JPH0681134A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH0681134A JPH0681134A JP23329092A JP23329092A JPH0681134A JP H0681134 A JPH0681134 A JP H0681134A JP 23329092 A JP23329092 A JP 23329092A JP 23329092 A JP23329092 A JP 23329092A JP H0681134 A JPH0681134 A JP H0681134A
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- vapor deposition
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 蒸着回収板に付着した蒸着物質を連続的に安
定して液化回収でき、長時間の連続運転を可能とする。 【構成】 所定の真空度（10-5〜10-6Torr）に保持した
真空槽１内に上方を下方より広くしかつ下方に蒸着物質
５を収容したるつぼ３の上部より狭くした開口部を形成
する様にした傾斜した壁面を有し、電子ビ―ム８が流入
する開口部２ａを設けた蒸気封入容器２を装着する。こ
の蒸気封入容器２の上部には、蒸着物質５を蒸着する基
板６を支持し、るつぼ３の側方で蒸気封入容器２の外部
に電子銃７を装置する。また蒸気封入容器２の上方に
は、回収面に液滴流下促進用のブロック21（回収面平
滑：ブロック幅Ｗ≦ｄf ，回収面溝ありＷ≦ｄs ，ブロ
ック長さｌ≧３ｗ）を複数個設けてある一対の蒸気回収
板11を、基板６の上方から斜め下方に傾斜させて左右対
称に配置する。
定して液化回収でき、長時間の連続運転を可能とする。 【構成】 所定の真空度（10-5〜10-6Torr）に保持した
真空槽１内に上方を下方より広くしかつ下方に蒸着物質
５を収容したるつぼ３の上部より狭くした開口部を形成
する様にした傾斜した壁面を有し、電子ビ―ム８が流入
する開口部２ａを設けた蒸気封入容器２を装着する。こ
の蒸気封入容器２の上部には、蒸着物質５を蒸着する基
板６を支持し、るつぼ３の側方で蒸気封入容器２の外部
に電子銃７を装置する。また蒸気封入容器２の上方に
は、回収面に液滴流下促進用のブロック21（回収面平
滑：ブロック幅Ｗ≦ｄf ，回収面溝ありＷ≦ｄs ，ブロ
ック長さｌ≧３ｗ）を複数個設けてある一対の蒸気回収
板11を、基板６の上方から斜め下方に傾斜させて左右対
称に配置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビ―ム加熱方式の
真空蒸着装置に係り、特に被蒸着体である基板以外に付
着して無効となった蒸着物質を連続的かつ安定的に回収
して再び基板への蒸着に利用することにより、装置の運
転効率および経済性を向上させた真空蒸着装置に関す
る。
真空蒸着装置に係り、特に被蒸着体である基板以外に付
着して無効となった蒸着物質を連続的かつ安定的に回収
して再び基板への蒸着に利用することにより、装置の運
転効率および経済性を向上させた真空蒸着装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体成膜処理等においては、一般的に
真空蒸着による薄膜生成技術が採用されている。この薄
膜生成技術は蒸着物質の蒸気流を形成して基板に蒸着さ
せるものであり、蒸着物質として融点の高い金属を蒸発
させる手段として技術の簡易性および経済性の観点か
ら、特に電子ビ―ム加熱方式が広く利用されている。
真空蒸着による薄膜生成技術が採用されている。この薄
膜生成技術は蒸着物質の蒸気流を形成して基板に蒸着さ
せるものであり、蒸着物質として融点の高い金属を蒸発
させる手段として技術の簡易性および経済性の観点か
ら、特に電子ビ―ム加熱方式が広く利用されている。
【０００３】ところで、従来の電子ビ―ム加熱方式によ
る真空蒸着装置は、真空蒸着装置により所定の真空度
（10-5〜10-6Torr）に保持された真空槽を備え、この真
空槽内には上方に広くなるように傾斜した壁面を有する
蒸気封入器を蒸着し、この蒸気封入容器の下部に蒸着物
質を収容したるつぼを設け、その上方に蒸着すべき基板
を図示していない支持手段で支持するようにしている。
また、るつぼの側方には電子銃を配設し、電子銃から照
射された電子ビ―ムを蒸着物質に照射すること（電子衝
撃）により、蒸着物質を加熱・蒸発させて蒸気流を生成
する。さらに基板の上方には図１に示すように基板６に
