JPH0427958B2 - - Google Patents

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JPH0427958B2
JPH0427958B2 JP58168053A JP16805383A JPH0427958B2 JP H0427958 B2 JPH0427958 B2 JP H0427958B2 JP 58168053 A JP58168053 A JP 58168053A JP 16805383 A JP16805383 A JP 16805383A JP H0427958 B2 JPH0427958 B2 JP H0427958B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はレーザー記録材料に関するものであ
る。 （従来技術） 従来、レーザービーム等の記録用ビームを記録
材料に照射して照射部分の融解、変形、蒸発等に
より光学的な変化を生ぜしめて記録を行なう方法
は知られている。このような記録方法に用いる記
録材料としては基板に低融点の金属、例えばSb、
Te、Zn、Pb、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga等の薄
膜層を形成してなる記録材料が用いられている。
しかしながら、これら従来のレーザー記録材料は
記録感度、記録により形成されるピツト形状、保
存安定性、及び毒性をすべて満足しうるものでは
ない。例えばTeを用いる場合、記録感度、ピツ
ト形状についてはほゞ満足なものが得られるが、
保存安定性及び毒性に問題があり、又、Snを用
いる場合、毒性が低い利点はあるものの他の諸特
性が劣るものしか得られない。 本発明者は上記の従来の記録材料が有している
欠点を解消するため種々の金属、合金について検
討を行なつたところ、錫と銅を共存させることに
より、上記従来技術における欠点が解消すること
を見い出して本発明に到達したものである。 （発明の構成） 本発明のレーザー記録材料は、少くとも表面が
耐熱性である基材の表面に、１〜40原子数％の銅
を含む錫−銅合金からなる薄膜層を積層してある
ことを特徴とするものである。 第１図は本発明の一実施例のレーザー記録材料
の構造を示す模式的な断面図である。第１図中１
で示すレーザー記録材料は基材２の表面に、１〜
40原子数％の銅を含む錫−銅合金からなる金属薄
膜層３を設けてある。 上記において基材２としては耐熱性のある合成
樹脂のフイルム、シートもしくは板を用いる。耐
熱性のある合成樹脂としてはポリイミド、ポリフ
エニレンサルフアイド、ポリエーテルイミド、ポ
リエーテルサルホン、ポリテトラフロロエチレ
ン、ポリクロルトリフルオルエチレン、ポリアミ
ドイミド、ポリアリルサルホン、ポリフエニレン
オキサイド、６，６−ナイロン、ポリエーテルケ
トン、ポリサルホン等を挙げることができる。 基材２としては上記したように全体が耐熱性の
ある合成樹脂からなるものを用いてもよいが、こ
れら耐熱性のある合成樹脂を別の基体に塗布する
などして複合したものを用いてもよく、要するに
表面が耐熱性であればよい。 上記において、耐熱性のある合成樹脂と複合す
る別の基体としてポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、セルロースアセテー
ト、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート等のプラスチツクフイルム、銅やアル
ミニウム等の金属板、ガラス、セラミツクス等、
あるいは紙・前記プラスチツクフイルムと前記の
金属板、ガラス、セラミツクスの積層体が使用で
きる。 基材として上記したように少くとも表面が耐熱
性であるものを使用すると、記録によつて形成さ
れるピツトの周囲が溶融して盛り上がる等の欠点
が生じにくい。 特に基材として少くとも表面がポリサルホン樹
脂からなるものを用いると、ポリサルホン樹脂は
熱変形温度が175℃と高く、このためレーザー光
を用いた記録の際に与えられる熱のためピツトの
周囲が盛り上がるのを防止できる。又、ポリサル
ホン樹脂は下記式 のような構造をとつているので、構造中のCH3基
の作用により樹脂表面の表面張力が小さいので、
ポリサルホン樹脂の照射を受けた錫−銅合金から
なる薄膜層は排除されやすく、このため少ないエ
ネルギーで記録することができる。 なお、基材全体を耐熱性のある合成樹脂で構成
しても、別の基体の表面に耐熱性のある合成樹脂
の層を設けてもよいが、後者の場合、層を設けた
効果を出すためには層の厚みを１〜10μm程度と
するとよい。 次に上記した金属薄膜層３について説明する
と、該金属薄膜層は１〜40原子数パーセントの銅
を含む錫−銅合金からなるものである。この好ま
しい範囲について説明すると銅の含有量が１原子
数パーセントより少ないときはひび割れが発生す
る等のピツト形状の不良があり、記録に要するエ
ネルギーしきい値も好ましい範囲に比して約1.5
倍程度と高く、又、40原子数パーセントを越える
ときは記録感度が低下し、即ち記録に要するエネ
ルギーしきい値が、好ましい範囲に比して２倍以
上となる上、形成されたピツト形状はその周辺が
不均一な拡がりを伴ない、好ましくないものであ
る。なお、銅単独のものでは記録エネルギーを好
