JPH0469408B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0469408B2 JPH0469408B2 JP59130434A JP13043484A JPH0469408B2 JP H0469408 B2 JPH0469408 B2 JP H0469408B2 JP 59130434 A JP59130434 A JP 59130434A JP 13043484 A JP13043484 A JP 13043484A JP H0469408 B2 JPH0469408 B2 JP H0469408B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- stage
- exposure
- chip
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は露光装置、詳しくはステツパー装置に
より露光するに際し、ウエハを回転させることに
よりウエハステージの移動距離を少なくし、ウエ
ハステージの小型化とその動きの精度向上が実現
されるステツパー装置に関する。
より露光するに際し、ウエハを回転させることに
よりウエハステージの移動距離を少なくし、ウエ
ハステージの小型化とその動きの精度向上が実現
されるステツパー装置に関する。
レンズを用いるパターンのウエハ上への転写技
術は、ウエハサイズが５cm程度（２インチ）のと
きには一括露光が可能でマスクからウエハへ１対
１で転写露光していた。
術は、ウエハサイズが５cm程度（２インチ）のと
きには一括露光が可能でマスクからウエハへ１対
１で転写露光していた。
しかし、ウエハサイズの大型化とパターンの微
細化要求にともない一括露光は不可能となり、ウ
エハ全面をいくつかに分割してステツプ状に露光
する方式が開発され、現在では１チツプずつ露光
する方式がとられている。
細化要求にともない一括露光は不可能となり、ウ
エハ全面をいくつかに分割してステツプ状に露光
する方式が開発され、現在では１チツプずつ露光
する方式がとられている。
上記したステツプ状露光には第４図に示される
縮小投影型露光装置が用いられ、同図において、
２１は照明光学系、２２はレチクル、２３はコン
デンサレンズ、２４はステツプモニタ光学系、２
５はレチクルアラインメント光学系、２６は
ITVカメラ、２７は縮小投影レンズ、２８はオ
ートフオーカス検出系、２９はＸ軸干渉計、３０
はＹ軸干渉計、３１はウエハ、３２はウエハアラ
インメント光学系、３３はXYステージ、３４は
基準マーク、３５はITVカメラ、３６はHe−Ne
レーザ光源を示す。XYステージ３３はＸ方向と
Ｙ方向に移動可能な公知のステージである。
縮小投影型露光装置が用いられ、同図において、
２１は照明光学系、２２はレチクル、２３はコン
デンサレンズ、２４はステツプモニタ光学系、２
５はレチクルアラインメント光学系、２６は
ITVカメラ、２７は縮小投影レンズ、２８はオ
ートフオーカス検出系、２９はＸ軸干渉計、３０
はＹ軸干渉計、３１はウエハ、３２はウエハアラ
インメント光学系、３３はXYステージ、３４は
基準マーク、３５はITVカメラ、３６はHe−Ne
レーザ光源を示す。XYステージ３３はＸ方向と
Ｙ方向に移動可能な公知のステージである。
縮小投影型露光装置のアラインメント方式は２
つに大別され、１つはオフ・アクシス方式であ
り、それは第２図を参照すると、レチクルの位置
決めは上側に設けられたRxy、RQで示された２
本のアラインメント光学系で行い、ウエハの方
は、レチクル側とは独立したWx、Wy、WQの３
本の顕微鏡で位置決めを行う。しかる後に、ウエ
ハをのせたステージを移動させ、その移動量はレ
ーザ干渉計によつて測定しながら定められた露光
位置へ送り込む。
つに大別され、１つはオフ・アクシス方式であ
り、それは第２図を参照すると、レチクルの位置
決めは上側に設けられたRxy、RQで示された２
本のアラインメント光学系で行い、ウエハの方
は、レチクル側とは独立したWx、Wy、WQの３
本の顕微鏡で位置決めを行う。しかる後に、ウエ
