記録媒体 - Google Patents

デジタル記録媒体

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JPH04276310A
JPH04276310A JP3037556A JP3755691A JPH04276310A JP H04276310 A JPH04276310 A JP H04276310A JP 3037556 A JP3037556 A JP 3037556A JP 3755691 A JP3755691 A JP 3755691A JP H04276310 A JPH04276310 A JP H04276310A
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JP
Japan
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film
flat surface
digital recording
young
modulus
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JP3037556A
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English (en)
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Shigeo Uchiumi
滋夫 内海
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Diafoil Co Ltd
Original Assignee
Diafoil Co Ltd
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    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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    • G11B5/73923Organic polymer substrates
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、デジタル記録媒体に関
するものである。さらに詳しくは、本発明は電磁変換特
性および耐久走行性に優れるとともに長時間記録可能な
デジタル記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近年
、高密度磁気記録媒体の磁気記録層として金属薄膜を真
空蒸着やスパッタリングのような真空沈着法、メッキ法
等によって非磁性支持体上に形成したものが提案されて
いる。このような薄膜形式手段によって形成される金属
薄膜は、その膜厚が薄く、非磁性支持体の表面の凹凸が
、そのまま磁性膜の凹凸として発現するため、非磁性支
持体の表面は、出来るだけ平滑であることが必要である
が、フィルムの巻き取り巻き出しといったハンドリング
性を向上させたり、フィルム製膜時にフィルムに生じる
傷を低減させたりするためには、フィルムの表面は、む
しろ粗面化されていることが好ましい。
【0003】デジタル記録媒体に対して求められる諸特
性を損なうことなく、上記の二律排反の性質を同時に満
足させたのの開発が切望されていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
鑑み鋭意検討した結果、ある特定の構成からなるポリエ
ステルフィルムを支持体とすることにより、優れたデジ
タル記録媒体が得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。すなわち、本発明の要旨は、横延伸前に
滑剤を含有する塗布液による塗布が施され、横延伸後、
再縦延伸されることなく熱固定されて得られる、下記式
■〜■を同時に満足するポリエチレンナフタレートフィ
ルムの平坦面側に、強磁性金属薄膜が設けられてなるデ
ジタル記録媒体に存する。 YMD  ≧  800      ……■YTD  
≧  700      ……■Ra  ≦  0.0
08  ……■ H1   ≦  10        ……■(上記式
中、YMDはフィルム縦方向のヤング率(kg/mm2
)、YTDはフィルム横方向のヤング率(kg/mm2
 )、Raはフィルムの平坦面の中心線平均粗度(μm
)、H1 はフィルム平坦面の多重干渉法により測定さ
れる高さ0.27μm以上の突起数(個/100cm2
 )を示す)以下、本発明を詳細に説明する。
【0005】本発明で用いるポリエチレンナフタレート
とは、その構成単位が実質的にエチレン−2,6−ナフ
タレート単位から構成されているポリマーを指すが、1
0モル%以下、好ましくは5モル%以下の第三成分によ
って変性されたエチレン−2,6−ナフタレートポリマ
ーも含まれる。ポリエチレン−2,6−ナフタレートは
一般にナフタレン−2,6−ジカルボン酸またはナフタ
レン−2,6−ジカルボン酸メチルのような誘導体とエ
チレングリコールとを触媒の存在下で適当な反応条件下
で重縮合させることによって製造することができる。重
合に際して、第三成分として、アジピン酸、シュウ酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレン−2,7−ジ
カルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等のジカ
ルボン酸またはその低級アルキルエステル;P−オキシ
安息香酸、P−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカル
ボン酸またはその低級アルキルエステル;プロピレング
リコール、トリメチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、ジエチレングリコール等の2価のアルコー
ル;ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリ
コール等のポリアルキレングリコール等も用いることが
できる。また、ポリエチレンナフタレート中に二酸化チ
タン等の艶消剤、リン酸、亜リン酸およびそれらのエス
テル等の安定剤、ヒンダードフェノール等の酸化防止剤
、重合調整剤、高級脂肪族カルボン酸等の結晶化調節剤
、可塑剤等を添加してもよい。
【0006】本発明で用いるポリエチレンナフタレート
は、重合度が低すぎるとフィルム化後の機械的性質が低
下するので、その極限粘度は通常、0.40以上、好ま
しくは0.5〜0.7の範囲に調整する。フィルム製造
時にフィルムに傷が生じるのを防止するために、通常、
フィルム中に微細な不活性粒子を含有させる。不活性粒
子としては、例えば、アルミナ、カオリン、タルク、炭
酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カ
ルシウム、リン酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸
化ケイ素、酸化チタン、フッ化リチウム、カーボンブラ
ックおよびCa、Ba、Zn、Mn等のテレフタル酸金
属塩等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
【0007】不活性粒子の形状は、球状、塊状、あるい
は偏平状のいずれでもあってもよく、その硬度、比重、
色等についても特に制限はない。不活性粒子の平均粒径
は、通常、等価球直径で0.001〜10μm、好まし
くは0.1〜3μmの範囲から選ばれる。フィルムに対
する不活性粒子の配合量は、通常、0.01〜1重量%
、好ましくは0.01〜0.5重量%、さらに好ましく
は0.02〜0.3重量%の範囲から選択される。製膜
時にロールとフィルムとの接触による傷を防止するため
、微小アルミナ粒子を0.001〜0.3重量%程度、
含有させることが好ましい。
【0008】本発明で用いるフィルムの平坦面側表面の
中心線平均粗度Raは0.008μm以下であり、好ま
しくは0.006μm以下、さらに好ましくは0.00
4μm以下である。ただしRaが0.008μm以下で
あっても、粗大突起が存在すると、ドロップアウト等の
原因となるため、多重干渉法により測定される1次以上
(高さ0.27μm以上)の突起数が10個/100c
m2以下となるよう調整しなければならない。
【0009】粗大突起数を減少させる方法としては、ポ
リエチレンナフタレートの溶融粘性が高いため、溶融押
出製膜時にフィルターで除去することが困難であり、あ
らかじめ、ポリエチレンナフタレート重合時に粗大粒子
を除去することが好ましい。フィルターとしては、通常
、リーフタイプフィルターが用いられ、その材質として
は、金網、燃結金網、燃結金属等が好ましく、これ以外
の金属粒、砂、ガラスビーズ、針金等の粒状充填材は再
生が困難なため好ましくない。フィルターのメッシュは
、1000〜10000メッシュの範囲が好ましい。
【0010】本発明で用いるポリエチレンナフタレート
フィルムは、縦方向のヤング率(YMD)が800kg
/mm2 以上、横方向のヤング率(YTD)が700
kg/mm2 以上であり、好ましくは、縦・横ともに
ヤング率800kg/mm2 以上、さらに好ましくは
、YMDが1000kg/mm2 以上でかつYTDが
800kg/mm2 以上である。YMDおよびYTD
が上記条件を満足しないフィルムでは、デジタル記録媒
体として実用に供することができない。
【0011】本発明では、かかる高強度のフィルムを再
縦延伸することなく製造するが、通常、ある特殊な縦延
伸条件を採用する。すなわち、縦延伸時にフィルムの複
屈折率Δnが0.100を超える領域においては、ガラ
ス転移温度(Tg)以下にフィルムを冷却することなく
連続かつ降温条件下で、好ましくは多段で延伸する。
【0012】本発明のフィルムは、横延伸前に滑剤を含
有する塗布液による塗布が施されたものであり、滑剤と
してはアクリル酸アルミニウム、モリブデン、微細シリ
カ、フッ素樹脂等が通常用いられるが、いわゆる山脈状
の不連続塗布層を設ける場合には、分子量3万〜30万
の鎖状シリコーン化合物(a),シランカップリング剤
(b),水溶性高分子(c),ワックス(d)を(a)
:(b):(c):(d)=10〜100:5〜100
:10〜200:0〜200(重量化)の範囲内で混合
したものを用いればよい。
【0013】上記塗布後、横延伸し、再縦延伸すること
なく熱固定して本発明で用いるフィルムが得られ、Ra
が0.008μm以下の平坦面に、常法に従って無電解
メッキ、電解メッキ、スパッタリング、イオンプレーテ
ィングにより金属薄膜を形成する。
【0014】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
例に限定されるものではない。なお、本発明におけるフ
ィルムの評価法は以下のとおりである。 (1)ヤング率 25℃、50%RHにて東洋ボールドウイン社製テンシ
ロンOTM−II型を用いて下記の条件にて測定した。 試料形状      短冊型(長さ15cm巾1cm)
チャック間隔        10cm引張速度   
       100%/cm(2)中心線平均表面粗
さ(Ra;μm)小坂研究所社製表面粗さ測定器(SE
−3FK)によって次のように求めた。触針の先端半径
は2μm、荷重は30mgとし、フィルム断面曲線から
その中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を
抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の
方向をy軸として、粗さ曲線y=f(x)で表したとき
、次の式で与えられた値をμmで表した。ただしカット
オフ値は80μmとし、Raは縦方向に5点、横方向に
5点の計10点の不均値を求めた。
【0015】
【数1】 (3)粗大突起数(H1 ) フィルム表面にアルミニウム蒸着を施した後、日本光学
(株)製サーフェイスフィニッシュマイクロスコープを
