JPH0428538B2 - - Google Patents
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- JPH0428538B2 JPH0428538B2 JP57193575A JP19357582A JPH0428538B2 JP H0428538 B2 JPH0428538 B2 JP H0428538B2 JP 57193575 A JP57193575 A JP 57193575A JP 19357582 A JP19357582 A JP 19357582A JP H0428538 B2 JPH0428538 B2 JP H0428538B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- substance
- support
- information
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B3/00—Recording by mechanical cutting, deforming or pressing, e.g. of grooves or pits; Reproducing by mechanical sensing; Record carriers therefor
- G11B3/68—Record carriers
- G11B3/70—Record carriers characterised by the selection of material or structure; Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S425/00—Plastic article or earthenware shaping or treating: apparatus
- Y10S425/81—Sound record
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レリーフ付原母型からのビデオデイ
スク製造に関し、その成型による転写は樹脂を用
いるものである。情報は情報の変化信号の時間的
変化を具体化したものをトラツクに沿つた面の凹
凸の形で蓄積される。
スク製造に関し、その成型による転写は樹脂を用
いるものである。情報は情報の変化信号の時間的
変化を具体化したものをトラツクに沿つた面の凹
凸の形で蓄積される。
成型方法は小量の生産に特に適している。この
ような方法では母型と支持体の間に中間のモール
ド剤を置き、モールド剤が硬化した後に母型に担
持された彫り型の反対型を供給する。このモール
ド方法は母型とデイスク間で補形的にあるとの考
を提供するものであり、それは一方の凹部が他方
のレリーフに対応するからである。
ような方法では母型と支持体の間に中間のモール
ド剤を置き、モールド剤が硬化した後に母型に担
持された彫り型の反対型を供給する。このモール
ド方法は母型とデイスク間で補形的にあるとの考
を提供するものであり、それは一方の凹部が他方
のレリーフに対応するからである。
原デイスクは例えばマイクロ・ペデスタルによ
る熱融蝕で蝕刻された連続のトラツクを持つてい
る。転写デイスクは硬化したモールド材の層で作
られたデイスク面が負で同じレリーフ、即ちマイ
クロレリーフの選定例によつて再生産される。原
デイスクと硬化可能な物質の間に分離剤層を入れ
るのを避けるため、これはマイクロレリーフの性
質に部分的に不利になり勝なものであるが、拡が
り易く且つ硬化した時に原デイスクに接着はしな
いが樹脂の支持として働らく支持体に接着する樹
脂が用いられる。
る熱融蝕で蝕刻された連続のトラツクを持つてい
る。転写デイスクは硬化したモールド材の層で作
られたデイスク面が負で同じレリーフ、即ちマイ
クロレリーフの選定例によつて再生産される。原
デイスクと硬化可能な物質の間に分離剤層を入れ
るのを避けるため、これはマイクロレリーフの性
質に部分的に不利になり勝なものであるが、拡が
り易く且つ硬化した時に原デイスクに接着はしな
いが樹脂の支持として働らく支持体に接着する樹
脂が用いられる。
一製造方法は母型の中心近くに樹脂を被着する
ことからなるものである。可撓性支持体が彎曲さ
れて、樹脂に印加され、次に支持体の周に向け樹
脂を移動させるべ漸次母型に対して支持体が平に
される。次に樹脂は例えば紫外線照射により重合
される。曲線即ち輪郭は、周で支持体を支持する
支持環と垂直可動で弾性変形のクツシヨンからな
るシステムによつて得られる。後者のクツシヨン
は本出願人の出願に掛るフランス特許第7922300
号に記載されて支持体に圧力を漸次掛けられるよ
うにしたものである。
ことからなるものである。可撓性支持体が彎曲さ
れて、樹脂に印加され、次に支持体の周に向け樹
脂を移動させるべ漸次母型に対して支持体が平に
される。次に樹脂は例えば紫外線照射により重合