ましい範囲の４倍程度に上げても記録は達成され
ない。上記において銅の含有量を５〜20原子数パ
ーセントとすると、更に一層好ましい。 以上のように成分からなる金属薄膜層３の厚み
は100〜5000Å、好ましくは200〜800Åである。
金属薄膜層３の厚みが100Å以下では再生光の反
射率が小さく、光学的読み取りが困難であり、
5000Åを越えると記録感度が低下して好ましくな
い。 錫−銅合金からなる金属薄膜層を設けたレーザ
ー記録材料の感度及び記録時に形成されるピツト
の形状が、錫単独若しくは銅単独の金属薄膜層を
設けたレーザー記録材料の感度及びピツト形状に
くらべて良好である理由は必ずしも明らかではな
いが、錫−銅合金の共晶点は錫及び銅のそれぞれ
の融点よりも低く、又、銅の液体状態における表
面張力が、錫の566×10-3N／ｍにくらべて135×
10-3N／ｍと低く、かつ、この表面張力の値は金
属の中でも比較的小さいことから、レーザービー
ムの照射を受けた錫−銅合金からなる金属薄膜層
は溶融しやすく、かつ、溶融時に流動しやすいた
めに、照射部分の錫−銅合金が容易に排除される
ためと考えられる。 上記金属薄膜層３を基材２の表面に設ける方法
について次に述べると、公知の蒸着、スパツタリ
ング、イオンプレーテイング、若しくはプラズマ
蒸着等の方法を利用し得る。一例として蒸着によ
つて金属薄膜層を形成する方法について述べる
と、例えば錫と銅を別個のアルミナ製るつぼに入
れて蒸着装置内にセツトし、加熱の程度を制御す
ることにより、両者の金属の蒸着の割合を制御す
るか、或いは蒸着の時間を制御することにより蒸
着の割合を制御する等の二元蒸着法により蒸着す
るか、又は所定の組成の合金を予め作成してお
き、スパツタリングによつて行なう等の方法が例
示できる。 本発明のレーザー記録材料は基本的には以上の
構成から成るが、更に、表面保護層として、本発
明のレーザー記録材料の錫−銅合金薄膜上にSiO
やMsFなどを蒸着するか、又はアクリル樹脂、
ポリエチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ポリビニルブチラール樹脂などのビニル系
樹脂、塩化ゴムなどのゴム類、アクリル系紫外線
硬化樹脂、エポキシ系紫外線硬化樹脂などを塗布
することにより設けてもよい。或いは又、プライ
マー層としてアクリル樹脂を基材表面に設けても
よい。更に、反射防止膜としてInなどの金属や金
属酸化物等を錫−銅合金薄膜層上に設けるなどし
てもよい。 以上の本発明のレーザー記録材料は記録感度が
高く、ピツト形状も満足し得るものであり、保存
安定性、毒性に関してもすぐれている。 次に本発明をより具体的に示すための実施例を
掲げる。 実施例 １ 厚み50μmのポリサルホンフイルム（住友ベー
クライト製、スミライトFS1200）を準備し、フ
レオンで洗浄した。次に真空蒸着装置を用い、真
空度10-6Torrの条件で錫粉末と銅紛末を別々の
アルミナるつぼに入れて同時に加熱し、二元蒸着
法により各るつぼの加熱温度を制御し、銅の含有
率が10原子数パーセントとなるよう蒸着を行な
い、膜厚が400Åになるようにして前記の基板の
表面に金属薄膜層を形成した。 次に以上のようにして作成した記録材料の金属
薄膜層に波長6328ÅのHe−NeレーザーをNA（開
口数）＝0.45のレンズで集光し、金属薄膜層表面
でのレーザー光の強度が5mwになるよう、又、
照射時間10msecの条件で照射したところ、直径
2μmのピツトが形成されていることが顕微鏡観察
によつて確かめられた。 比較例 １ 基材として厚み50μmのポリエチレンテレフタ
レートフイルム（東レ製、ルミラーT60）を用い
た以外は実施例と同様にした。 比較例 ２ 錫−銅合金のかわりに錫を単独で用い、その他
は実施例１と同様にした。 以上の実施例および比較例で得られた記録材料
を用いて記録を行ない、記録エネルギー、及びピ
ツト形状を比較した結果を次表に示す。 次表において記録エネルギーとは2μmのピツト
径を形成するのに要するレーザー出力を意味す
る。 【表】
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のレーザー記録材料の構造を示
す模式的な断面図である。 １……レーザー記録材料、２……基材、３……
金属薄膜層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 少くとも表面が耐熱性である基材の表面に、
    １〜40原子数％の銅を含む錫−銅合金からなる薄
    膜層を積層してあることを特徴とするレーザー記
    録材料。
JP58168053A 1983-09-12 1983-09-12 レ−ザ−記録材料 Granted JPS6059550A (ja)

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JP58168053A JPS6059550A (ja) 1983-09-12 1983-09-12 レ−ザ−記録材料

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JPS6059550A JPS6059550A (ja) 1985-04-05
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