JPH0427985B2 - - Google Patents
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- JPH0427985B2 JPH0427985B2 JP58163400A JP16340083A JPH0427985B2 JP H0427985 B2 JPH0427985 B2 JP H0427985B2 JP 58163400 A JP58163400 A JP 58163400A JP 16340083 A JP16340083 A JP 16340083A JP H0427985 B2 JPH0427985 B2 JP H0427985B2
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- Japan
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- trifluoromethyl
- bis
- quinolyl
- phthalimide
- butyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/14—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な４−キノリン誘導体に関する；
本発明は殊にＮ−［４−｛３−＜２，８−ビス
（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オ
キシラニル｝−ブチル］−フタルイミド及びその製
造方法に関する。
（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オ
キシラニル｝−ブチル］−フタルイミド及びその製
造方法に関する。
上記の化合物はメフロキン及びその生理学的に
適合し得る酸付加塩の製造中間体として有用であ
る。
適合し得る酸付加塩の製造中間体として有用であ
る。
メフロキン、ｄ，ｌ−エリスロ−α−（２−ピ
ペリジル）−２，８−ビス−（トリフルオロメチ
ル）−４−キノリンメタノールは公知の化合物で
あり、マラリアの抑制に対して価値ある物質であ
る〔例えばAntimicrobial Agents Chemo−
ther.９，384（1976）参照〕。従来の公知の方法に
よれば、メフロキシは金属−有機中間体段階を経
て〔J.Med.Chem.14，926（1971）；ドイツ国特許
出願公開明細書第2806909号及び同第2940443号参
照〕、或いは最近、最終段階が２−ピリジル−２，
８−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル
ケトンまたは２−ピリジル−２，８−ビス−（ト
リフルオロメチル）−４−キノリルアセトキシメ
タンを触媒的に水素添加することからなる方法に
従いかゝる中間体を避けて製造されていた〔ヨー
ロツパ特許出願第49776号参照〕。これらの方法に
おいては、エリスロ型に加えて、２−ピペリジル
−４−キノリンメタノールの望ましくないスレオ
型の少量（約５〜15％）が常に得られる。この混
合物の分離及び純粋なエリスロ型の製造は従来、
アセトン／アルコール混合物からのくり返し再結
晶、アセトンによる洗浄及びアセトニトリルに対
する結晶化を含む比較的高価な方法によつてのみ
可能であつた。
ペリジル）−２，８−ビス−（トリフルオロメチ
ル）−４−キノリンメタノールは公知の化合物で
あり、マラリアの抑制に対して価値ある物質であ
る〔例えばAntimicrobial Agents Chemo−
ther.９，384（1976）参照〕。従来の公知の方法に
よれば、メフロキシは金属−有機中間体段階を経
て〔J.Med.Chem.14，926（1971）；ドイツ国特許
出願公開明細書第2806909号及び同第2940443号参
照〕、或いは最近、最終段階が２−ピリジル−２，
８−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル
ケトンまたは２−ピリジル−２，８−ビス−（ト
リフルオロメチル）−４−キノリルアセトキシメ
タンを触媒的に水素添加することからなる方法に
従いかゝる中間体を避けて製造されていた〔ヨー
ロツパ特許出願第49776号参照〕。これらの方法に
おいては、エリスロ型に加えて、２−ピペリジル
−４−キノリンメタノールの望ましくないスレオ
型の少量（約５〜15％）が常に得られる。この混
合物の分離及び純粋なエリスロ型の製造は従来、
アセトン／アルコール混合物からのくり返し再結
晶、アセトンによる洗浄及びアセトニトリルに対
する結晶化を含む比較的高価な方法によつてのみ
可能であつた。
従つて本発明における問題はできるだけ少ない
工程を有するメフロキシの合成でありそして全体
に高収率でメフロキンを生成させることにあり、
かかる合成において一方では金属−有機中間体工
程の使用を避け、他方では最終工程において、メ
フロキンを高度に立体特異的に生成させ、可能な
限り純粋な物質として得、従つてα−（２−ピペ
リジル）−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）
−４−キノリン−メタノールのエリスロ型からス
