JPH04285706A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はビデオテープレコーダー
や電子計算器等に使用される磁気ヘッド及びその製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子計算機等の磁気ディスク装置
は、小型化、高容量化の技術開発が積極的に行なわれ、
磁気記録媒体では、高保持力（Ｈｃ）化や薄膜化が開発
され、一方磁気ヘッドでは、高保持力（Ｈｃ）を有する
磁気記録媒体に飽和記録するため高い飽和磁束密度（Ｂ
ｓ）を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金やアモルファス合
金等の金属磁性材料で磁気ギャップ近傍を形成するいわ
ゆるメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッドが開発されて
いる。又トラック幅方向の記録密度を向上させるために
狭トラック幅化が研究されているが狭トラック幅化によ
り発生する再生出力の低下を補うためにギャップデプス
（Ｇ．Ｄ）及びギャップ長（Ｇ．Ｌ）の高精度化が要求
されている。

【０００３】以下に従来の磁気ヘッド及びその製造方法
について説明する。図３は従来の磁気ヘッドの正面図で
あり、図４は図３のＡ部の拡大図であり、図５は実開昭
６１−１４０４１３号公報に開示された他の従来例の斜
視図である。１はＭｎ−Ｚｎフェライト等からなる第１
磁性ブロック、２は第１磁性ブロック１の側面にダイヤ
モンド砥石等で研削形成された巻線孔、３は鏡面仕上げ
された巻線孔斜面、４はギャップ形成部、５は第１磁性
ブロック１と同一の材質からなる第２磁性ブロック、６
は接着用のガラス材、７は巻線孔斜面３とギャップ形成
部４の境界部である。図５において、２１は巻線孔兼閉
磁路形成用窓、２２は巻線孔兼閉磁路形成用窓２１の内
縁、２３は接着用の非還元性物質である。

【０００４】以上のように構成された従来の磁気ヘッド
について、以下図３、図５を用いてその製造方法を説明
する。図３の型式の磁気ヘッドは、第１磁性ブロック１
にダイヤモンド砥石等により巻線孔２を設けた後、巻線
孔斜面３を鏡面に仕上げる。次に第１磁性ブロック１と
第２磁性ブロック５のギャップ形成部４を鏡面に加工し
た後、ＳｉＯ２等の非磁性材からなるギャップ材を介し
て第１磁性ブロック１１と第２磁性ブロック５を対面さ
せ、次いで接着用のガラス材６を装着し、約７００℃の
高温下、ガラス材６を溶融させて接合して製造される。

【０００５】図５の型式の磁気ヘッドは、巻線孔兼閉磁
路形成用窓２１の内縁２２に非還元性の物質２３をコア
半体１，５の突き合わせ、接合前に付着させて製造する
。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、図３の磁気ヘッドにおいて、接着材である
ガラス材６が第１磁性ブロック１の材料であるＭｎ−Ｚ
ｎフェライトを浸食し巻線孔斜面３とギャップ形成部４
のなす境界部７が不明確になり、図４の点線部に示すよ
うにさらにギャップ長が境界部７から３μｍ程度広くな
るという問題点があった。特に、最近の磁気ヘッドは、
狭トラックで高出力を得るために、ギャップデプスを極
めて短く、例えば５μｍ程度に加工されるが、バラツキ
によりギャップデプスが３μｍ以下に加工された磁気ヘ
ッドは、ギャップ長が大きくなりすぎ、製品として使用
することができず、歩留りを著しく低下させるという問
題点があった。更に、今後、高密度記録化によりギャッ
プデプスを小さくしたり、ギャップ長の高精度化が進む
とますます製品歩留りを低下させるという問題点がある
。

【０００７】又図５に示す磁気ヘッドにおいては、第２
磁性ブロック５の内縁２２に非還元性の物質２３が付着
してあるため、第１磁性ブロック１、第２磁性ブロック
５を接着する際、タテ方向のズレが数ミクロン発生した
だけでもギャップ長が広くなるため、ギャップ長の精度
が必要な磁気ヘッドは製造することができないという問
題点があった。