用い多重干渉法により測定波長0.54μmで干渉縞を
出し、干渉縞の1次以上の数を10cm2 の面積分カ
ウントし、100cm2 に換算した。なお、測定の際
のミラー反射率は65%とした。
【0016】実施例1 (ポリエチレンナフタレートの製造)ナフタレン−2,
6−ジカルボン酸ジメチル100部、エチレングリコー
ル60部および酢酸カルシウム−水塩0.1部を反応器
にとりエステル交換反応を行った。すなわち反応開始温
度を180℃とし、メタノールの留出と共に徐々に反応
温度を上昇させ、4時間後230℃まで昇温し実質的に
エステル交換反応を終了させた。
【0017】次いでリン酸0.04部を添加した後、平
均粒径0.3μmの酸化チタン0.30部および三酸化
アンチモン0.04部を添加し常法により重縮合反応を
行った。すなわち温度を徐々に高めると共に圧力を常圧
より徐々に減じ、温度を290℃、圧力を0.3mmH
gとした。反応開始後4時間を経た時点で反応を停止し
窒素加圧下ポリエチレンナフタレートを吐出させた。こ
の溶融ポリマーをそのまま押出機に直結し2500メッ
シュ相当のフィルターでろ過した後、ストランド状に抜
き出しカットしてチップ状にし、重合体原料とした。得
られたポリエチレンナフタレート重合体原料(A)は極
限粘度0.60であった。
【0018】また、平均粒径0.20μmのシリカを0
.12重量%含有する以外は、上記と同様に製造し原料
(B)とした。 (ポリエチレンナフタレートフィルムの製造)次に原料
(A)と原料(B)を1:1で混合したものを乾燥し、
295℃で押出機よりシート状に押出し静電印加冷却法
を用いて無定形シートとした。その際2000メッシュ
相当および2500メッシュ相当の2段フィルターを用
いてろ過した。
【0019】得られた無定形フィルムをまず1段目とし
てフィルム温度135℃で2.5倍延伸後、フィルム温
度をTg以下に冷却することなく連続で2段目として1
20℃で2.0倍延伸し縦延伸フィルムとした。縦延伸
後、横延伸に供する前に、片面には下記の水性エマルジ
ョン(C)を他面にはコロイド含有コポリエステルエー
テル水溶液を両面コートした後130℃で4.1倍横延
伸を行った。 〔水性エマルジョン(C)〕     エポキシ化ポリジメチルシロキサンエマルジョ
ン:0.42wt%    シランカップリング剤〔N
−β(アミノエチル)    γ−アミノプロピルメチ
ルジメトキシシラン〕  :0.048wt%    
アルキルフェノール系非イオン界面活性剤      
:0.20wt%得られたフィルムを180℃で熱固定
後、さらに1.1倍横方向に延伸した後、220℃で熱
固定し横・縦共に弛緩を行って4.5μmのフィルムを
得た。
【0020】得られたポリエステル表面のうち平滑面側
(コロイド含有コポリエステルエーテル塗布面)に真空
蒸着によりコバルト−鉄合金薄膜を1500Åの膜厚に
て形成した。次いでエポキシ樹脂、シリコーン・シラン
カップリング剤とからなる保護膜層をコバルト−鉄合金
薄膜表面上に0.1μmの膜厚で設けた後、反対面に公
知の手段でバックコート層を設けて所定の幅に長手方向
に切断し、磁気テープとした。かくして得られた磁気テ
ープはベースフィルムが4.5μmと極めて薄いもので
あるにもかかわらず、傷もなくドロップアウト、S/N
比等電磁変換特性、磁気テープの走行性、走行耐久性と
もに優れたデジタル記録媒体であった。
【0021】実施例2.3 実施例1と同じポリエチレン−2,6−ナフタレートを
用いて、製膜条件および厚みを変更して種々のフィルム
物性を有する二軸配向フィムルを作成し、これらのフィ
ルムを用いて実施例1と同様の方法で磁気テープ化して
評価したところ極めて良好なものであった。
【0022】比較例1 素材をポリエチレンテレフタレートとして縦、横ともに
高強度の厚み4.5μmのフィルムを用い、磁気テープ
化を行ったが、蒸着不良が生じ、磁気テープ化困難であ
った。
【0023】比較例2 実施例1において製膜条件を変えて表1の物性のフィル
ムを作成し磁気テープ化したところ、耐久性の劣ったも
のであった。
【0024】
【表1】
【発明の効果】本発明のデジタル記録媒体は優れた電磁
変換特性および耐久走行性を有し、長時間記録可能なも
のであり、その工業的価値は高い。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  横延伸前に滑剤を含有する塗布液によ
    る塗布が施され、横延伸後、再縦延伸されることなく熱
    固定されて得られる、下記式■〜■を同時に満足するポ
    リエチレンナフタレートフィルムの平坦面側に、強磁性
    金属薄膜が設けられてなるデジタル記録媒体。 YMD  ≧  800      ……■YTD  
    ≧  700      ……■Ra  ≦  0.0
    08  ……■ H1   ≦  10        ……■(上記式
    中、YMDはフィルム縦方向のヤング率(kg/mm2
    )、YTDはフィルム横方向のヤング率(kg/mm2
     )、Raはフィルムの平坦面の中心線平均粗度(μm
    )、H1 はフィルム平坦面の多重干渉法により測定さ
    れる高さ0.27μm以上の突起数(個/100cm2
     )を示す)
JP3037556A 1991-03-04 1991-03-04 デジタル記録媒体 Pending JPH04276310A (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008208389A (ja) * 2007-02-23 2008-09-11 Kaneka Corp 無電解めっき用材料、積層体及びプリント配線板

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JPS62113529A (ja) * 1985-11-13 1987-05-25 Diafoil Co Ltd ポリエチレンナフタレ−トフイルム

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