レオ型の分離を必要としない方法を見つけること
である。
工程を有するメフロキシの合成でありそして全体
に高収率でメフロキンを生成させることにあり、
かかる合成において一方では金属−有機中間体工
程の使用を避け、他方では最終工程において、メ
フロキンを高度に立体特異的に生成させ、可能な
限り純粋な物質として得、従つてα−（２−ピペ
リジル）−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）
−４−キノリン−メタノールのエリスロ型からス
レオ型の分離を必要としない方法を見つけること
である。
この問題は本発明により、下記の反応式に示し
た反応順序を実行することによつて解決され、該
方法は２種の新規な中間体、Ｎ−〔６−＜２，８
−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞
−５−ヘキセニル〕−フタルイミド及びＮ−〔４−
｛３−＜２，８−ビス−（トリフルオロメチル）−
４−キノリル＞−２−オキシラニル｝−ブチル〕−
フタルイミドを経て進行する。この反応式におい
て、Ｍはナトリウムまたはカリウムを表わし、Ｘ
は塩素、臭素またはヨウ素を表す。
た反応順序を実行することによつて解決され、該
方法は２種の新規な中間体、Ｎ−〔６−＜２，８
−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞
−５−ヘキセニル〕−フタルイミド及びＮ−〔４−
｛３−＜２，８−ビス−（トリフルオロメチル）−
４−キノリル＞−２−オキシラニル｝−ブチル〕−
フタルイミドを経て進行する。この反応式におい
て、Ｍはナトリウムまたはカリウムを表わし、Ｘ
は塩素、臭素またはヨウ素を表す。
上記の反応式における６−フタルイミド−１−
ヘキサン出発物質は６−ハロ−１−ヘキセン（ハ
ロゲン三塩素、臭素またはヨウ素）、好ましくは
６−ブロモ−１−ヘキサンをそれ自体公知の方法
において、ナトリウムまたはカリウムフタルイミ
ドと反応させることによつて得られる。この反応
は有利には塩基の存在下において、好ましくは塩
基性溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド）中で行われる。
ヘキサン出発物質は６−ハロ−１−ヘキセン（ハ
ロゲン三塩素、臭素またはヨウ素）、好ましくは
６−ブロモ−１−ヘキサンをそれ自体公知の方法
において、ナトリウムまたはカリウムフタルイミ
ドと反応させることによつて得られる。この反応
は有利には塩基の存在下において、好ましくは塩
基性溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド）中で行われる。
次に６−フタルイミド−１−ヘキセンを４−ハ
ロ−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）−キノ
リン（ハロゲン＝塩素、臭素またはヨウ素）と反
応させ、Ｎ−〔６＜２，８−ビス−（トリフルオロ
メチル）−４−キノリル＞−５−ヘキセニル〕−フ
タルイミドを生成させる。この反応は不活性有機
溶媒、例えばベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ジメチル
スルホキシド、１，３−ジメチル−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２（1H）−ピリミジノンまた
は１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン中
で、塩基（例えばトリエチルアミンまたはトリブ
チルアミンの如き第三級アルキルアミン）の存在
下において、且つパラジウム塩（例えば二塩化パ
ラジウムまたは二酢酸パラジウム）及びホスフイ
ン（例えばトリフエニルホスフインまたはトリ−
ｏ−トリルホスフイン）の存在下において有利に
行われる。この反応においてもつぱらトランス生
成物が生じるという事実は本発明による反応順序
のメフロキン高収率に対する理由である。
ロ−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）−キノ
リン（ハロゲン＝塩素、臭素またはヨウ素）と反
応させ、Ｎ−〔６＜２，８−ビス−（トリフルオロ
メチル）−４−キノリル＞−５−ヘキセニル〕−フ
タルイミドを生成させる。この反応は不活性有機
溶媒、例えばベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ジメチル
スルホキシド、１，３−ジメチル−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２（1H）−ピリミジノンまた
は１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン中
で、塩基（例えばトリエチルアミンまたはトリブ
チルアミンの如き第三級アルキルアミン）の存在
下において、且つパラジウム塩（例えば二塩化パ
ラジウムまたは二酢酸パラジウム）及びホスフイ
ン（例えばトリフエニルホスフインまたはトリ−
ｏ−トリルホスフイン）の存在下において有利に
行われる。この反応においてもつぱらトランス生
成物が生じるという事実は本発明による反応順序