【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、第１磁性ブロックの巻線孔斜面とギャップ形成部の
境界部の浸食を防止し、高精度なギャップ長を有する磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とする
。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドは、巻線孔を形成した第１磁性ブ
ロックの巻線孔斜面に非磁性膜が成膜された構成からな
り、また、磁気ヘッドの製造方法は、第１磁性ブロック
に巻線孔を形成し、次いで巻線孔斜面に非磁性膜を成膜
した後、第１磁性ブロックと第２磁性ブロックのギャッ
プ形成部を鏡面加工し、次いでギャップ形成部にギャッ
プ材を成膜し、各ギャップ形成部を対面させ、次に接着
用のガラス材を装着し、高温下でガラス材を溶融して磁
気ヘッドを製造する工程からなる構成を有している。

【００１０】

【作用】この構成によって、磁気ヘッドは巻線孔斜面に
形成した非磁性膜の存在によりガラス材と第１磁性ブロ
ックの材料であるＭｎ−Ｚｎフェライトが直接接触する
ことがないので高温加熱下においてもＭｎ−Ｚｎフェラ
イトの浸食を防止することができ、その結果、ギャップ
長の高精度化が達成され、最短のギャップデプスを得る
ことができる。

【００１１】

【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。

【００１２】図１は本発明の一実施例における磁気ヘッ
ドの正面図であり、図２は図１のＡ部の拡大図である。

【００１３】１は第１磁性ブロック、２は巻線孔、３は
巻線孔斜面、４はギャップ形成部、５は第２磁性ブロッ
ク、６は接着用のガラス材であり、これらは従来例と同
様のものなので同一の番号を付し説明を省略する。８は
ギャップ材、９はスパッタリング法等の薄膜形成手法に
より成膜された非磁性膜、１０はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金等からなる金属磁性膜である。

【００１４】ここで、非磁性膜９としては、ＳｉＯ２や
Ａｌ２Ｏ３等の酸化物非磁性材料やＴｉ、Ｃｒ等の高融
点金属非磁性材料が用いられる。ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３
等の酸化物非磁性材料は接着用のガラス材６との相性が
良好なので剥離等を起こす虞れがなく好ましい。非磁性
膜９の膜厚はＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３等の酸化物非磁性材
料を用いる場合、ギャップ長と同等以上好ましくは１．
０μｍ以上が望ましい。接着用のガラス材６の浸食に対
抗するためである。Ｃｒ、Ｔｉ又はこれらの合金等の高
融点非磁性材料を用いる場合は０．１μｍ以上が望まし
い。これらは接着用のガラス材６にほとんど浸食されな
いので、薄くてもＭｎ−Ｚｎフェライト等のコア材の浸
食を防止できるからであり、また、金属材料は一般的に
真空薄膜形成工程において短時間で成膜できる特長があ
り原価は多少高くなるが非磁性膜９を薄くできること等
から生産性、作業性を大幅に向上させることが可能であ
る。

【００１５】金属磁性膜１０は第２磁性ブロック５が接
着用のガラス材６との接触面に第１磁性ブロック１のよ
うな境界部がなく平面であるため接着用ガラス材６によ
る浸食が発生しにくいので磁気ヘッドが汎用品等の場合
には設けなくてもよい。但し、高保磁力（Ｈｃ）の記録
媒体に記録、再生する磁気ヘッドにおいては、第２磁性
ブロック５のギャップ形成面にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
等の金属磁性膜を形成すると高記録密度化を図ることが
できるので形成されるのが好ましい。金属磁性膜は、Ｍ
ｎ−Ｚｎフェライトに比べてはるかに接着用のガラス材
６の浸食が少ないため金属磁性膜面上に更に非磁性膜を
形成する必要はない。

【００１６】以上のように構成された磁気ヘッドについ
て、以下その製造方法について説明する。

【００１７】Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の第１磁性ブロッ
ク１にダイヤモンド砥石等により巻線孔２を形成した後
、巻線孔斜面３を砥粒径の小さいダイヤモンド砥石等に
より鏡面に仕上げる。次にスパッタリング等の真空薄膜
形成技術によりＳｉＯ２やＴｉ系合金やＣｒ系合金等の
高融点材料を巻線孔斜面３に成膜し非磁性膜９を形成す
る。

