JPH04279206A - 圧延機用小径ロールの研磨方法 - Google Patents
圧延機用小径ロールの研磨方法Info
- Publication number
- JPH04279206A JPH04279206A JP4336991A JP4336991A JPH04279206A JP H04279206 A JPH04279206 A JP H04279206A JP 4336991 A JP4336991 A JP 4336991A JP 4336991 A JP4336991 A JP 4336991A JP H04279206 A JPH04279206 A JP H04279206A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- roll
- small diameter
- film
- small
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、仕上研磨に研磨フィ
ルムを一定接触圧で使用する圧延機用小径ロールの研磨
方法に関する。
ルムを一定接触圧で使用する圧延機用小径ロールの研磨
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】圧延機用小径ロールは、一般に直径20
0mm以下のものであって、その材質としてはダイス鋼
、セミハイス鋼、ハイス鋼等が用いられる。また、これ
らのロールの硬さはショア硬度でダイス鋼はHs75〜
85、セミハイス鋼Hs80〜90、ハイス鋼では
Hs85〜95といったように非常に硬いものであり、
またロール表面粗度も中心線平均粗さRa0.03〜0
.2μm程度のかなり微細な仕上状態を必要とする。
0mm以下のものであって、その材質としてはダイス鋼
、セミハイス鋼、ハイス鋼等が用いられる。また、これ
らのロールの硬さはショア硬度でダイス鋼はHs75〜
85、セミハイス鋼Hs80〜90、ハイス鋼では
Hs85〜95といったように非常に硬いものであり、
またロール表面粗度も中心線平均粗さRa0.03〜0
.2μm程度のかなり微細な仕上状態を必要とする。
【0003】一般に、圧延機用小径ロールの研磨方法は
、図5に示すような外形が400〜800mm、幅40
〜80mm、材質はAl2 O3 、SiCである回転
砥石1を用い、図6に示すような構成とした装置で研磨
を行っていた。すなわち、この装置による方法では、砥
石1をモータ3でVベルト2を介し500〜1000γ
pmの高速で回転させ、10〜100γpmの低速で回
転する圧延機用小径ロール4(以下、単にロールという
)に接触させてロール表面を研磨するもので、砥石1を
ロール押え5で軸心を支持されたロール4の軸方向に移
動させてロール4全面を研磨するようになっている。こ
こで、砥石1の上記移動は3〜5回程度で、前段の移動
は疵取り、寸法出し(ロール径出し)を目的とし、後段
の移動は表面粗度調整を目的とする。
、図5に示すような外形が400〜800mm、幅40
〜80mm、材質はAl2 O3 、SiCである回転
砥石1を用い、図6に示すような構成とした装置で研磨
を行っていた。すなわち、この装置による方法では、砥
石1をモータ3でVベルト2を介し500〜1000γ
pmの高速で回転させ、10〜100γpmの低速で回
転する圧延機用小径ロール4(以下、単にロールという
)に接触させてロール表面を研磨するもので、砥石1を
ロール押え5で軸心を支持されたロール4の軸方向に移
動させてロール4全面を研磨するようになっている。こ
こで、砥石1の上記移動は3〜5回程度で、前段の移動
は疵取り、寸法出し(ロール径出し)を目的とし、後段
の移動は表面粗度調整を目的とする。
【0004】また、小径ロールを研磨する場合、ロール
の撓みが問題となるため、ロール撓み調整装置8を2〜
3個、砥石1とは反対側に設置し、研磨や常時この調整
を行う。これは図7に示すように、上記調整装置8を横
方向に移動し、砥石径の減少に伴うロール4との接触圧
の減少を補償するように調整するものである。