のメフロキン高収率に対する理由である。
次に得られるＮ−〔６−＜２，８−ビス−（トリ
フルオロメチル）−４−キノリル＞−５−ヘキセ
ニル〕−フタルイミドを不活性溶媒中でエポキシ
ド化してＮ−〔４−｛３−＜２，８−ビス−（トリ
フルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オキシ
ラニル｝−ブチル〕−フタルイミドを生成させる。
このエポキシド化はそれ自体公知の方法におい
て、塩基性触媒〔例えばトライトン（Tri−ton）
Ｂ〕の存在下において不活性溶媒、例えばジクロ
ロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ムまたはテトラヒドロフラン中にて、普通の酸化
剤、例えば過酸化水素（酢酸またはアルカリ性溶
液）、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香
酸またはｔ−ブチルヒドロパーオキシドによつて
行うことができる。
フルオロメチル）−４−キノリル＞−５−ヘキセ
ニル〕−フタルイミドを不活性溶媒中でエポキシ
ド化してＮ−〔４−｛３−＜２，８−ビス−（トリ
フルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オキシ
ラニル｝−ブチル〕−フタルイミドを生成させる。
このエポキシド化はそれ自体公知の方法におい
て、塩基性触媒〔例えばトライトン（Tri−ton）
Ｂ〕の存在下において不活性溶媒、例えばジクロ
ロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ムまたはテトラヒドロフラン中にて、普通の酸化
剤、例えば過酸化水素（酢酸またはアルカリ性溶
液）、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香
酸またはｔ−ブチルヒドロパーオキシドによつて
行うことができる。
本発明によるＮ−〔４−｛３−＜２，８−ビス−
（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オ
キシラニル｝−ブチル〕−フタルイミドのメフロキ
ンへの転化は、不活性溶媒、好ましくは低級アル
カノール、特にメタノールまたはエタノール中に
て室温乃至還流温度、好ましくは還流下で加熱し
ながら、ヒドラジン水和物で処理して行われる。
この処理を生理学的に許容し得る酸の存在下にお
いて行う場合、メフロキンが所望の酸付加塩の型
で得られる。塩酸塩が特に好ましい酸付加塩であ
る。処理は、冷却した混合物からフタリルヒドラ
ジドを分離し、液を濃縮し、残渣を随時水50〜
80容量％の存在下においてアルコール、例えばメ
タノール、エタノールまたはイソプロパノール、
好ましくはメタノールで処理することによつて有
利に行われる。この処理は室温で或いは、収率を
増加させるために、０℃よりやや高い温度に冷却
しながら、有利には６〜12時間で行うことができ
る。メフロキン塩酸塩が例えばこの方法で純粋な
型及びほとんど定量的収率で得られる。
（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オ
キシラニル｝−ブチル〕−フタルイミドのメフロキ
ンへの転化は、不活性溶媒、好ましくは低級アル
カノール、特にメタノールまたはエタノール中に
て室温乃至還流温度、好ましくは還流下で加熱し
ながら、ヒドラジン水和物で処理して行われる。
この処理を生理学的に許容し得る酸の存在下にお
いて行う場合、メフロキンが所望の酸付加塩の型
で得られる。塩酸塩が特に好ましい酸付加塩であ
る。処理は、冷却した混合物からフタリルヒドラ
ジドを分離し、液を濃縮し、残渣を随時水50〜
80容量％の存在下においてアルコール、例えばメ
タノール、エタノールまたはイソプロパノール、
好ましくはメタノールで処理することによつて有
利に行われる。この処理は室温で或いは、収率を
増加させるために、０℃よりやや高い温度に冷却
しながら、有利には６〜12時間で行うことができ
る。メフロキン塩酸塩が例えばこの方法で純粋な
型及びほとんど定量的収率で得られる。
以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある。
ある。
実施例
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド150ml中のカリ
ウムフタルイミド39ｇの懸濁液を20℃で撹拌しな
がら６−ブロモ−１−ヘキセン20mlで処理した。
４時間後、この混合物を氷水300mlに注ぎ、エー
テルで抽出し、有機相を10％塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、乾燥し、過し、そして濃縮乾固し
た。融点17〜20℃の６−フタルイミド−１−ヘキ
セン45ｇ（100％）が得られた。
ウムフタルイミド39ｇの懸濁液を20℃で撹拌しな
がら６−ブロモ−１−ヘキセン20mlで処理した。
４時間後、この混合物を氷水300mlに注ぎ、エー
テルで抽出し、有機相を10％塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、乾燥し、過し、そして濃縮乾固し