向かう方向とは異なる方向に蒸発する蒸気流（以下、無
効蒸気という）を回収するための蒸気回収板11を基板の
上方から斜め下方に傾斜させて左右対称に配置し、図示
していない支持手段で支持している。
る真空蒸着装置は、真空蒸着装置により所定の真空度
（10-5〜10-6Torr）に保持された真空槽を備え、この真
空槽内には上方に広くなるように傾斜した壁面を有する
蒸気封入器を蒸着し、この蒸気封入容器の下部に蒸着物
質を収容したるつぼを設け、その上方に蒸着すべき基板
を図示していない支持手段で支持するようにしている。
また、るつぼの側方には電子銃を配設し、電子銃から照
射された電子ビ―ムを蒸着物質に照射すること（電子衝
撃）により、蒸着物質を加熱・蒸発させて蒸気流を生成
する。さらに基板の上方には図１に示すように基板６に
向かう方向とは異なる方向に蒸発する蒸気流（以下、無
効蒸気という）を回収するための蒸気回収板11を基板の
上方から斜め下方に傾斜させて左右対称に配置し、図示
していない支持手段で支持している。
【０００４】以上のような真空蒸着装置を用いて基板に
蒸着膜を形成させるには、まず、るつぼ３に蒸着物質を
収容し、電子銃７でこの蒸着物質を加熱・蒸発させ、蒸
気流を生成する。基板６に向かって拡散した蒸気流が基
板６に衝突してこの基板６上に蒸着膜を形成する。拡散
する蒸気流のうち、無効蒸気20は、基板６に向かう方向
とは異なる方向に蒸発するので、基板６への蒸着に寄与
せず無駄になるが、以下の方法により回収され再利用さ
れる。即ち、無効蒸気20は、蒸気回収板11に衝突して蒸
着膜10を形成する。次に、蒸気回収板11全体を図示して
いないヒ―タを用いて蒸着物質の融点以上で一様に加熱
することによって蒸着膜10を液化し、液化した蒸着物質
を蒸気回収板11の下面（以下、回収面という）および蒸
気封入容器２壁面に沿って流下させ、るつぼ３内に回収
する。
蒸着膜を形成させるには、まず、るつぼ３に蒸着物質を
収容し、電子銃７でこの蒸着物質を加熱・蒸発させ、蒸
気流を生成する。基板６に向かって拡散した蒸気流が基
板６に衝突してこの基板６上に蒸着膜を形成する。拡散
する蒸気流のうち、無効蒸気20は、基板６に向かう方向
とは異なる方向に蒸発するので、基板６への蒸着に寄与
せず無駄になるが、以下の方法により回収され再利用さ
れる。即ち、無効蒸気20は、蒸気回収板11に衝突して蒸
着膜10を形成する。次に、蒸気回収板11全体を図示して
いないヒ―タを用いて蒸着物質の融点以上で一様に加熱
することによって蒸着膜10を液化し、液化した蒸着物質
を蒸気回収板11の下面（以下、回収面という）および蒸
気封入容器２壁面に沿って流下させ、るつぼ３内に回収
する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上説
明した様な従来の真空蒸着装置では、無効となった蒸着
物質20を液化回収する過程において、その液滴が成長
し、流下途中で液滴同士が合体した際に滴下してしまい
うまく回収できない場合が生じる。特に、蒸気回収板11
の水平面を基準とした傾斜角が小さい場合は液滴が流下
開始する時の液滴径ｄf が大きくなる。つまり液滴が流
下するまでの周期が長くなり回収面に付着している液滴
の量が多くなり、液滴が流下途中の合体時に滴下しやす
くなる。
明した様な従来の真空蒸着装置では、無効となった蒸着
物質20を液化回収する過程において、その液滴が成長
し、流下途中で液滴同士が合体した際に滴下してしまい
うまく回収できない場合が生じる。特に、蒸気回収板11
の水平面を基準とした傾斜角が小さい場合は液滴が流下
開始する時の液滴径ｄf が大きくなる。つまり液滴が流
下するまでの周期が長くなり回収面に付着している液滴
の量が多くなり、液滴が流下途中の合体時に滴下しやす
くなる。
【０００６】このように液化回収途中で滴下した蒸着物
質は蒸気回収容器の壁面を経てるつぼ３に回収されず、
直接るつぼ３に落下し、るつぼ３に収容された蒸着物質
を飛散させる。飛散した蒸着物質は電子銃に付着して電
子銃に付着して電子銃の性能を低下させることもあり、
真空蒸着装置の運転を停止しなければならない場合も生
じる。したがって、従来の真空蒸着装置の蒸気回収板11
の構成では蒸着物質を連続的かつ安定的に回収できない
という欠点があった。
質は蒸気回収容器の壁面を経てるつぼ３に回収されず、
直接るつぼ３に落下し、るつぼ３に収容された蒸着物質
を飛散させる。飛散した蒸着物質は電子銃に付着して電
子銃に付着して電子銃の性能を低下させることもあり、
真空蒸着装置の運転を停止しなければならない場合も生