の撓みが問題となるため、ロール撓み調整装置8を2〜
3個、砥石1とは反対側に設置し、研磨や常時この調整
を行う。これは図7に示すように、上記調整装置8を横
方向に移動し、砥石径の減少に伴うロール4との接触圧
の減少を補償するように調整するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の方法では以下のような問題があった。研磨
中にロールは研削され、砥石は砥粒が脱落してそれぞれ
径が小さくなるため、絶えずロールと砥石の接触状況が
変化する。そこで変化する接触状況を調整するために、
ロール撓み調整装置や砥石回転状態(回転速度─モータ
負荷電流、砥石移動速度)を人手によって調整していた
。その結果、作業時間やロールの仕上り表面粗度に個人
差が発生した。特に小径ロールの仕上研磨ではロールの
撓みも生じ、また表面粗度が小さいため、相対的に個人
差が大きく表れることになる。
ような従来の方法では以下のような問題があった。研磨
中にロールは研削され、砥石は砥粒が脱落してそれぞれ
径が小さくなるため、絶えずロールと砥石の接触状況が
変化する。そこで変化する接触状況を調整するために、
ロール撓み調整装置や砥石回転状態(回転速度─モータ
負荷電流、砥石移動速度)を人手によって調整していた
。その結果、作業時間やロールの仕上り表面粗度に個人
差が発生した。特に小径ロールの仕上研磨ではロールの
撓みも生じ、また表面粗度が小さいため、相対的に個人
差が大きく表れることになる。
【0006】また、回転砥石は、表面が磨耗した砥粒が
脱落し、新砥粒面が表面にで出て始めて研磨が可能とな
るので、新砥粒面の露出量によって研磨仕上げ状況がか
わってくる。すなわち、新砥粒面が多ければロール表面
粗度は大きくなり、少なければ粗度は小さくなる。回転
砥石はこの調整が人手に任されるため個人差が大きくな
る。特に粗度の小さい仕上研磨では個人差が大きく表れ
るため、新しい研磨方法を開発する必要があった。
脱落し、新砥粒面が表面にで出て始めて研磨が可能とな
るので、新砥粒面の露出量によって研磨仕上げ状況がか
わってくる。すなわち、新砥粒面が多ければロール表面
粗度は大きくなり、少なければ粗度は小さくなる。回転
砥石はこの調整が人手に任されるため個人差が大きくな
る。特に粗度の小さい仕上研磨では個人差が大きく表れ
るため、新しい研磨方法を開発する必要があった。
【0007】本発明は、このような従来の問題点にかん
がみてなされたものであって、仕上研磨において研磨フ
ィルムをロールとの接触圧を変えることなく一定先送り
で研磨する方法とすることにより、上記課題を解決する
ことを目的としている。
がみてなされたものであって、仕上研磨において研磨フ
ィルムをロールとの接触圧を変えることなく一定先送り
で研磨する方法とすることにより、上記課題を解決する
ことを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するため、圧延機用小径ロールの研磨に際し、疵取
り、寸法出しを行なう粗研磨は回転砥石を使用し、表面
の粗度調整を行なう仕上げ研磨は、表面に砥粒を吹付け
て薄く層成した研磨フィルムを、前記小径ロールとの接
触圧力を変えずに一定送りで研磨する圧延機用小径ロー
ルの研磨方法としたものである。
達成するため、圧延機用小径ロールの研磨に際し、疵取
り、寸法出しを行なう粗研磨は回転砥石を使用し、表面
の粗度調整を行なう仕上げ研磨は、表面に砥粒を吹付け
て薄く層成した研磨フィルムを、前記小径ロールとの接
触圧力を変えずに一定送りで研磨する圧延機用小径ロー
ルの研磨方法としたものである。
【0009】
【作用】本発明は、小径ロールの疵取り、寸法出しを行
う粗研磨工程では従来においても不具合を生じなかった
回転砥石を用いて従来方法により粗研磨を行ない、ロー
ル表面の粗度調整を行う仕上研磨では、フィルム上に薄
く吹付けて砥粒層を形成した研磨フィルム(ラッピング
フィルム)を、例えばエンドレス状に形成し、これを図
2に示すように回転用ローラとコンタクトローラ間に張
架し、回転用ローラをモータで定速回転させてラッピン