【００１８】次に第１磁性ブロック１及び第２磁性ブロ
ック５のギャップ形成部４をダイヤモンド砥粒を用いた
ラッピング加工等により鏡面に加工する。このラッピン
グ加工によりギャップ形成部４に成膜された非磁性膜９
は除去され、非磁性膜９が必要な巻線孔斜面３にのみ非
磁性膜９が残される。

【００１９】次にギャップ形成部４にＳｉＯ２やガラス
等を真空薄膜形成によりギャップ長（Ｇ．Ｌ）と同等寸
法のギャップ材８を成膜し第１磁性ブロック１と第２磁
性ブロック５のギャップ形成部４を対面させ加圧する。 その後巻線孔２に接着用のガラス材６を挿入し７００℃
前後で第１磁性ブロック１と第２磁性ブロック５を接着
する。また、従来例の図３に示す型式の磁気ヘッドにお
いても、第２磁性ブロック５のギャップ形成部４は図５
に示す非還元性物質２３に相当する非磁性膜を形成しな
いため凹凸のない鏡面に仕上げることができる。そのた
め接着の際磁性ブロック間にズレが発生したとしてもギ
ャップ長（Ｇ．Ｌ）が広くなるという不良現象を防止で
きる。

【００２０】第１磁性ブロック１と第２ブロック５を接
着した後、所望の位置で切断して磁気ヘッドが製造され
る。

【００２１】以上の製造方法で製作した磁気ヘッドは巻
線孔斜面３とガラス材６の間に非磁性膜９が介在するこ
とにより７００℃前後の高温下でもガラス材６が境界部
７のＭｎ−Ｚｎフェライトを浸食することはない。

【００２２】

【発明の効果】以上のように本発明は、巻線孔斜面上に
非磁性膜を成膜し、接着用のガラス材と第１磁性ブロッ
クの巻線孔斜面部を直接接触させないため、７００℃前
後の高温下でも接着用のガラス材により第１磁性ブロッ
クの巻線孔斜面とギャップ形成面の境界部分の浸食がな
く高精度のギャップ長（Ｇ．Ｌ）が得られ、その結果ギ
ャップデプス（Ｇ．Ｄ）が１μｍ程度の短い磁気ヘッド
でも容易に製造できる。更に、ギャップ長（Ｇ．Ｌ）の
広がりがないことから、短波長域での電磁変換特性の劣
化を防止でき、周波数特性不良を大幅に改善し、かつ製
品歩留りの著しい向上を図ることができる優れた磁気ヘ
ッド及びその製造方法を実現できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における磁気ヘッドの正面図

【図２】図１のＡ部の拡大図

【図３】従来の磁気ヘッドの正面図

【図４】図３のＡ部の拡大図

【図５】他の従来例の斜視図

【符号の説明】

１　　第１磁性ブロック ２　　巻線孔 ３　　巻線孔斜面 ４　　ギャップ形成部 ５　　第２磁性ブロック ６　　ガラス材 ７　　境界部 ８　　ギャップ材 ９　　非磁性膜 １０　　金属磁性膜

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】巻線孔を形成した第１磁性ブロックと、第
   ２磁性ブロックと、ギャップ材を介して前記第１磁性ブ
   ロックと前記第２磁性ブロックを接着するガラス材と、
   を備えた磁気ヘッドであって、前記第１磁性ブロックの
   ギャップ側に設けられた巻線孔斜面に非磁性膜が形成さ
   れていることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】非磁性膜が、酸化物非磁性材又は高融点金
   属非磁性材からなることを特徴とする請求項１記載の磁
   気ヘッド。
3. 【請求項３】第１磁性ブロックの巻線孔を形成する工程
   と、前記巻線孔に非磁性膜を成膜する工程と、前記第１
   磁性ブロック及び第２磁性ブロックのギャップ形成部を
   鏡面加工する工程と、前記ギャップ形成部にギャップ材
   を成膜する工程と、前記各ギャップ形成部を対面させ接
   着用のガラス材で溶融接着する工程と、を有することを
   特徴とする磁気ヘッドの製造方法。