JPH04285158A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH04285158A JPH04285158A JP4715091A JP4715091A JPH04285158A JP H04285158 A JPH04285158 A JP H04285158A JP 4715091 A JP4715091 A JP 4715091A JP 4715091 A JP4715091 A JP 4715091A JP H04285158 A JPH04285158 A JP H04285158A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- vapor deposition
- plate
- crucible
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［発明の目的］
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子ビーム加熱方式の真
空蒸着装置において、特に基板以外に付着して無効とな
った蒸着物質を連続的に安定して回収し、再び蒸着に利
用することにより、装置の運転効率および経済性を向上
させるようにした真空蒸着装置に関する。
空蒸着装置において、特に基板以外に付着して無効とな
った蒸着物質を連続的に安定して回収し、再び蒸着に利
用することにより、装置の運転効率および経済性を向上
させるようにした真空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば半導体成膜処理の開発では
一般的に真空蒸着による薄膜生成技術が採用されている
。
一般的に真空蒸着による薄膜生成技術が採用されている
。
【０００３】この薄膜生成技術は蒸着物質を真空中で蒸
気化して基板に蒸着させるものであり、物質を蒸発させ
る手段としては特に電子ビーム加熱方式が発生，制御等
に係わる技術的簡易性および経済的に有利であるという
理由から広く使用されている。
気化して基板に蒸着させるものであり、物質を蒸発させ
る手段としては特に電子ビーム加熱方式が発生，制御等
に係わる技術的簡易性および経済的に有利であるという
理由から広く使用されている。
【０００４】図６はかかる電子ビーム加熱方式による真
空蒸着装置の概略構成例を模式的に示したものである。 図６において、真空槽１は図示しない真空排気装置によ
り所定の真空度（１０−５〜１０−６Ｔｏｒｒ）に保持
されている。この真空槽１内には、上部から下部方向に
狭まるように傾斜する周壁面を有する蒸気封入容器２が
設けられており、この蒸気封入容器２の下部には蒸着物
質３を収納したるつぼ４が設置され、その上方に蒸着す
べき基板５が図示していない支持体に支持されて設けら
れている。また、るつぼ４の一側方に電子銃６が配設さ
れ、この電子銃６から発射された電子ビーム７を蒸着物
質３に照射することにより蒸着物質３を加熱，蒸発せし
めて蒸気流８を生成させる。この場合、るつぼ４には冷
却パイプ９が埋設されており、加熱時に冷却水を流して
るつぼ４が高温になり過ぎて溶融しないようにしてある
。
空蒸着装置の概略構成例を模式的に示したものである。 図６において、真空槽１は図示しない真空排気装置によ
り所定の真空度（１０−５〜１０−６Ｔｏｒｒ）に保持
されている。この真空槽１内には、上部から下部方向に
狭まるように傾斜する周壁面を有する蒸気封入容器２が
設けられており、この蒸気封入容器２の下部には蒸着物
質３を収納したるつぼ４が設置され、その上方に蒸着す
べき基板５が図示していない支持体に支持されて設けら
れている。また、るつぼ４の一側方に電子銃６が配設さ
れ、この電子銃６から発射された電子ビーム７を蒸着物
質３に照射することにより蒸着物質３を加熱，蒸発せし
めて蒸気流８を生成させる。この場合、るつぼ４には冷
却パイプ９が埋設されており、加熱時に冷却水を流して
るつぼ４が高温になり過ぎて溶融しないようにしてある
。
【０００５】また、基板５の上方には基板５とは異なる
方向に蒸発する蒸気流１０を回収するための２個の蒸気
回収板１１が基板５の上方部から斜め下方に傾斜させて
左右対称に配設され、図示していない支持部材により支
持されている。従って、このような構成の真空蒸着装置
において、るつぼ４に収納された蒸着物質３に電子銃６
により電子ビーム７を照射して該蒸着物質３を加熱，蒸
発させると蒸気流が生成されて拡散し、基板方向に上昇
する蒸気流８は基板５に衝突すると該基板５上に蒸着膜