ングフィルムを一定送りする。また小径ロールとフィル
ムを介して接触するコンタクトローラの接触圧は、コン
タクトローラを接触方向へ押圧する流体圧シリンダを制
御して一定に保つことができる。従って、この接触圧を
変えずに一定送りを行うことを人手に依らずに正確に制
御して研磨することは容易である。以上により、仕上面
粗度の拡大された個人差やロールの撓みによる影響を解
消でき、品質、能率とも優れた研磨が可能となる。
う粗研磨工程では従来においても不具合を生じなかった
回転砥石を用いて従来方法により粗研磨を行ない、ロー
ル表面の粗度調整を行う仕上研磨では、フィルム上に薄
く吹付けて砥粒層を形成した研磨フィルム(ラッピング
フィルム)を、例えばエンドレス状に形成し、これを図
2に示すように回転用ローラとコンタクトローラ間に張
架し、回転用ローラをモータで定速回転させてラッピン
ングフィルムを一定送りする。また小径ロールとフィル
ムを介して接触するコンタクトローラの接触圧は、コン
タクトローラを接触方向へ押圧する流体圧シリンダを制
御して一定に保つことができる。従って、この接触圧を
変えずに一定送りを行うことを人手に依らずに正確に制
御して研磨することは容易である。以上により、仕上面
粗度の拡大された個人差やロールの撓みによる影響を解
消でき、品質、能率とも優れた研磨が可能となる。
【0010】
【実施例】以下、本発明を図面を参照して説明する。図
1は本発明の研磨方法に使用する研磨装置の実施例概要
図である。なお、従来例と同一の部分については同一符
号を付し、重複する説明を省く。
1は本発明の研磨方法に使用する研磨装置の実施例概要
図である。なお、従来例と同一の部分については同一符
号を付し、重複する説明を省く。
【0011】図において、フレームAは従来例と同様に
回転砥石1を具えた粗研磨部、フレームBは本発明に係
るラッピングフィルム14を具えた仕上げ研磨部で、こ
の両フレームは被研磨物である小径ロール4の軸に対し
て直角方向に移動可能にフレームCに配設され、フレー
ムCはロール軸に平行に往復可能に設けられている。
回転砥石1を具えた粗研磨部、フレームBは本発明に係
るラッピングフィルム14を具えた仕上げ研磨部で、こ
の両フレームは被研磨物である小径ロール4の軸に対し
て直角方向に移動可能にフレームCに配設され、フレー
ムCはロール軸に平行に往復可能に設けられている。
【0012】フレームBに具えられた仕上げ研磨部には
、図2に示すようにラッピングフィルム14がフィルム
回転用ローラ9とコンタクトローラ10間に張架され、
回転用ローラ9をモータ3で回転させてフィルム14を
一定送り(本実施例では5〜100mm/分)するよう
になっている。また、コンタクトローラ部分は、図3に
示すように流体圧シリンダ11でラッピングフィルム1
4を一定圧力(1〜50kg/cm)で小径ロール4へ
押し付けることができる。ラッピングフィルム14は、
図4に示すように厚さ数10〜数100μmのフィルム
13(材質はポリエステルなど)に砥粒12(SiO2
、SiC)を数10〜数100μmの薄さに吹き付け
て層成し、エンドレステープ状に形成したものである。 砥粒の大きさとしては例えば220番〜1000番が好
適である。
、図2に示すようにラッピングフィルム14がフィルム
回転用ローラ9とコンタクトローラ10間に張架され、
回転用ローラ9をモータ3で回転させてフィルム14を
一定送り(本実施例では5〜100mm/分)するよう
になっている。また、コンタクトローラ部分は、図3に
示すように流体圧シリンダ11でラッピングフィルム1
4を一定圧力(1〜50kg/cm)で小径ロール4へ
押し付けることができる。ラッピングフィルム14は、
図4に示すように厚さ数10〜数100μmのフィルム
13(材質はポリエステルなど)に砥粒12(SiO2
、SiC)を数10〜数100μmの薄さに吹き付け
て層成し、エンドレステープ状に形成したものである。 砥粒の大きさとしては例えば220番〜1000番が好
適である。
【0013】上記構成の研磨装置により、小径ロール4