じる。したがって、従来の真空蒸着装置の蒸気回収板11
の構成では蒸着物質を連続的かつ安定的に回収できない
という欠点があった。
【０００７】本発明は上述した事情に鑑みてなされたも
ので、蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実かつ連続的
に液化回収でき、しかも長時間連続可能で経済的に有利
な真空蒸着装置を提供することを目的とする。
ので、蒸気回収板に付着した蒸着物質を確実かつ連続的
に液化回収でき、しかも長時間連続可能で経済的に有利
な真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を達成するため、真空槽内に蒸気封入容器を設け、この
蒸気封入容器の下方に蒸着物質を収容した容器を配設
し、電子ビ―ム照射により蒸着物質を加熱蒸発させ、容
器上方に配設した基板上に付着させて蒸着膜を形成させ
るとともに、基板とは異なる位置に蒸気回収板を配設
し、基板に向かう方向とは異なる方向に蒸発する蒸着物
質を蒸気回収板の回収面に付着させ、この回収面に付着
した蒸着物質を加熱・液化して回収面に沿って流下させ
ることにより蒸着物質を容器に回収するように構成した
真空蒸着装置において、
を達成するため、真空槽内に蒸気封入容器を設け、この
蒸気封入容器の下方に蒸着物質を収容した容器を配設
し、電子ビ―ム照射により蒸着物質を加熱蒸発させ、容
器上方に配設した基板上に付着させて蒸着膜を形成させ
るとともに、基板とは異なる位置に蒸気回収板を配設
し、基板に向かう方向とは異なる方向に蒸発する蒸着物
質を蒸気回収板の回収面に付着させ、この回収面に付着
した蒸着物質を加熱・液化して回収面に沿って流下させ
ることにより蒸着物質を容器に回収するように構成した
真空蒸着装置において、
【０００９】前記蒸気回収板の回収面に液滴流下促進用
の凸状ブロック（但し、回収面が平滑「溝ナシ」な場合
ブロック幅Ｗ≦ｄf ，回収面に溝を形成してある場合Ｗ
≦ｄs ，ブロック長さｌ≧３ｗ，ここでｄf ：液化させ
た蒸着物質の液滴が流下を開始する時の液滴平均直径，
ｄs ：溝凹部の開口幅）を複数個設けたものである。
の凸状ブロック（但し、回収面が平滑「溝ナシ」な場合
ブロック幅Ｗ≦ｄf ，回収面に溝を形成してある場合Ｗ
≦ｄs ，ブロック長さｌ≧３ｗ，ここでｄf ：液化させ
た蒸着物質の液滴が流下を開始する時の液滴平均直径，
ｄs ：溝凹部の開口幅）を複数個設けたものである。
【００１０】
【作用】以上の構成によればブロック上の液滴は、ブロ
ック幅以上に成長できないため液滴の径が溝幅になる
と、その後は長さ方向に液滴は合体し、流下するように
なる。このブロック幅Ｗは、流下開始する時の液滴平均
直径ｄf や溝凹部の開口幅ｄs よりも狭いために、ブロ
ック上の液滴が流下する周期は、他の部分よりも短く、
ここから流下した液滴は下流部の液滴を吸収・合体しな
がら流下する。つまり、このブロックを設けることによ
り、流下液滴径および液滴が流下する周期を減少させ、
回収板に付着する液滴の総量も減少させる。そのため従
来のものと比較して、安定して回収することが可能とな
る。
ック幅以上に成長できないため液滴の径が溝幅になる
と、その後は長さ方向に液滴は合体し、流下するように
なる。このブロック幅Ｗは、流下開始する時の液滴平均
直径ｄf や溝凹部の開口幅ｄs よりも狭いために、ブロ
ック上の液滴が流下する周期は、他の部分よりも短く、
ここから流下した液滴は下流部の液滴を吸収・合体しな
がら流下する。つまり、このブロックを設けることによ
り、流下液滴径および液滴が流下する周期を減少させ、
回収板に付着する液滴の総量も減少させる。そのため従
来のものと比較して、安定して回収することが可能とな
る。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例として、蒸気回収板
の回収面に溝を形成してある場合について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の一実施例を説明するための
断面図である。同図において、１は真空槽で、図示しな
い真空排気装置により所定の真空度（10-5〜10-6Torr）
に保持されている。２は蒸気封入容器で、真空槽１内に
図示していない支持手段で支持され、上方を下方より広
くし、かつ下方に後述するるつぼの上部より狭くした開
口部を形成するように傾斜した壁面を備え、この壁面の
下部に後述する電子ビ―ムを通す開口部２ａを設けてい
る。３はるつぼで蒸気封入容器２の下部に図示していな