される。曲線即ち輪郭は、周で支持体を支持する
支持環と垂直可動で弾性変形のクツシヨンからな
るシステムによつて得られる。後者のクツシヨン
は本出願人の出願に掛るフランス特許第7922300
号に記載されて支持体に圧力を漸次掛けられるよ
うにしたものである。
この方法による結果として樹脂は母型面を蔽
い、余分の樹脂が母型の外縁にフランジを作る。
この装置の中心に向け余分の樹脂が該装置の中心
突起と支持体間の空間に逆流される。樹脂の余剰
分が重合されると、余剰分は付着点を構成してモ
ールドを取除くのが困難になつたり支持体の中心
孔を損傷せしめる。更には支持体に付着して残る
不規則な形のフランジの全部又は一部はデイスク
を続いて用いるのに障害となる。
い、余分の樹脂が母型の外縁にフランジを作る。
この装置の中心に向け余分の樹脂が該装置の中心
突起と支持体間の空間に逆流される。樹脂の余剰
分が重合されると、余剰分は付着点を構成してモ
ールドを取除くのが困難になつたり支持体の中心
孔を損傷せしめる。更には支持体に付着して残る
不規則な形のフランジの全部又は一部はデイスク
を続いて用いるのに障害となる。
例えば剥離可能なカバーを用いて母型の縁の重
合化を避ければ残りの未重合樹脂はきれいにされ
なければならず記録区域を汚す。重合又は未重合
の樹脂過剰分をクリーニングすることは何れの場
合にもあきあきする作業である。
合化を避ければ残りの未重合樹脂はきれいにされ
なければならず記録区域を汚す。重合又は未重合
の樹脂過剰分をクリーニングすることは何れの場
合にもあきあきする作業である。
更に多くのクリーニング作業をすることは記録
面の外側にある接合部で支持体に固定されたカバ
ーによつて記録面を保護する必要がある。例えば
プラスチツクのカバーが支持体に固着又は溶着さ
れる。然し乍ら組立てらるべき面の一方又は他方
に樹脂層があるためこの接合部を作ることが難し
い。
面の外側にある接合部で支持体に固定されたカバ
ーによつて記録面を保護する必要がある。例えば
プラスチツクのカバーが支持体に固着又は溶着さ
れる。然し乍ら組立てらるべき面の一方又は他方
に樹脂層があるためこの接合部を作ることが難し
い。
この欠点を解消するためには、使用された樹脂
全部が重合され、型を外した後調節できない大き
さで樹脂フランジを形成せずに、支持体に残るよ
うにして情報担持デイスクを作ることが提案され
る。これは過剰樹脂を集める小さい停止区域によ
つて得られる。
全部が重合され、型を外した後調節できない大き
さで樹脂フランジを形成せずに、支持体に残るよ
うにして情報担持デイスクを作ることが提案され
る。これは過剰樹脂を集める小さい停止区域によ
つて得られる。
本発明は、原記録母型から成型により、表面マ
イクロ帯域の形で環状記録区域に記録されている
情報を担持するデイスクを製造する方法におい
て、支持体を原デイスクの間に物質を拡げる手段
により前記原デイスクの印圧を前記物質に転写
し、前記物質が硬化中に前記支持体に接着され、
前記記録区域が内側の未加工区域と外側の未加工
区域の間に広がつており、前記記録区域と前記未
加工区域の分離が停止区域によりなされ、前記物
質の過剰分が少くとも一つの前記停止区域により
収容され、前記物質の過剰分が前記物質のその他
部分と同様に固められることを特徴とする情報担
持デイスク製造方法に関する。
イクロ帯域の形で環状記録区域に記録されている
情報を担持するデイスクを製造する方法におい
て、支持体を原デイスクの間に物質を拡げる手段
により前記原デイスクの印圧を前記物質に転写
し、前記物質が硬化中に前記支持体に接着され、
前記記録区域が内側の未加工区域と外側の未加工
区域の間に広がつており、前記記録区域と前記未
加工区域の分離が停止区域によりなされ、前記物
質の過剰分が少くとも一つの前記停止区域により
収容され、前記物質の過剰分が前記物質のその他
部分と同様に固められることを特徴とする情報担
持デイスク製造方法に関する。
第1図は従来技術による半剛性支持体からデイ
スクを製造する一行程を示す。
スクを製造する一行程を示す。
第1図に示す状態に到る前に次の作業が行なわ
れる。即ちデイスク1と7が極めて注意深く心合
せして並べられる。原デイスクの面は金属又は合
成物質から作られる。デイスク1より大きい直径
の転写デイスクは例えば塩化ビニル、プレキシガ
ラス又はガラスで作られたプラスチツク支持体7
に作られる。この支持体は紫外線照射に対して透
光でなければならない。印圧送置はデイスクを回
転テーブル2上に保持する。デイスク1は所定の
直径のある孔で予め中心穿孔され、情報担持トラ
ツクに対し出来る丈正確に中心に置かれる。回転
テーブル2は中心ピン3と一体で、中心ピンの寸
法は孔の寸法に極めて僅かな誤差許容度(約10ミ
クロン)で適合しその上にデイスク1が載る。両
方のデイスクは軸ZZ′で一致する。
れる。即ちデイスク1と7が極めて注意深く心合
せして並べられる。原デイスクの面は金属又は合