ハをのせたステージを移動させ、その移動量はレ
ーザ干渉計によつて測定しながら定められた露光
位置へ送り込む。
オフ・アクシス方式は専用の顕微鏡を用いて良
好なSNの信号を得ることができるが、２つの問
題がある。１つは、アラインメント完了後ウエハ
を露光位置すなわち投影レンズの光軸の位置へ移
動させなければならない。その間の移動量はレー
ザ干渉計で測定されてはいるものの、ウエハ３１
をのせたXYステージ３３にヨーイングがあると
無視できない誤差が出る。これを避けるために
Wx、Wy、WQの３本の顕微鏡をそれぞれ光軸を
通るＸ軸、Ｙ軸上に配置し、いわゆるアツベの誤
差を除去する構造となつている。
好なSNの信号を得ることができるが、２つの問
題がある。１つは、アラインメント完了後ウエハ
を露光位置すなわち投影レンズの光軸の位置へ移
動させなければならない。その間の移動量はレー
ザ干渉計で測定されてはいるものの、ウエハ３１
をのせたXYステージ３３にヨーイングがあると
無視できない誤差が出る。これを避けるために
Wx、Wy、WQの３本の顕微鏡をそれぞれ光軸を
通るＸ軸、Ｙ軸上に配置し、いわゆるアツベの誤
差を除去する構造となつている。
現在の露光装置、特にステツパー装置はウエハ
の直径分の移動距離が必要であるので、ウエハの
大口径化にともなつて移動ステージ（XYステー
ジ）も大になり、精度が悪くなり、露光装置全体
が大型化する問題がある。
の直径分の移動距離が必要であるので、ウエハの
大口径化にともなつて移動ステージ（XYステー
ジ）も大になり、精度が悪くなり、露光装置全体
が大型化する問題がある。
本発明は、上記問題点を解消した露光装置を提
供するもので、その手段は、ステツパー装置によ
る露光において、ウエハが載置されたウエハステ
ージのXY方向移動に、よりウエハの1/2、1/4…
…１／ｎ（ただしｎは正の整数）部分を露光した
後に、当該ウエハステージを操作してウエハをそ
れぞれ1/2、1/4……１／ｎ回転させ前記した露光
を行い、以下かかる操作を繰り返しウエハ全面を
露光する構成としたことを特徴とする露光装置に
よつてなされる。
供するもので、その手段は、ステツパー装置によ
る露光において、ウエハが載置されたウエハステ
ージのXY方向移動に、よりウエハの1/2、1/4…
…１／ｎ（ただしｎは正の整数）部分を露光した
後に、当該ウエハステージを操作してウエハをそ
れぞれ1/2、1/4……１／ｎ回転させ前記した露光
を行い、以下かかる操作を繰り返しウエハ全面を
露光する構成としたことを特徴とする露光装置に
よつてなされる。
上記露光装置特にステツパー装置は、露光をな
すときに試料例えばウエハを1/2、1/4……１／ｎ
回転させ、例えばＸ方向のステージの動きを減ず
ることによりウエハステージの移動距離をすくな
くし、XYステージの小型化と高精度化を実現す
るものである。
すときに試料例えばウエハを1/2、1/4……１／ｎ
回転させ、例えばＸ方向のステージの動きを減ず
ることによりウエハステージの移動距離をすくな
くし、XYステージの小型化と高精度化を実現す
るものである。
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説
明する。
明する。
本発明は、ステツパー装置がチツプを１個ずつ
露光して行くことを利用して、露光の際に、ウエ
ハを1/2、1/4……回転させて、ウエハステージの
移動距離を少なくしようとするものであり、その
目的でXYステージ３３を1/2、1/4……回転させ
る。
露光して行くことを利用して、露光の際に、ウエ
ハを1/2、1/4……回転させて、ウエハステージの
移動距離を少なくしようとするものであり、その
目的でXYステージ３３を1/2、1/4……回転させ
る。
ウエハを1/2回転する実施例を第１図を参照し
て説明する。
て説明する。
先ず第１図ａに示される如く、ウエハ３１の上
半部分を露光する。そのために、ウエハステージ
は図の最上列左端にあるチツプ３１ａに始まり１
チツプ分ずつＸ方向に移動して最右端のチツプ３
１ｍを露光する。なお、図においては簡略化のた
めチツプは模式的に大なる寸法で示す。