い支持手段で装着され、冷却用パイプ４が埋設されてい
て加熱時に冷却水を流すことにより、過大な温度上昇で
るつぼ３が溶融するのを回避している。このるつぼ３に
は蒸着物質５を収容している。また、蒸気封入容器２の
上部には蒸着物質５を蒸着する基板６を図示しない支持
手段により支持している。７は電子銃で、るつぼ３の側
方で蒸気封入容器２の外部に図示しない支持手段で支持
され、照射された電子ビ―ム８が蒸気封入容器２の開口
部２ａを通り、るつぼ３内の蒸着物質５を加熱蒸発させ
て蒸気流９を生成するようになっている。
の回収面に溝を形成してある場合について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の一実施例を説明するための
断面図である。同図において、１は真空槽で、図示しな
い真空排気装置により所定の真空度（10-5〜10-6Torr）
に保持されている。２は蒸気封入容器で、真空槽１内に
図示していない支持手段で支持され、上方を下方より広
くし、かつ下方に後述するるつぼの上部より狭くした開
口部を形成するように傾斜した壁面を備え、この壁面の
下部に後述する電子ビ―ムを通す開口部２ａを設けてい
る。３はるつぼで蒸気封入容器２の下部に図示していな
い支持手段で装着され、冷却用パイプ４が埋設されてい
て加熱時に冷却水を流すことにより、過大な温度上昇で
るつぼ３が溶融するのを回避している。このるつぼ３に
は蒸着物質５を収容している。また、蒸気封入容器２の
上部には蒸着物質５を蒸着する基板６を図示しない支持
手段により支持している。７は電子銃で、るつぼ３の側
方で蒸気封入容器２の外部に図示しない支持手段で支持
され、照射された電子ビ―ム８が蒸気封入容器２の開口
部２ａを通り、るつぼ３内の蒸着物質５を加熱蒸発させ
て蒸気流９を生成するようになっている。
【００１２】一方、基板６の上方には、基板６に向かう
方向とは異なる方向に蒸発する無効蒸気流20を回収する
ための一対の蒸気回収板11，11を、基板６の上方から斜
め下方に傾斜させて左右対称に配置し、図示していない
支持手段で支持されており、この蒸気回収板11には無効
蒸気の付着膜を加熱し、液化させるためのヒ―タ―が設
けられている。図２は蒸気回収板11の回収面の最上部の
部分拡大した正面図，図３は、図２のＡ−Ａ断面図を示
す。液滴流下促進用ブロック21は、蒸気回収板11の最上
部に、溝凹部23の中央部に複数個設けられている。蒸気
回収板11を加熱すると、無効となった蒸着膜が溶融し、
核ができたところで液滴が発生する。このうち、幅の狭
いブロック上の液滴は、その幅以上に成長することがで
きず、流れ方向に合体して細長い液滴25となり流下す
る。ブロック以外の領域の液滴23は、流下できるほど成
長していないため、上流部のブロックから流下してきた
液滴に吸収・合体される。
方向とは異なる方向に蒸発する無効蒸気流20を回収する
ための一対の蒸気回収板11，11を、基板６の上方から斜
め下方に傾斜させて左右対称に配置し、図示していない
支持手段で支持されており、この蒸気回収板11には無効
蒸気の付着膜を加熱し、液化させるためのヒ―タ―が設
けられている。図２は蒸気回収板11の回収面の最上部の
部分拡大した正面図，図３は、図２のＡ−Ａ断面図を示
す。液滴流下促進用ブロック21は、蒸気回収板11の最上
部に、溝凹部23の中央部に複数個設けられている。蒸気
回収板11を加熱すると、無効となった蒸着膜が溶融し、
核ができたところで液滴が発生する。このうち、幅の狭
いブロック上の液滴は、その幅以上に成長することがで
きず、流れ方向に合体して細長い液滴25となり流下す
る。ブロック以外の領域の液滴23は、流下できるほど成
長していないため、上流部のブロックから流下してきた
液滴に吸収・合体される。
【００１３】回収面が平滑（溝なし）な場合も、同様に
ブロックを設けることにより流下液滴径を小さくでき、
同様な効果をもつ。また、装置運転前に予め蒸気回収板
を加熱しておき、無効蒸気を回収面に凝縮させる回収方
法においても同様な効果が期待できる。
ブロックを設けることにより流下液滴径を小さくでき、
同様な効果をもつ。また、装置運転前に予め蒸気回収板
を加熱しておき、無効蒸気を回収面に凝縮させる回収方
法においても同様な効果が期待できる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明した様に、液化回収過程で、幅
の狭い液滴流下促進用ブロック上の液滴がまず流下し、
下流域の液滴を吸収・合体する。つまり、ブロックを設
けることにより流下する液滴径ならびに流下する周期を