成物質から作られる。デイスク1より大きい直径
の転写デイスクは例えば塩化ビニル、プレキシガ
ラス又はガラスで作られたプラスチツク支持体7
に作られる。この支持体は紫外線照射に対して透
光でなければならない。印圧送置はデイスクを回
転テーブル2上に保持する。デイスク1は所定の
直径のある孔で予め中心穿孔され、情報担持トラ
ツクに対し出来る丈正確に中心に置かれる。回転
テーブル2は中心ピン3と一体で、中心ピンの寸
法は孔の寸法に極めて僅かな誤差許容度(約10ミ
クロン)で適合しその上にデイスク1が載る。両
方のデイスクは軸ZZ′で一致する。
次にデイスク1の中央部に最小の記録区域の側
に直ぐ近接して円形フランジ10の形で所定量の
樹脂を被着する。プラスチツクの支持体の場合に
は選択された樹脂は紫外線照射で速やかに重合す
る単量体から形成された、アクリル樹脂である。
次にデイスク7がデイスク1の外方にあつて回転
テーブル2の高さより高くなつているリング8上
に載せることにより樹脂フランジの上に置かれ
る。
に直ぐ近接して円形フランジ10の形で所定量の
樹脂を被着する。プラスチツクの支持体の場合に
は選択された樹脂は紫外線照射で速やかに重合す
る単量体から形成された、アクリル樹脂である。
次にデイスク7がデイスク1の外方にあつて回転
テーブル2の高さより高くなつているリング8上
に載せることにより樹脂フランジの上に置かれ
る。
之等の予備作業に続いて之等組部品が樹脂を拡
げるに用いられる装置の軸に置かれる。該装置
は、台座6に取付けられ、デイスク1,7の上に
あつてピン中心軸に形成された例えば天然ゴム又
はエラストマで作られた胞状のフオームクツシヨ
ン4を具えている。このクツシヨンは支持体7に
記録区域の上へ圧力を伝える役目をする。台座6
とクツシヨン4との組部材はZZ′軸に沿いクツシ
ヨン4の下降を制御する複動のジヤツキ5によつ
てデイスク1上に保持される。リング8は例えば
ジヤツキ12により回転テーブル2に作られた窪
み9に引戻される。クツシヨンが下降するとクツ
シヨンは支持体7と中心で係合して樹脂フランジ
10をつぶし、リング8は支持体の彎曲を生じさ
せる。クツシヨンはその中央部から変形し始め、
樹脂を外側へ移動させる。支持リング8が除々に
下降していくと支持体の彎曲が小さくなつて遂に
母型面と完全に平になる。樹脂が拡がつた後に支
持体と接したクツシヨン面は平になり支持体の全
面に加圧する。クツシヨンの空洞に置かれてばね
13により附勢されている中央加圧リング11は
デイスク7の中央を加圧しリング8と組合つて上
記拡がり行程中の両デイスクの相対的な位置決め
を確保する。最小記録区域の直径より僅かに小さ
い直径を有するリング11は上記拡がり行程の始
めから作動し始めて樹脂を外方向に移動させる。
この行程の最後に過剰の樹脂を母型の外側に向け
窪み9に流し得るようにさせるため休息時間が必
要である。回転テーブルには母型に近接して円形
切欠14が設けられ、該切欠は環状溝15に通じ
ている。該溝には僅かに過圧となつていて樹脂を
窪み9に移動させ、回転テーブル2とデイスク1
の間にある減圧室16に樹脂が流れないようにし
ている。
げるに用いられる装置の軸に置かれる。該装置
は、台座6に取付けられ、デイスク1,7の上に
あつてピン中心軸に形成された例えば天然ゴム又
はエラストマで作られた胞状のフオームクツシヨ
ン4を具えている。このクツシヨンは支持体7に
記録区域の上へ圧力を伝える役目をする。台座6
とクツシヨン4との組部材はZZ′軸に沿いクツシ
ヨン4の下降を制御する複動のジヤツキ5によつ
てデイスク1上に保持される。リング8は例えば
ジヤツキ12により回転テーブル2に作られた窪
み9に引戻される。クツシヨンが下降するとクツ
シヨンは支持体7と中心で係合して樹脂フランジ
10をつぶし、リング8は支持体の彎曲を生じさ
せる。クツシヨンはその中央部から変形し始め、
樹脂を外側へ移動させる。支持リング8が除々に
下降していくと支持体の彎曲が小さくなつて遂に
母型面と完全に平になる。樹脂が拡がつた後に支
持体と接したクツシヨン面は平になり支持体の全
面に加圧する。クツシヨンの空洞に置かれてばね
13により附勢されている中央加圧リング11は
デイスク7の中央を加圧しリング8と組合つて上
記拡がり行程中の両デイスクの相対的な位置決め
を確保する。最小記録区域の直径より僅かに小さ
い直径を有するリング11は上記拡がり行程の始
めから作動し始めて樹脂を外方向に移動させる。
この行程の最後に過剰の樹脂を母型の外側に向け
窪み9に流し得るようにさせるため休息時間が必
要である。回転テーブルには母型に近接して円形
切欠14が設けられ、該切欠は環状溝15に通じ
ている。該溝には僅かに過圧となつていて樹脂を
窪み9に移動させ、回転テーブル2とデイスク1
の間にある減圧室16に樹脂が流れないようにし
ている。
次の段階は回転テーブル2に支持された組立体
を紫外線ランプから供される光に曝すことであ
