JPH04281406A - フレキシブル光導波路基板及びその製造方法 - Google Patents

フレキシブル光導波路基板及びその製造方法

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JPH04281406A JP4505191A JP4505191A JPH04281406A JP H04281406 A JPH04281406 A JP H04281406A JP 4505191 A JP4505191 A JP 4505191A JP 4505191 A JP4505191 A JP 4505191A JP H04281406 A JPH04281406 A JP H04281406A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信装置等の内部に
おいて任意の光配線が可能なフレキシブル光導波路基板
及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、光通信装置等の内部の光配線
を任意に行い得るものとして、柔軟な高分子材料でコア
及びクラッドを形成したフレキシブル光導波路基板が知
られている。
【0003】ここで、従来のリッジ形フレキシブル光導
波路基板の一例を、その大まかな製造手順を示す図4を
参照しながら説明する。図4に示すように、シリコン(
Si)又はガラスからなり、リジッドで平坦なベース基
板410上に、まず、柔軟な高分子材料からなるクラッ
ド421をスピンコーティングなどの方法を用いて付着
する(図4(a) 〜(b) )。次に、クラッド42
1上に、該クラッド421より僅かに屈折率が高く柔軟
な高分子材料からなるコア422を形成する。このコア
422は光配線のパターンを有するものであり、このパ
ターニングは、反応性イオン・エッチング(RIE)な
どの方法で行う(図4(c) )。そして最後に、機械
的な剥離、エッチングなどの方法でクラッド421から
ベース基板410を除去し、柔軟なクラッド421及び
コア420からなるフレキシブル光導波回路400を得
る。
【0004】また、図5には埋込み形フレキシブル光導
波路基板の一例を示す。同図に示すように、この埋込み
形フレキシブル光導波路基板500は、上述したリッジ
形フレキシブル光導波路基板400と同様に、図示しな
いベース基板上にクラッド521、コア522を設け、
さらに、このコア522より屈折率が低く柔軟な高分子
材料を該コア522を覆うように設けて第二クラッド5
23を形成した後、図示しないベース基板を除去したも
のである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来のフレキシブル光導波路基板には次のよう
な問題がある。
【0006】一般に、フレキシブル光導波路基板では柔
軟性を得るためにベース基板をクラッドから除去する工
程が必要となるので、クラッドとベース基板との接着力
が低い方が望ましいと考えられていたが、コアのパター
ン形成等の加工工程において、ベース基板、クラッド及
びコアに熱、機械、化学的なストレスが加わるため、ベ
ース基板との接着力が低いクラッドを用いると、コア形
成時にクラッドが剥離したり、コア形状の加工精度が劣
化したりするという問題が発生する。
【0007】また、従来のフレキシブル光導波路を任意
の入出力部と接続する場合には、保持部材を後付けして
用いる必要があり、フレキシブル光導波路基板を成端処
理しなければならず、経済性、取扱性が悪く、実装密度
も低くなるという問題がある。
【0008】本発明はこのような事情に鑑み、任意の間
隔で並ぶ光部品を一括接続可能で、加工性、経済性に優
れたフレキシブル光導波路基板を提供することを目的と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係るフレキシブル光導波路基板は、リジッドで平坦
なベース基板上に、柔軟な高分子材料からなるクラッド
及び該クラッド上に設けられて屈折率が該クラッドより
大きく柔軟な高分子材料からなるコア、並びに必要に応
じて該コアを覆うよう設けられ屈折率が該コアより小さ
い柔軟な高分子材料からなる第二のクラッドを順次形成
した後上記ベース基板を除去してなるフレキシブル光導
波路基板であって、その一部には上記ベース基板の一部
が残留して補強部として固着されていることを特徴とし
、また、その製造方法は、リジッドで平坦なベース基板
上に柔軟な高分子材料からなるクラッドを形成すると共
にこのクラッド上に屈折率が該クラッドより大きく柔軟
な高分子材料からなるコアを形成し、さらに必要に応じ
て屈折率が該コアより小さく柔軟な高分子材料を該コア
を覆う状態に設けた第二のクラッドを形成した後、上記
ベース基板を除去するフレキシブル光導波路基板の製造
方法において、上記ベース基板の一部に上記クラッドと
の接着力を高める接着力改良剤を付着するか、上記ベー
ス基板の他部に上記クラッドとの接着力を低下させる剥
離剤を付着するか、又は上記ベース基板の一部に上記ク
ラッドとの接着力を高める接着力改良剤を付着すると共
に他部に上記クラッドとの接着力を底下させる剥離剤を
付着するかした後上記クラッドを設けてベース基板の一
部とクラッドとの接着力を他部とクラッドとの接着力よ
り相対的に高め、その後、最後にベース基板の一部を残
して他部を除去することを特徴とする。
【0010】