の研磨を行うには、先ず仕上げ研磨部であるフレームB
をロール4から後退させ、粗研磨部であるフレームAの
みをロール4に近接させ、回転砥石1をロール4に転接
させるとともにフレームCを左右に往復運動させて、従
来例と同様に疵取り、寸法出し研磨を行う。次に粗研磨
が完了したらフレームAをロール4から後退させ、フレ
ームBを移動させてラッピングフィルム14が小径ロー
ル4に転接する状態とする。このときのラッピングフィ
ルム14のロール4に対する接触圧は、流体圧シリンダ
11を公知の適宜手段により制御して研磨中、変化しな
いように維持することによって、従来のように人手によ
る個人差が生ずることなく、ロール4の表面粗度を均一
に仕上げることができる。また、ラッピングフィルム1
4はゴム等の弾性体でライニングしたコンタクトローラ
10でロール4に押付けられるので、ロールの撓みによ
る影響を解消できる。
の研磨を行うには、先ず仕上げ研磨部であるフレームB
をロール4から後退させ、粗研磨部であるフレームAの
みをロール4に近接させ、回転砥石1をロール4に転接
させるとともにフレームCを左右に往復運動させて、従
来例と同様に疵取り、寸法出し研磨を行う。次に粗研磨
が完了したらフレームAをロール4から後退させ、フレ
ームBを移動させてラッピングフィルム14が小径ロー
ル4に転接する状態とする。このときのラッピングフィ
ルム14のロール4に対する接触圧は、流体圧シリンダ
11を公知の適宜手段により制御して研磨中、変化しな
いように維持することによって、従来のように人手によ
る個人差が生ずることなく、ロール4の表面粗度を均一
に仕上げることができる。また、ラッピングフィルム1
4はゴム等の弾性体でライニングしたコンタクトローラ
10でロール4に押付けられるので、ロールの撓みによ
る影響を解消できる。
【0014】次に、圧延機用小径ロールとして、直径1
20mm、バレル長さ1700mm、材質セミハイス鋼
(硬度Hs89)のものに研磨を行った例を示す。回転
砥石は粗さ220番、幅80mm、外径810mmのも
のを使用し、ラッピングフィルムは粗さ1000番、幅
80mmのものを使用した。
20mm、バレル長さ1700mm、材質セミハイス鋼
(硬度Hs89)のものに研磨を行った例を示す。回転
砥石は粗さ220番、幅80mm、外径810mmのも
のを使用し、ラッピングフィルムは粗さ1000番、幅
80mmのものを使用した。
【0015】
【表1】
【0016】研磨前はロールの粗さをRa≒0.3μm
にし、研磨後の粗さをRa≒0.1μmを目標として従
来方法は回転砥石のみで、一方、本発明方法では疵取り
、寸法出しの粗研磨は回転砥石で、仕上研磨はラッピン
グフィルムで行った。このときの研磨条件を表1に示す
。
にし、研磨後の粗さをRa≒0.1μmを目標として従
来方法は回転砥石のみで、一方、本発明方法では疵取り
、寸法出しの粗研磨は回転砥石で、仕上研磨はラッピン
グフィルムで行った。このときの研磨条件を表1に示す
。
【0017】表1は粗研磨は同条件で回転砥石で研磨し
た後、仕上研磨のみ、従来方法と本発明の方法で比較研
磨したものである。従来方法では研磨状況が刻々と変化
するため、ロール撓み調整を使わざるを得なかった。こ
の場合、撓み調整は熟練者が行い、再研磨は無かった。
た後、仕上研磨のみ、従来方法と本発明の方法で比較研
磨したものである。従来方法では研磨状況が刻々と変化
するため、ロール撓み調整を使わざるを得なかった。こ
の場合、撓み調整は熟練者が行い、再研磨は無かった。
【0018】結果は、従来方法ではRa=1.13μm
(N=22の平均)、σ=0,25μmとなり、本方法
ではRa=1.08μm(N=18の平均)、σ=0.
07μmとなり、明らかに本方法によるものがバラツキ
が少なく品質向上を図ることができた。なお、コストを
無視すれば粗研磨から仕上研磨までフィルム研磨が可能
で、例えば仕上の異なるフィルムを並列し、粗研磨と仕
上研磨でフィルムを変えれば完全な省力化が可能となる
。
(N=22の平均)、σ=0,25μmとなり、本方法
ではRa=1.08μm(N=18の平均)、σ=0.