１２が形成され、また基板５方向とは方向とは異なる方
向に蒸発する蒸気流１０が蒸気回収板１１に衝突すると
、該蒸気回収板１１に蒸着膜１３が形成される。この蒸
気回収板１１に形成された蒸着膜１３は蒸気回収板１１
全体を図示しない熱源で蒸着物質の溶融点以上の温度で
一様に加熱させることにより、溶融，液化し、これを蒸
気回収板１１の下面の傾斜面に沿って流下させ、蒸気封
入容器２の壁面に伝わってるつぼ４内に回収するように
している。
方向に蒸発する蒸気流１０を回収するための２個の蒸気
回収板１１が基板５の上方部から斜め下方に傾斜させて
左右対称に配設され、図示していない支持部材により支
持されている。従って、このような構成の真空蒸着装置
において、るつぼ４に収納された蒸着物質３に電子銃６
により電子ビーム７を照射して該蒸着物質３を加熱，蒸
発させると蒸気流が生成されて拡散し、基板方向に上昇
する蒸気流８は基板５に衝突すると該基板５上に蒸着膜
１２が形成され、また基板５方向とは方向とは異なる方
向に蒸発する蒸気流１０が蒸気回収板１１に衝突すると
、該蒸気回収板１１に蒸着膜１３が形成される。この蒸
気回収板１１に形成された蒸着膜１３は蒸気回収板１１
全体を図示しない熱源で蒸着物質の溶融点以上の温度で
一様に加熱させることにより、溶融，液化し、これを蒸
気回収板１１の下面の傾斜面に沿って流下させ、蒸気封
入容器２の壁面に伝わってるつぼ４内に回収するように
している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の真空蒸着装置においては、蒸気回収板１１全体を一
様に加熱して蒸着膜１３を溶融する場合、まず最初に蒸
気回収板１１と蒸着膜１３との接触部が溶融するため蒸
着膜の自重により剥離して落下してしまったり、蒸着膜
が剥離しないまでも蒸着物質の表面張力ならびに比重が
大きい場合や回収板との濡れ性が小さい場合には、回収
板の蒸着物質の溶融による液滴が蒸気回収板の傾斜面に
沿って流下するに従い液滴が成長し、落下限界重量より
も大きくなると蒸気回収板から滴下してしまい、連続的
に液化回収できず、装置を長時間連続して運転できない
という問題があった。
来の真空蒸着装置においては、蒸気回収板１１全体を一
様に加熱して蒸着膜１３を溶融する場合、まず最初に蒸
気回収板１１と蒸着膜１３との接触部が溶融するため蒸
着膜の自重により剥離して落下してしまったり、蒸着膜
が剥離しないまでも蒸着物質の表面張力ならびに比重が
大きい場合や回収板との濡れ性が小さい場合には、回収
板の蒸着物質の溶融による液滴が蒸気回収板の傾斜面に
沿って流下するに従い液滴が成長し、落下限界重量より
も大きくなると蒸気回収板から滴下してしまい、連続的
に液化回収できず、装置を長時間連続して運転できない
という問題があった。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
、その目的は蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実に連
続して液化回収でき、もって長時間連続運転が可能で経
済的に有利な真空蒸着装置を提供することにある。 ［発明の構成］
、その目的は蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実に連
続して液化回収でき、もって長時間連続運転が可能で経
済的に有利な真空蒸着装置を提供することにある。 ［発明の構成］
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は真空槽内に蒸着物質を収納したるつぼを配
設し、電子ビームの照射により前記蒸着物質を加熱，蒸
発させ、その金属蒸気をるつぼ上方に設けた基板上に付
着させて蒸着膜を形成し、また前記基板とは異なる位置
に設けられた蒸気回収板に前記基板とは異なる方向に蒸
発する金属蒸気を付着させると共にこの蒸着物質を加熱
・溶融して回収するように構成した真空蒸着装置におい
て、前記蒸気回収板の回収表面に傾斜面上方側から下方
側に沿って円弧状から円状に連続的に変化させた溝を複
数本形成させたことを特徴とするものである。
に、本発明は真空槽内に蒸着物質を収納したるつぼを配
設し、電子ビームの照射により前記蒸着物質を加熱，蒸
発させ、その金属蒸気をるつぼ上方に設けた基板上に付
着させて蒸着膜を形成し、また前記基板とは異なる位置
に設けられた蒸気回収板に前記基板とは異なる方向に蒸
発する金属蒸気を付着させると共にこの蒸着物質を加熱