【作用】リジッドなベース基板上に柔軟な高分子材料か
らなるクラッド、コア及び必要に応じての第二のクラッ
ドを形成した後ベース基板を取り去る際に、ベース基板
に接着力改良材及び/又は剥離剤を付着しておくことに
よりベース基板の一部とクラッドとの接着力を他部とク
ラッドとの接着力より相対的に高めておき、ベース基板
の他部のみを除去するようにする。かくて、製造性が改
善され、コアの加工精度劣化等の問題も生じない。また
、例えばこのように製造されたフレキシブル光導波路基
板では、残留したベース基板の一部が保持部材、補強部
材となり、取扱い性に優れたものである。
【0011】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0012】図1には一実施例に係るリッジ形フレキシ
ブル光導波路基板及びその製造方法を示す。同図に示す
ように、リジッドで平坦な例えばシリコン製のベース基
板110上に柔軟なポリイミド等の透光性高分子材料で
クラッド121を形成する際、ベース基板110の両端
部に予め接着力改良剤131,132を塗布しておく(
図1(a) )。ここで、接着力改良剤131,132
は、ベース基板110及びクラッド121の双方に対し
高い接着力を有する接着剤であり、これを付着した両端
部においてはベース基板110とクラッド121との接
着力が向上する。
【0013】次に、ベース基板110上にスピンコーテ
ィング等の方法でクラッド121を形成した(図1(b
) )後、該クラッド121より僅かに屈折率が高く柔
軟なポリイミド等の透光性高分子材料をRIE等の光配
線パターン形成法により設けて、コア122を形成する
(図1(c) )。そして、その後、ベース基板110
の接着力改良剤131,132が付着された部分以外に
対応する部分を除去することにより、フレキシブル光導
波路基板100を得る(図1(d) )。ここで、クラ
ッド121が接着力改良剤131,132を介してベー
ス基板110と高い接着力で固定されているので、図1
(c) ,(d) の工程においてクラッド121が剥
離することがなく、コア122の形状等の加工精度、製
造性を改善することができる。
【0014】このように形成されたフレキシブル光導波
路基板100は、光の入出力端に、残留したベース基板
からなる補強部141,142が固着されてたものであ
る。これら補強部141,142は、フレキシブル光導
波路基板100を補強するだけでなく、他の光部品等と
の接続時の保持機構等として使用できるため、従来のよ
うに、保持機構を後付けする必要がない。すなわち、従
来のフレキシブル光導波路基板と比較して、経済性、取
扱い性、実装密度を向上することができるものである。
【0015】以上説明したように、接着力改良剤を用い
るのは、ベース基板とクラッドとの接着力が低い場合に
有効であり、接着力改良剤としては、上述したような接
着剤の他、ベース基板の表面を改質して接着力を高める
もの等を用いることができる。
【0016】図2には他の実施例に係るリッジ形フレキ
シブル光導波路基板及びその製造方法を示す。同図に示
すように、本実施例の場合、ベース基板210が予め三
分割されており、表面に何も付着されてないベース基板
210Aを、表面に接着力改良剤231,232が付着
されているベース基板210B,210Cで両側から挾
み込んだ状態で保持されている(図2(a) )。ここ
で、接着力改良剤231,232は上述した実施例と同
様な性質を有するものである。そして、このようなベー
ス基板210上にクラッド221を形成し(図2(b)
)、また、クラッド221より僅かに屈折率が高く柔軟
な高分子材料からなるコア222を形成し(図2(c)
 )、さらに、接着力改良剤231,232が付着した
ベース基板210B,210Cを補強部241,242
として残してベース基板210Aを除去してフレキシブ
ル光導波路基板200とする各工程は上述した実施例と
同様である。ここで、ベース基板210Aを除去工程で
は、予めベース基板210B,210Cと分離されてい
るので、作業が非常に容易である。
【0017】このようにして製造されたフレキシブル光
導波路基板200は、図1のフレキシブル光導波路基板
100と同様なものであり、コア222の形状等の加工
精度、製造性が改善される点も同様である。
【0018】図3には他の実施例に係るリッジ形フレキ
シブル光導波路基板及びその製造方法を示す。同図に示
すように、本実施例ではベース基板310の両端部を除
いた中央部分に剥離剤331を塗布する(図3(a) 
)。 ここで、剥離剤331は、少なくとも後で形成するクラ
ッド321との接着力が低いもの、つまり、クラッド3
21との接着力が低いがベース基板310との接着力は
低くないもの、又はクラッド321及びベース基板31
0の両者に対しての接着力が低いものを用いる。また、
剥離剤331は、上述した性質を有する高分子材料の他
、ベース基板310の表面を改質して接着力を低下させ
るものなどを用いることができる。
【0019】そして、このようなベース基板310の上
に、クラッド321を形成し(図3(b) )、また、
クラッド321より僅かに屈折率が高く柔軟な高分子材
料からなるコア312を形成し(図3(c) )、その
後、剥離剤331が付着していない部分を補強部341
,342として残して剥離剤331が付着している部分
のベース基板310を除去して、フレキシブル光導波路