07μmとなり、明らかに本方法によるものがバラツキ
が少なく品質向上を図ることができた。なお、コストを
無視すれば粗研磨から仕上研磨までフィルム研磨が可能
で、例えば仕上の異なるフィルムを並列し、粗研磨と仕
上研磨でフィルムを変えれば完全な省力化が可能となる
。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による方法
で研磨することによってロール表面粗度のバラツキが小
さくなった。(実験例において、Ra=0.1μm目標
に対し、従来方法ではσ=0.25μm、本発明方法で
はσ=0.07μm)。また、仕上研磨でのロール撓み
調整が不必要となった。さらに、従来方法では約3%程
度、仕上研磨のやり直しを要したが、本方法では全く不
要であった。
で研磨することによってロール表面粗度のバラツキが小
さくなった。(実験例において、Ra=0.1μm目標
に対し、従来方法ではσ=0.25μm、本発明方法で
はσ=0.07μm)。また、仕上研磨でのロール撓み
調整が不必要となった。さらに、従来方法では約3%程
度、仕上研磨のやり直しを要したが、本方法では全く不
要であった。
【0020】以上により、ロール表面粗度品質の向上、
ロール撓み調整の省力、仕上研磨のやり直し減による能
率向上が図られた。
ロール撓み調整の省力、仕上研磨のやり直し減による能
率向上が図られた。
【図1】本発明による研磨を行うための研磨装置の概要
図である。
図である。
【図2】本発明による仕上研磨部の斜視図である。
【図3】研磨フィルムの接触圧を一定に保つ手段の側面
図である。
図である。
【図4】研磨フィルムの拡大断面図である。
【図5】回転砥石の斜視図である。
【図6】従来例による研磨装置の概要図である。
【図7】従来例におけるロール撓み装置の作用を示す断
面図である。
面図である。
1 回転砥石
4 圧延機用小径ロール
14 研磨フィルム
Claims (1)
- 【請求項1】 圧延機用小径ロールの研磨に際し、疵
取り、寸法出しを行う粗研磨は回転砥石を使用し、表面
の粗度調整を行なう仕上研磨は表面に砥粒を吹付けて薄
く層成した研磨フィルムを、前記小径ロールとの接触圧
力を変えずに一定送りで研磨することを特徴とする圧延
機用小径ロールの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4336991A JPH04279206A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 圧延機用小径ロールの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4336991A JPH04279206A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 圧延機用小径ロールの研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04279206A true JPH04279206A (ja) | 1992-10-05 |
Family
ID=12661931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4336991A Pending JPH04279206A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 圧延機用小径ロールの研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04279206A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009142955A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 研磨装置及び導電性ローラの製造方法 |
| CN104942011A (zh) * | 2015-06-17 | 2015-09-30 | 铜陵市大明玛钢有限责任公司 | 高铬钢轧辊的表面养护方法 |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP4336991A patent/JPH04279206A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009142955A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 研磨装置及び導電性ローラの製造方法 |
| CN104942011A (zh) * | 2015-06-17 | 2015-09-30 | 铜陵市大明玛钢有限责任公司 | 高铬钢轧辊的表面养护方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09225510A (ja) | ステンレス冷延用圧延ロールの研磨方法 | |
| JP4682449B2 (ja) | 化学的機械的研磨方法及び化学的機械的研磨装置 | |
| JPS6044264A (ja) | 傷取り兼用のヘアライン加工装置 | |
| JP2521419Y2 (ja) | 金属板縁部研削用ベルトサンダー | |
| JPH06297326A (ja) | 研摩方法及び研摩装置 | |
| JP3520847B2 (ja) | 圧延用ロールの研磨方法 | |
| JP3821985B2 (ja) | ポリッシング装置 | |
| JPS633684B2 (ja) | ||
| JP3073664B2 (ja) | 圧延用ワークロールの研磨方法及び圧延用ワークロール | |
| JPH0613124B2 (ja) | 圧延機 | |
| JP3120048B2 (ja) | 樹脂フィルムラミネートロールの研磨方法 | |
| JP2617081B2 (ja) | 円筒セラミック体の研削加工方法 | |
| JPH06269809A (ja) | 高光沢ステンレス冷延鋼板の製造方法及びスキンパスロールの研磨装置 | |
| JP2712604B2 (ja) | ヘアライン模様ステンレスシートの製造方法 | |
| JP2002282902A (ja) | ステンレス鋼板の調質圧延方法 | |
| JPS6237641Y2 (ja) | ||
| JP2792761B2 (ja) | 圧延ロールの研削方法 | |
| US2641872A (en) | Method for the uniform dressing of contact rolls | |
| JPH1015802A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| JPH10277922A (ja) | 化学的機械研磨装置 | |
| JPH04315570A (ja) | 平面ラッピング装置 | |
| JP3595617B2 (ja) | 回転ゴムロールの研削方法及びこの方法を実施するための装置 | |
| JPH0775964A (ja) | ウェーハ研磨装置 | |
| JPH04250961A (ja) | 平鋼材の研摩装置 | |
| JPH05329758A (ja) | 研削ロールによる帯状金属体の研削方法 |