る。窪み9内の過剰の樹脂を照射から保護するた
め、前記窪みの上にマスキグスクリーンが置かれ
る。照射に続きスクリーンが外され支持リング8
がジヤツキ12の作用で上昇され、樹脂が接着す
る支持体7が分離される。
を紫外線ランプから供される光に曝すことであ
る。窪み9内の過剰の樹脂を照射から保護するた
め、前記窪みの上にマスキグスクリーンが置かれ
る。照射に続きスクリーンが外され支持リング8
がジヤツキ12の作用で上昇され、樹脂が接着す
る支持体7が分離される。
この方法により転写デイスクの生産には所謂マ
スキング作業の補助作業を行なう。更に窪み9を
クリーニングすることも必要である。転写デイス
クにカバーを掛け得るようにするためには記録区
域の周の直ぐ近くに樹脂が進んで来るのを停める
ように充分な拡がりのある樹脂のない面を用意す
ることを要する。この場合、母型の縁と記録区域
の周の間にある余分な部分は接合を作るために用
いられる。然し乍ら多くの区域を失い記録区域が
少なくなることは確実である。上記した欠点はデ
イスクに同心の停止区域を設けることで除かれ
る。
スキング作業の補助作業を行なう。更に窪み9を
クリーニングすることも必要である。転写デイス
クにカバーを掛け得るようにするためには記録区
域の周の直ぐ近くに樹脂が進んで来るのを停める
ように充分な拡がりのある樹脂のない面を用意す
ることを要する。この場合、母型の縁と記録区域
の周の間にある余分な部分は接合を作るために用
いられる。然し乍ら多くの区域を失い記録区域が
少なくなることは確実である。上記した欠点はデ
イスクに同心の停止区域を設けることで除かれ
る。
第2図は本発明による転写デイスクの平面図で
ある。前記デイスクの支持体上には内側区域20
と外側区域21間にわたる記録区域17が図示さ
れている。記録区域と区域20と21間は停止区
域26,27により分離されている。
ある。前記デイスクの支持体上には内側区域20
と外側区域21間にわたる記録区域17が図示さ
れている。記録区域と区域20と21間は停止区
域26,27により分離されている。
第3図は製造中の本発明によるデイスクの断面
図である。ピン3と原デイスク1と支持体7だけ
第1図から残されている。樹脂を平にする迄のモ
ールド行程は前記行程と同様である。支持体7に
は軸ZZ′と同心であり限定された深さの2つの環
状溝18,19が作られていることが分る。之等
の溝は平坦化作業による過剰の樹脂を集めて溝が
停止区域を形成させうるものである。前記平坦化
作業及びマスクを用いずに行なう樹脂の硬化作業
に続き転写デイスクは2つの同心溝18,19と
2つの樹脂のない環20,21により限定された
記録区域17を有する。溝19の存在は、ピン3
に接近してピンと支持体7間の空洞を過剰の樹脂
で満たすことを阻止する。その結果溝18と19
は、支持体の外縁と中心に夫々向く過剰の樹脂を
集め環20と21を形成させ、これがカバーの取
付けを許す接合部を受入れることになる。
図である。ピン3と原デイスク1と支持体7だけ
第1図から残されている。樹脂を平にする迄のモ
ールド行程は前記行程と同様である。支持体7に
は軸ZZ′と同心であり限定された深さの2つの環
状溝18,19が作られていることが分る。之等
の溝は平坦化作業による過剰の樹脂を集めて溝が
停止区域を形成させうるものである。前記平坦化
作業及びマスクを用いずに行なう樹脂の硬化作業
に続き転写デイスクは2つの同心溝18,19と
2つの樹脂のない環20,21により限定された
記録区域17を有する。溝19の存在は、ピン3
に接近してピンと支持体7間の空洞を過剰の樹脂
で満たすことを阻止する。その結果溝18と19
は、支持体の外縁と中心に夫々向く過剰の樹脂を
集め環20と21を形成させ、これがカバーの取
付けを許す接合部を受入れることになる。
溝に対し要求される巾と深さは集められる過剰
の樹脂量、即ち、被着した樹脂フランジの投入量
の精度、樹脂層の調節されない厚みの変化、支持
体と母型の幾何学的量で決まる。溝の巾は1乃至
3mm、深さは0.1乃至0.3mmとすることが可能であ
る。極端に深い溝は転写デイスクの機械的抵抗即
ち強度を減らす。
の樹脂量、即ち、被着した樹脂フランジの投入量
の精度、樹脂層の調節されない厚みの変化、支持
体と母型の幾何学的量で決まる。溝の巾は1乃至
3mm、深さは0.1乃至0.3mmとすることが可能であ
る。極端に深い溝は転写デイスクの機械的抵抗即
ち強度を減らす。
第4a図、第4b図は溝に対する可能な断面の
二例を示す。第4a図に示すように短形断面の溝
22を支持体7に作ることが可能であるが第4b
図に示す支持体7に作られた溝23をように、丸
味の形の溝が望ましい。後者の解決方はモールド
を除去し易く支持体の機械強度の逓減を少なくす
るという利点がある。これは、樹脂の重合に用い
られる紫外線光束の妨害を避けるため溝面を研摩
するのに利点がある。
二例を示す。第4a図に示すように短形断面の溝
22を支持体7に作ることが可能であるが第4b