た。融点17〜20℃の６−フタルイミド−１−ヘキ
セン45ｇ（100％）が得られた。
ヘキサメチルホスホルトリアミド300ml中の４
−ブロモ−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）
−キノリン64ｇ、６−フタルイミド−１−ヘキサ
ン49ｇ、トリブチルアミン59ml、トリ−ｏ−トリ
ルホスフイン45ｇ及び二酢酸パラジウム1.7ｇの
混合物をアルゴン下で撹拌しながら100℃に８時
間加熱した。この混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機相を水で洗浄して中性にし、
乾燥し、そして濃縮乾固した。結晶性残渣をエー
テルで洗浄した。白色結晶状でＮ−〔６−＜２，
８−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル
＞−５−ヘキセニル〕−フタルイミド（融点103〜
105℃）54.9ｇ（60％）が得られた。
−ブロモ−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）
−キノリン64ｇ、６−フタルイミド−１−ヘキサ
ン49ｇ、トリブチルアミン59ml、トリ−ｏ−トリ
ルホスフイン45ｇ及び二酢酸パラジウム1.7ｇの
混合物をアルゴン下で撹拌しながら100℃に８時
間加熱した。この混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機相を水で洗浄して中性にし、
乾燥し、そして濃縮乾固した。結晶性残渣をエー
テルで洗浄した。白色結晶状でＮ−〔６−＜２，
８−ビス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル
＞−５−ヘキセニル〕−フタルイミド（融点103〜
105℃）54.9ｇ（60％）が得られた。
クロロホルム300ml中のＮ−〔６−＜２，８−ビ
ス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−５
−ヘキセニル〕−フタルイミド35.5ｇの溶液を撹
拌しながら90％ｍ−クロロ過安息香酸16.5ｇで処
理した。この混合物を還流下で加熱した。反応終
了後、過剰量の過酢酸を10％亜硫酸ナトリウム溶
液で分解し、有機相を５％重炭酸ナトリウム溶液
で抽出し、水で洗浄し、乾燥し、過し、そして
濃縮乾固させた。残渣をジクロロメタン／イソプ
ロピルエーテル（２：８、Ｖ／Ｖ）から再結晶
後、白色結晶としてＮ−〔４−｛３−＜２，８−ビ
ス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２
−オキシラニル｝−ブチル〕−フタルイミド（融点
126〜128℃）35.5ｇ（97％）が得られた。
ス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−５
−ヘキセニル〕−フタルイミド35.5ｇの溶液を撹
拌しながら90％ｍ−クロロ過安息香酸16.5ｇで処
理した。この混合物を還流下で加熱した。反応終
了後、過剰量の過酢酸を10％亜硫酸ナトリウム溶
液で分解し、有機相を５％重炭酸ナトリウム溶液
で抽出し、水で洗浄し、乾燥し、過し、そして
濃縮乾固させた。残渣をジクロロメタン／イソプ
ロピルエーテル（２：８、Ｖ／Ｖ）から再結晶
後、白色結晶としてＮ−〔４−｛３−＜２，８−ビ
ス−（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞−２
−オキシラニル｝−ブチル〕−フタルイミド（融点
126〜128℃）35.5ｇ（97％）が得られた。
メタノール150ml中のＮ−〔４−｛３−＜２，８
−ビス（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞
−２−オキシラニル｝−ブチル〕−フタルイミド
25.4ｇの懸濁液を撹拌しながらヒドラジン水和物
2.65mlで処理した。この混合物を還流下で８時間
加熱し、次に減圧下で濃縮した。結晶性残渣をエ
タノールに懸濁させ、5Nエタノール性塩化水素
溶液11mlの添加後、この懸濁液を還流下で１時間
加熱した。冷却後、フタリルヒドラジンを吸引
別し、液を濃縮し、結晶性残渣をエタノールか
ら再結晶させた。白色結晶状でメフロキン塩酸塩
（融点254〜256℃）19ｇ（96％）が得られた。
−ビス（トリフルオロメチル）−４−キノリル＞
−２−オキシラニル｝−ブチル〕−フタルイミド
25.4ｇの懸濁液を撹拌しながらヒドラジン水和物
2.65mlで処理した。この混合物を還流下で８時間
加熱し、次に減圧下で濃縮した。結晶性残渣をエ
タノールに懸濁させ、5Nエタノール性塩化水素
溶液11mlの添加後、この懸濁液を還流下で１時間
加熱した。冷却後、フタリルヒドラジンを吸引
別し、液を濃縮し、結晶性残渣をエタノールか
ら再結晶させた。白色結晶状でメフロキン塩酸塩
（融点254〜256℃）19ｇ（96％）が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｎ−［４−｛３−＜２，８−ビス−（トリフル
オロメチル）−４−キノリル＞−２−オキシラニ