減少することができ、回収面に付着している無効となっ
た蒸着物質の液滴総量を減少することができる。そのた
め連続して安定的に無効蒸気を回収することができ、長
時間の連続運転を可能とした真空蒸着装置を提供するこ
とができる。
の狭い液滴流下促進用ブロック上の液滴がまず流下し、
下流域の液滴を吸収・合体する。つまり、ブロックを設
けることにより流下する液滴径ならびに流下する周期を
減少することができ、回収面に付着している無効となっ
た蒸着物質の液滴総量を減少することができる。そのた
め連続して安定的に無効蒸気を回収することができ、長
時間の連続運転を可能とした真空蒸着装置を提供するこ
とができる。
【図１】真空蒸着装置の構成を説明するための断面図
【図２】本発明の一実施例の要部を示す正面図
【図３】図２のＡ−Ａ断面図
１…真空槽 ２…蒸気封入容器 ３…るつぼ ５…蒸着物質 ６…基板 ７…電子銃 ８…電子ビ―ム ９…蒸気流 10…無効となった蒸着物質 11…蒸気回収板 20…無効蒸気 21…液滴流下促進用ブロッ
ク 22…溝凸部 23…溝凹部 24…液滴 25…ブロック上の液滴
ク 22…溝凸部 23…溝凹部 24…液滴 25…ブロック上の液滴
Claims (1)
- 【請求項１】 真空槽内に蒸気封入容器を設け、この蒸
気封入容器の下方に蒸着物質を収容したるつぼを配設
し、電子ビ―ム照射により前記蒸着物質を加熱・蒸発さ
せ、前記るつぼ上方に配設した基板上に付着させて蒸着
膜を形成させるとともに、前記基板とは異なる位置に蒸
気回収板を配設し前記基板に向かう方向とは異なる方向
に蒸発する前記蒸着物質を前記蒸気回収板の回収面に付
着させ、この回収面に付着した前記蒸着物質を加熱・液
化して前記回収板の回収面に沿って流下させることによ
り前記蒸着物質を前記るつぼに回収するように構成した
真空蒸着装置において、前記蒸気回収板の回収面に液滴
流下促進用の凸状ブロック（但し、回収面が平滑「溝ナ
シ」な場合ブロック幅Ｗ≦ｄf ，回収面に溝を形成して
ある場合Ｗ≦ｄs ，ブロック長さｌ≧３ｗ，ここで
ｄf ：液化させた蒸着物質の液滴が流下を開始する時の
液滴平均直径，ｄs ：溝凹部の開口幅）を複数個設けた
ことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23329092A JPH0681134A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23329092A JPH0681134A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0681134A true JPH0681134A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=16952791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23329092A Pending JPH0681134A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0681134A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4889379A (en) * | 1987-02-06 | 1989-12-26 | Mazda Motor Corporation | Arrangement for supporting and adjusting seats in vehicles |
| CN116213349A (zh) * | 2022-12-07 | 2023-06-06 | 合肥维信诺科技有限公司 | 材料回收装置及蒸镀装置 |
-
1992
- 1992-09-01 JP JP23329092A patent/JPH0681134A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4889379A (en) * | 1987-02-06 | 1989-12-26 | Mazda Motor Corporation | Arrangement for supporting and adjusting seats in vehicles |
| CN116213349A (zh) * | 2022-12-07 | 2023-06-06 | 合肥维信诺科技有限公司 | 材料回收装置及蒸镀装置 |
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