図に示す支持体7に作られた溝23をように、丸
味の形の溝が望ましい。後者の解決方はモールド
を除去し易く支持体の機械強度の逓減を少なくす
るという利点がある。これは、樹脂の重合に用い
られる紫外線光束の妨害を避けるため溝面を研摩
するのに利点がある。
溝を転写デイスクの支持体ではなく母型に作る
ことも本発明の範囲内にあるものである。第5図
は製造中殊に第3図と同じ行程でのデイスクの断
面図である。この図には軸ZZ′に心合せしたピン
3と、支持体7と母型1とが示されている。この
場合2つの同心環状の溝が、上記と同じ機能を充
すため、即ち過剰の樹脂を集めるために作られて
いる。この場合転写デイスクの樹脂層は、最大厚
みが溝の深さに相当する2個の小さいフランジ又
はビーズで終結する。溝は支持体に作られた場合
と同じ寸法をもつことができる。溝はモールドの
除去をやり易くするため丸味を持ためせるのがよ
く、モールド除去の間に母型の溝に樹脂ビーズが
適度に接着しないように溝を研摩するのに利点が
ある。
ことも本発明の範囲内にあるものである。第5図
は製造中殊に第3図と同じ行程でのデイスクの断
面図である。この図には軸ZZ′に心合せしたピン
3と、支持体7と母型1とが示されている。この
場合2つの同心環状の溝が、上記と同じ機能を充
すため、即ち過剰の樹脂を集めるために作られて
いる。この場合転写デイスクの樹脂層は、最大厚
みが溝の深さに相当する2個の小さいフランジ又
はビーズで終結する。溝は支持体に作られた場合
と同じ寸法をもつことができる。溝はモールドの
除去をやり易くするため丸味を持ためせるのがよ
く、モールド除去の間に母型の溝に樹脂ビーズが
適度に接着しないように溝を研摩するのに利点が
ある。
好ましくない所で樹脂が重合しないようにする
他の方法もある。例えば樹脂で蔽われるべきでな
い区域の境界を樹脂が一定限界に達すると直ちに
樹脂の重合を行なう紫外線光線束で照射すること
もできる。
他の方法もある。例えば樹脂で蔽われるべきでな
い区域の境界を樹脂が一定限界に達すると直ちに
樹脂の重合を行なう紫外線光線束で照射すること
もできる。
他の方法は樹脂が蔽つてはならない区域でデイ
スク、母型のいずれか一方に、又は両方に同時に
支持体に樹脂が付着するのを防ぐ物質の層、例え
ばシリコン又はポリテトラフルオロエチレン
(PTFE)の層を付着することからなつている。
スク、母型のいずれか一方に、又は両方に同時に
支持体に樹脂が付着するのを防ぐ物質の層、例え
ばシリコン又はポリテトラフルオロエチレン
(PTFE)の層を付着することからなつている。
之等二つの方法に対し過剰の樹脂を集めるため
溝を設けることが時として可能である。
溝を設けることが時として可能である。
本発明は樹脂又は区域において望ましくない樹
脂と同じ作用をする他の物質を具えない転写デイ
スクを供することができ、又転写デイスクに対し
てカバーを受け易くすることもできる。特に過剰
の樹脂をマスキングしたりクリーニングしたりす
る作業を要しない。
脂と同じ作用をする他の物質を具えない転写デイ
スクを供することができ、又転写デイスクに対し
てカバーを受け易くすることもできる。特に過剰
の樹脂をマスキングしたりクリーニングしたりす
る作業を要しない。
第1図は従来のデイスク製造の一工程図、第2
図は本発明の転写デイスクの平面図、第3図は製
造中の本発明によるデイスクの断面図、第4a図
と第4b図は溝付の支持体平面の部分断面図、第
5図は製造中のデイスクの断面図である。 1…記録原母型、7…支持体、17…記録区
域、20…内側区域、21…外側区域、26,2
7…停止部。
図は本発明の転写デイスクの平面図、第3図は製
造中の本発明によるデイスクの断面図、第4a図
と第4b図は溝付の支持体平面の部分断面図、第
5図は製造中のデイスクの断面図である。 1…記録原母型、7…支持体、17…記録区
域、20…内側区域、21…外側区域、26,2
7…停止部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 製品デイスク支持体と原デイスクの間に流動
性物質を拡げ、原デイスクの表面マイクロ帯域の
形の原記録母型を前記物質に転写し、前記物質を
硬化させるとともに前記支持体に接着させる方式
により、表面マイクロ帯域の形で環状の記録区域
に記録された情報を担持するデイスクを製造する
方法において、 前記記録区域の内側の表面および外側の表面の
少なくとも一方に前記物質の流動を停止させるた
めの環状の停止区域を設定し、 前記物質の過剰分を少なくとも一つの前記停止
区域に収容し、前記物質の過剰分を前記物質のそ
の他の部分と同様に硬化させることを特徴とす
る、情報担持デイスク製造方法。 2 前記物質が支持体と原デイスク間の加圧作用
で逆流することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報担持デイスク製造方法。 3 前記支持体が、前記停止区域対面位置に過剰