・溶融して回収するように構成した真空蒸着装置におい
て、前記蒸気回収板の回収表面に傾斜面上方側から下方
側に沿って円弧状から円状に連続的に変化させた溝を複
数本形成させたことを特徴とするものである。
【０００９】
【作用】本発明による真空蒸着装置は、基板方向に蒸発
する金属蒸気フラックスの大きい蒸気回収板上方側では
円弧状であるが液滴はまだ成長初期段階であるため滴下
することはなく、蒸気回収板の傾斜面に沿って流下する
に従い液滴が成長しても傾斜面に沿って溝の形状が円状
となっているため、液滴は蒸気回収板表面から離脱滴下
することがなくなり、連続的な液化回収が可能となる。
する金属蒸気フラックスの大きい蒸気回収板上方側では
円弧状であるが液滴はまだ成長初期段階であるため滴下
することはなく、蒸気回収板の傾斜面に沿って流下する
に従い液滴が成長しても傾斜面に沿って溝の形状が円状
となっているため、液滴は蒸気回収板表面から離脱滴下
することがなくなり、連続的な液化回収が可能となる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
【００１１】図１は本発明の一実施例である真空蒸着装
置の蒸気回収板の斜視図であり、また図２は図１のＡ矢
視方向からみた図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿った部分
断面図、図４は図１のＣ−Ｃ線に沿った部分断面図、図
５はＤ−Ｄ線に沿った部分断面図である。なお、蒸気回
収板以外の構成は既に説明した図６の従来の真空蒸着装
置と同様であるので、その説明は省略するものとする。
置の蒸気回収板の斜視図であり、また図２は図１のＡ矢
視方向からみた図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿った部分
断面図、図４は図１のＣ−Ｃ線に沿った部分断面図、図
５はＤ−Ｄ線に沿った部分断面図である。なお、蒸気回
収板以外の構成は既に説明した図６の従来の真空蒸着装
置と同様であるので、その説明は省略するものとする。
【００１２】本実施例の蒸気回収板２１は図６で示す従
来の蒸気回収板１１の代わりとして用いたものである。 すなわち、２個の蒸気回収板２１は基板の上方から斜め
下方に傾斜させて左右対称に配置されており、この蒸気
回収板２１には無効蒸気の蒸着膜を加熱し液化するため
の図示しないヒータが設けられている。また蒸気回収板
２１の回収表面には上方側から下方側に沿って溝を形成
しており、この溝は、図２〜図４に示したように、平面
に近い円弧状（中心角１０°）の溝からだんだん円状に
なるように形成された溝（２２ａ，２２ｂ，２２ｃ）が
複数本設けられている。
来の蒸気回収板１１の代わりとして用いたものである。 すなわち、２個の蒸気回収板２１は基板の上方から斜め
下方に傾斜させて左右対称に配置されており、この蒸気
回収板２１には無効蒸気の蒸着膜を加熱し液化するため
の図示しないヒータが設けられている。また蒸気回収板
２１の回収表面には上方側から下方側に沿って溝を形成
しており、この溝は、図２〜図４に示したように、平面
に近い円弧状（中心角１０°）の溝からだんだん円状に
なるように形成された溝（２２ａ，２２ｂ，２２ｃ）が
複数本設けられている。
【００１３】本実施例では、このような溝を備えた蒸気
回収板２１を設けることにより次のような作用効果を得
ることができる。すなわち、基板方向とは異なる方向に
金属蒸気が上昇し、蒸気回収板２１の下向き面に付着し
、その付着膜は図示しない加熱手段による加熱により液
化または凝縮する。この液体は傾斜させてある蒸気回収
板２１の溝２２ａ，２２ｂ，２２ｃに沿って流下するの
に従い、液滴となり成長するが、この溝は下方にいくに
従い円状に近く（弧の中心角３５０°）なっているため
成長しても液滴はその途中で回収板２１から離脱滴下す
ることないので、蒸着物質を連続的に回収することがで
きる。本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
その要旨を変更しない範囲で種々変形して実施できるこ
とは勿論である。
回収板２１を設けることにより次のような作用効果を得
ることができる。すなわち、基板方向とは異なる方向に
金属蒸気が上昇し、蒸気回収板２１の下向き面に付着し
、その付着膜は図示しない加熱手段による加熱により液
化または凝縮する。この液体は傾斜させてある蒸気回収
板２１の溝２２ａ，２２ｂ，２２ｃに沿って流下するの
に従い、液滴となり成長するが、この溝は下方にいくに