基板300とする(図3(d) )のは上述した実施例
と同様である。
【0020】本実施例では、クラッド321がベース基
板310の両端部で良好に接着されているので、コア3
22形成時に加工精度等が低下することがなく、また、
剥離剤331が塗布されているのでベース基板310の
中央部分の除去も作業性よく行うことができる。また、
本実施例の製造方法は、ベース基板とクラッドとの接着
力が高い場合に有効である。さらに、剥離剤を用いる場
合、残りの部分に併せて接着力改良剤を用いることもで
きる。なお、この場合、図2に示すように、ベース基板
を予め三分割しておき、剥離剤331を塗布したベース
基板を塗布していないベース基板で挾持しておくことに
より、製造性をさらに改善することができる。
【0021】以上説明した各実施例ではリッジ形フレキ
シブル光導波路基板を例としたが、必要に応じて埋込み
型光導波路構造にしても良いことはいうまでもない。ま
た、コアの本数、ピッチを変えたり、光導波路構造の最
適化(例えば、曲がり光導波路の採用)することにより
、任意の光配線パターンを有するフレキシブル光導波路
基板を実現することができる。さらに、本発明のフレキ
シブル光導波路基板では基板の端面を切り出す時に、全
ての導波路の成端処理を一括して行えることは言うまで
もない。また、上述した第1および第3の実施例におい
て、補強部241,242,341,342を全て除去
するようにすると、従来のフレキシブル光導波路の製造
において、加工精度、製造性を改善できるのは言うまで
もない。さらに、上述した実施例では、補強部として残
すベース基板の一部を入出力側両端部としたが、勿論こ
れに限定されるものではなく、用途に応じ、例えば中央
部に補強部としてベース基板を残してもよい。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
クラッドとベース基板の付着力を改善することにより、
コア形状等の加工精度を向上することができ、かつ、製
造性も改善できる。また、ベース基板を除去する際に、
その一部をクラッドと一体化して残すことができるため
、フレキシブル光導波路を補強することができる。さら
に、補強部は接続時の保持機構等としても使用できるた
め、フレキシブル光導波路の操作性、実装密度を向上す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施例に係るフレキシブル光導波路基板及び
その製造工程を示す説明図である。
【図2】他の実施例に係るフレキシブル光導波路基板及
びその製造工程を示す説明図である。
【図3】他の実施例に係るフレキシブル光導波路基板及
びその製造工程を示す説明図である。
【図4】従来技術に係るフレキシブル光導波路基板及び
その製造工程を示す説明図である。
【図5】従来技術に係る他のフレキシブル光導波路基板
を示す説明図である。
【符号の説明】
100,200,300  フレキシブル光導波路基板
110,210,310  ベース基板121,221
,321  クラッド 122,222,322  コア 131,132,231,232  接着力改良剤33
1  剥離剤 141,142,241,242,341,342  
補強部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  リジッドで平坦なベース基板上に、柔
    軟な高分子材料からなるクラッド及び該クラッド上に設
    けられて屈折率が該クラッドより大きく柔軟な高分子材
    料からなるコア、並びに必要に応じて該コアを覆うよう
    設けられ屈折率が該コアより小さい柔軟な高分子材料か
    らなる第二のクラッドを順次形成した後上記ベース基板
    を除去してなるフレキシブル光導波路基板であって、そ
    の一部には上記ベース基板の一部が残留して補強部とし
    て固着されていることを特徴とするフレキシブル光導波
    路基板。
  2. 【請求項2】  リジッドで平坦なベース基板上に柔軟
    な高分子材料からなるクラッドを形成すると共にこのク
    ラッド上に屈折率が該クラッドより大きく柔軟な高分子
    材料からなるコアを形成し、さらに必要に応じて屈折率
    が該コアより小さく柔軟な高分子材料を該コアを覆う状
    態に設けた第二のクラッドを形成した後、上記ベース基
    板を除去するフレキシブル光導波路基板の製造方法にお
    いて、上記ベース基板の一部に上記クラッドとの接着力
    を高める接着力改良剤を付着するか、上記ベース基板の
    他部に上記クラッドとの接着力を低下させる剥離剤を付
    着するか、又は上記ベース基板の一部に上記クラッドと
    の接着力を高める接着力改良剤を付着すると共に他部に
    上記クラッドとの接着力を低下させる剥離剤を付着する
    かした後上記クラッドを設けてベース基板の一部とクラ
    ッドとの接着力を他部とクラッドとの接着力より相対的
    に高め、その後、最後にベース基板の一部を残して他部
    を除去することを特徴とするフレキシブル光導波路基板
    の製造方法。
  3. 【請求項3】  請求項2において、ベース基板の一部
    と他部とが予め分離されていることを特徴とするフレキ
    シブル光導波路基板の製造方法。
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