の前記物質を集める少なくとも一個の同心環状収
集溝を具えていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の情報担持デイスク製造方法。 4 前記母型が、前記停止区域対面位置に、過剰
の前記物質を集める役目をする少なくとも一個の
同心環状の溝を具えていることを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の情報担持デイスク製造
方法。 5 前記溝が丸味のある断面を具えていることを
特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の情報担
持デイスク製造方法。 6 前記溝が研摩された面を具えていることを特
徴とする特許請求の範囲第3項に記載の情報担持
デイスク製造方法。 7 前記物質が光重合可能であり少くとも一個の
紫外線光束が前記物質の拡がり区域を定めること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の情報
担持デイスク製造方法。 8 前記物質が蔽うべきでない区域が支持体に該
物質を固定することを防ぐ材料で予め蔽われるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の情
報担持デイスク製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8120854A FR2516286A1 (fr) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | Procede d'obtention d'un disque-copie a partir d'une gravure originale portee par une matrice |
| FR8120854 | 1981-11-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5884731A JPS5884731A (ja) | 1983-05-20 |
| JPH0428538B2 true JPH0428538B2 (ja) | 1992-05-14 |
Family
ID=9263771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57193575A Granted JPS5884731A (ja) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | 情報担持デイスク製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4452748A (ja) |
| EP (1) | EP0079262B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5884731A (ja) |
| CA (1) | CA1197006A (ja) |
| DE (1) | DE3265647D1 (ja) |
| FR (1) | FR2516286A1 (ja) |
| HK (1) | HK26990A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6098125U (ja) * | 1983-12-06 | 1985-07-04 | パイオニア株式会社 | 情報記録円板 |
| US5273598A (en) * | 1985-02-18 | 1993-12-28 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical disc manufacturing method |
| JPS62105616A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-16 | Daicel Chem Ind Ltd | 光デイスクの射出成形用金型 |
| EP0245461A1 (en) * | 1985-11-18 | 1987-11-19 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | Process for making optical recording media |
| JPS61148033A (ja) * | 1985-12-06 | 1986-07-05 | Hitachi Ltd | デイスクの複製装置 |
| JPS6334108A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-13 | Hitachi Ltd | 光デイスク用基板の製造方法および装置 |