従い円状に近く（弧の中心角３５０°）なっているため
成長しても液滴はその途中で回収板２１から離脱滴下す
ることないので、蒸着物質を連続的に回収することがで
きる。本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
その要旨を変更しない範囲で種々変形して実施できるこ
とは勿論である。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実に連続して液化回
収し、再び蒸着に利用することができるので、装置の長
時間連続運転が可能となるとともに経済的にも有利な真
空蒸着装置を提供することができる。
蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実に連続して液化回
収し、再び蒸着に利用することができるので、装置の長
時間連続運転が可能となるとともに経済的にも有利な真
空蒸着装置を提供することができる。
【図１】本発明の一実施例の斜視図。
【図２】図１のＡ矢視方向からみた図。
【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿った部分断面図。
【図４】図１のＣ−Ｃ線に沿った部分断面図。
【図５】図１のＤ−Ｄ線に沿った断面図。
【図６】従来の真空蒸着装置を模式的に表した構成図。
１…真空槽、２…蒸気封入容器、３…蒸着物質、４…る
つぼ、５…基板、６…電子銃、７…電子ビーム、８…蒸
気流、９…冷却パイプ、１０…無効蒸気流、１１…蒸気
回収板、１２…蒸着膜、１３…無効となった蒸着膜、２
１…蒸気回収板。
つぼ、５…基板、６…電子銃、７…電子ビーム、８…蒸
気流、９…冷却パイプ、１０…無効蒸気流、１１…蒸気
回収板、１２…蒸着膜、１３…無効となった蒸着膜、２
１…蒸気回収板。
Claims (1)
- 【請求項１】真空槽内に蒸着物質を収納したるつぼを配
設し、電子ビームの照射により前記蒸着物質を加熱，蒸
発させ、その金属蒸気をるつぼ上方に設けた基板上に付
着させて蒸着膜を形成し、また前記基板とは異なる位置
に設けられた蒸気回収板に前記基板とは異なる方向に蒸
発する金属蒸気を付着させると共にこの蒸着物質を加熱
・溶融して回収するように構成した真空蒸着装置におい
て、前記蒸気回収板の回収表面に傾斜面上方側から下方
側に沿って円弧状から円状に連続的に変化させた溝を複
数本形成させたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4715091A JPH04285158A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4715091A JPH04285158A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04285158A true JPH04285158A (ja) | 1992-10-09 |
Family
ID=12767069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4715091A Pending JPH04285158A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04285158A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012214893A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Seagate Technology Llc | 凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システム |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP4715091A patent/JPH04285158A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012214893A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Seagate Technology Llc | 凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システム |
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