半部分を露光する。そのために、ウエハステージ
は図の最上列左端にあるチツプ３１ａに始まり１
チツプ分ずつＸ方向に移動して最右端のチツプ３
１ｍを露光する。なお、図においては簡略化のた
めチツプは模式的に大なる寸法で示す。
次いで、チツプ３１ｍからＹ方向に１チツプ分
移動し、前とは逆のＸ方向に移動する。またはそ
れに代えて、チツプ３１ａの下のチツプのところ
に、移動し、Ｘ方向に最初に述べたと同様に移動
してもよい。
移動し、前とは逆のＸ方向に移動する。またはそ
れに代えて、チツプ３１ａの下のチツプのところ
に、移動し、Ｘ方向に最初に述べたと同様に移動
してもよい。
上記の如くにしてウエハの上半部分の露光がす
べて終ると、ウエハ３１を1/2回転し、第３図ｂ
に示される如く残りの半部分を露光する。かかる
露光方法によると、ウエハステージは、Ｘ方向に
ウエハの直径分だけ移動するが、Ｙ方向にはウエ
ハの直径の半分の距離を移動するだけでよい。
べて終ると、ウエハ３１を1/2回転し、第３図ｂ
に示される如く残りの半部分を露光する。かかる
露光方法によると、ウエハステージは、Ｘ方向に
ウエハの直径分だけ移動するが、Ｙ方向にはウエ
ハの直径の半分の距離を移動するだけでよい。
ウエハを1/4回転させる実施例は第２図に示さ
れ、先ず同図ａに示される如くウエハの左上1/4
部分をチツプ４１ａから４１ｎまで露光し、次い
でウエハを1/4回転し同図ｂに示される如く第４
図ａで露光された部分の下の1/4部分を前と同様
に露光し、次いで同図ｃに示される如く次の1/4
部分を露光し、最後に同図ｄに示される如く残り
の1/4部分を露光する。この例において、ウエハ
ステージは、Ｘ方向とＹ方向にウエハの直径の半
分の距離だけ移動すればよい。なお第２図におい
ても、チツプは模式的に大なる寸法で図示した。
れ、先ず同図ａに示される如くウエハの左上1/4
部分をチツプ４１ａから４１ｎまで露光し、次い
でウエハを1/4回転し同図ｂに示される如く第４
図ａで露光された部分の下の1/4部分を前と同様
に露光し、次いで同図ｃに示される如く次の1/4
部分を露光し、最後に同図ｄに示される如く残り
の1/4部分を露光する。この例において、ウエハ
ステージは、Ｘ方向とＹ方向にウエハの直径の半
分の距離だけ移動すればよい。なお第２図におい
ても、チツプは模式的に大なる寸法で図示した。
第３図に示される実施例においては、先ず同図
ａに示される如くウエハの半径方向の最外側のチ
ツプ５１ａを露光する。次にウエハを１／ｎ回転
し、同図ｂに示される如くウエハの半径方向最外
側のチツプ５２ａを露光し、順次この操作を繰り
返してチツプ５１ａに戻ると、ウエハの半径方向
にチツプ５１ａの真直ぐ下に位置するチツプ５１
ｂを露光し、順次前述した露光をウエハの中心部
分の近くまで繰り返す。
ａに示される如くウエハの半径方向の最外側のチ
ツプ５１ａを露光する。次にウエハを１／ｎ回転
し、同図ｂに示される如くウエハの半径方向最外
側のチツプ５２ａを露光し、順次この操作を繰り
返してチツプ５１ａに戻ると、ウエハの半径方向
にチツプ５１ａの真直ぐ下に位置するチツプ５１
ｂを露光し、順次前述した露光をウエハの中心部
分の近くまで繰り返す。
または上記に代えて、ウエハの半径方向にウエ
ハの中心に最も近いチツプから露光を始め、上記
したと同じ操作を繰り返してもよい。露光を外側
から始めるか中心近くから始めるかは適宜選択す
るが、ウエハの中心近くではウエハの回転を適宜
変更するとよい。
ハの中心に最も近いチツプから露光を始め、上記
したと同じ操作を繰り返してもよい。露光を外側
から始めるか中心近くから始めるかは適宜選択す
るが、ウエハの中心近くではウエハの回転を適宜
変更するとよい。
かくすることによつて、ウエハステージのＸ方
向の移動はウエハ直径の半分かまたは０となり、
Ｙ方向の移動はウエハ直径の半分に減少されるの
で、装置の小型化が実現され、コストが低減さ
れ、精度が高められる。
向の移動はウエハ直径の半分かまたは０となり、
Ｙ方向の移動はウエハ直径の半分に減少されるの
で、装置の小型化が実現され、コストが低減さ
れ、精度が高められる。