| US4961886A (en) * | 1988-06-09 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Method of controlling flow by a radiation formed dam |
| NL9002517A (nl) * | 1990-11-19 | 1992-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een optisch uitleesbare plaat, alsmede inrichting voor de uitvoering van de werkwijze. |
| JP3207530B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2001-09-10 | 阿波エンジニアリング株式会社 | 光ディスクの製造方法 |
| US5787068A (en) * | 1996-11-07 | 1998-07-28 | Imation Corp. | Method and arrangement for preventing unauthorized duplication of optical discs using barriers |
| JP4768607B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2011-09-07 | 住友重機械工業株式会社 | ディスク成形用金型、鏡面板及び成形品 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2346760A (en) * | 1941-07-21 | 1944-04-18 | Jackson O Kleber | Wave record mold |
| NL177721B (nl) * | 1977-03-14 | 1985-06-03 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kunststofinformatiedrager met gelaagde structuur alsmede een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
| NL7906117A (nl) * | 1979-08-10 | 1981-02-12 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een kunststofinformatiedrager. |
| FR2468456A1 (fr) * | 1979-09-06 | 1981-05-08 | Thomson Csf | Dispositif de moulage de disques porteurs d'informations |
-
1981
- 1981-11-06 FR FR8120854A patent/FR2516286A1/fr active Granted
-
1982
- 1982-09-23 US US06/422,083 patent/US4452748A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-10-22 EP EP82401952A patent/EP0079262B1/fr not_active Expired
- 1982-10-22 DE DE8282401952T patent/DE3265647D1/de not_active Expired
- 1982-11-02 CA CA000414681A patent/CA1197006A/en not_active Expired
- 1982-11-05 JP JP57193575A patent/JPS5884731A/ja active Granted
-
1990
- 1990-04-04 HK HK269/90A patent/HK26990A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1197006A (en) | 1985-11-19 |
| EP0079262A1 (fr) | 1983-05-18 |
| DE3265647D1 (en) | 1985-09-26 |
| FR2516286B1 (ja) | 1983-12-23 |
| FR2516286A1 (fr) | 1983-05-13 |
| HK26990A (en) | 1990-04-12 |
| US4452748A (en) | 1984-06-05 |
| JPS5884731A (ja) | 1983-05-20 |
| EP0079262B1 (fr) | 1985-08-21 |
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