ル｝−ブチル］−フタルイミド。 ２ Ｎ−［６−＜２，８−ビス−（トリフルオロメ
チル）−４−キノリル＞５−ヘキセニル］フタル
イミドを不活性溶媒中でエポキシド化することを
特徴とするＮ−［４−｛３−＜２，８−ビス−（ト
リフルオロメチル）−４−キノリル＞−２−オキ
シラニル｝−ブチル］−フタルイミドの製造方法。 ３ エポキシド化をｍ−クロロ過安息香酸を用い
て行う特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ Ｎ−［６−＜２，８−ビス−（トリフルオロメ
チル）−４−キノリル＞−５−ヘキセニル］−フタ
ルイミドを、６−フタルイミド−１−ヘキセンを
塩基の存在下において不活性溶媒中で、４−ハロ
−２，８−ビス−（トリフルオロメチル）−キノリ
ン（ここで、ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ素
を表わす）と反応させることにより製造する特許
請求の範囲第２項または３項記載の方法。 ５ 反応をｏ−トリルトリフエニルホスフイン及
び二酢酸パラジウムの存在下においてヘキサメチ
ルホスホルトリアミド中で行う特許請求の範囲第
４項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH539382 | 1982-09-10 | ||
| CH5393/82-1 | 1982-09-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5967283A JPS5967283A (ja) | 1984-04-16 |
| JPH0427985B2 true JPH0427985B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=4292814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58163400A Granted JPS5967283A (ja) | 1982-09-10 | 1983-09-07 | ４−キノリン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4544748A (ja) |
| EP (1) | EP0103259B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5967283A (ja) |
| AT (1) | ATE18222T1 (ja) |
| DE (1) | DE3362313D1 (ja) |
| DK (1) | DK160499C (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2498497A (en) * | 1949-06-10 | 1950-02-21 | Sterling Drug Inc | 2[2(phthalimido)ethyl]pyridines |
| FR2381044A1 (fr) * | 1977-02-17 | 1978-09-15 | Hoffmann La Roche | Procede pour la preparation de mefloquine |
-
1983
- 1983-08-08 DK DK362083A patent/DK160499C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-08-22 US US06/525,341 patent/US4544748A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-06 DE DE8383108778T patent/DE3362313D1/de not_active Expired
- 1983-09-06 AT AT83108778T patent/ATE18222T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-09-06 EP EP83108778A patent/EP0103259B1/de not_active Expired
- 1983-09-07 JP JP58163400A patent/JPS5967283A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5967283A (ja) | 1984-04-16 |
| ATE18222T1 (de) | 1986-03-15 |
| DK160499C (da) | 1991-08-26 |
| EP0103259A1 (de) | 1984-03-21 |
| US4544748A (en) | 1985-10-01 |
| DK362083A (da) | 1984-03-11 |
| DE3362313D1 (en) | 1986-04-03 |
| EP0103259B1 (de) | 1986-02-26 |
| DK362083D0 (da) | 1983-08-08 |
| DK160499B (da) | 1991-03-18 |
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