上記はウエハの露光についての例であつたが、
本発明の適用範囲はその場合に限定されるもので
はなく、検査装置等にも適用可能である。
本発明の適用範囲はその場合に限定されるもので
はなく、検査装置等にも適用可能である。
以上説明したように本発明によれば、露光また
は検査目的等のためのウエハステージの操作にお
いて、ウエハを1/2、1/4……１／ｎ回転させるこ
とにより同ステージのＸ方向移動はウエハ直径の
１／２かまたは０に、またＹ方向移動はウエハ直径
の1/2に減少されるので、装置の小型化と精度を
高めるのに効果大である。
は検査目的等のためのウエハステージの操作にお
いて、ウエハを1/2、1/4……１／ｎ回転させるこ
とにより同ステージのＸ方向移動はウエハ直径の
１／２かまたは０に、またＹ方向移動はウエハ直径
の1/2に減少されるので、装置の小型化と精度を
高めるのに効果大である。
第１図ａ，ｂ、第２図ａないしｄ、第３図ａ，
ｂは本発明によるウエハの回転を示す平面図、第
４図は従来の縮小露光装置の配置図である。 図において、３１はウエハ、３３はXYステー
ジ、３１ａ……３１ｍ，４１ａ……４１ｎ，５１
ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂはチツプをそれぞれ
示す。
ｂは本発明によるウエハの回転を示す平面図、第
４図は従来の縮小露光装置の配置図である。 図において、３１はウエハ、３３はXYステー
ジ、３１ａ……３１ｍ，４１ａ……４１ｎ，５１
ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂはチツプをそれぞれ
示す。
Claims (1)
- １ ウエハが載置されたウエハステージのXY方
向移動によりウエハの1/2、1/4……１／ｎ（ただ
しｎは正の整数）部分を露光した後に、当該ウエ
ハステージを操作してウエハをそれぞれ1/2、1/4
……１／ｎ回転させ前記した露光を行い、以下か
かる操作を繰り返しウエハ全面を露光する構成と
したことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59130434A JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59130434A JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618923A JPS618923A (ja) | 1986-01-16 |
| JPH0469408B2 true JPH0469408B2 (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=15034142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59130434A Granted JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618923A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0628224B2 (ja) * | 1985-10-29 | 1994-04-13 | キヤノン株式会社 | 露光方法および装置 |
| JPH04105069U (ja) * | 1991-02-18 | 1992-09-10 | 株式会社東芝 | エレベータ |
| JP2559470Y2 (ja) * | 1991-05-13 | 1998-01-19 | フジテック株式会社 | エレベータかご室の芳香装置 |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP59130434A patent/JPS618923A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS618923A (ja) | 1986-01-16 |
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