JPH0428725A - Film, stretched film, heat treated film and heat retreated film - Google Patents

Film, stretched film, heat treated film and heat retreated film

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JPH0428725A
JPH0428725A JP13328390A JP13328390A JPH0428725A JP H0428725 A JPH0428725 A JP H0428725A JP 13328390 A JP13328390 A JP 13328390A JP 13328390 A JP13328390 A JP 13328390A JP H0428725 A JPH0428725 A JP H0428725A
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JP
Japan
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film
heat
polyether copolymer
temperature
formula
Prior art date
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Application number
JP13328390A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Murakami
滋 村上
Shigeru Matsuo
茂 松尾
Chikafumi Kayano
茅野 慎史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject film having a low linear expansion coefficient similar to a metal, having a high heat resistance and excellent in dimensional stability at high temperatures by blending a polyether copolymer having plural specified repeating units with an inorganic filler in a specified ratio. CONSTITUTION:An objective film produced by blending a polyether-based copolymer composed of repeating units represented by formulae I and II, having 0,15-0,40 composition ratio [molar ratio: formula I/(formula I+II)] of the repeating unit of formula I and showing 3000-100000 poise melting viscosity at 400 deg.C with an inorganic filler of 10-15wt.% based on the above-mentioned copolymer.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、新規なフィルム、延伸フィルム、熱処理フィ
ルムおよび再熱処理フィルムに関しさらに詳しく言うと
、線膨張係数か金!1みに低く、しかも耐熱性に優れ、
TAB用ベースフィルムやフレキシブルプリント回路基
板などの電気・電子部品などに好適に用いることのでき
る、ポリエーテル系共重合体樹脂組成物のフィルム、そ
の延伸フィルム、それらの熱処理フィルムおよびそれら
の再熱処理フィルムに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a new film, a stretched film, a heat-treated film, and a reheat-treated film. It has the lowest heat resistance and excellent heat resistance.
Films of polyether copolymer resin compositions, stretched films thereof, heat-treated films thereof, and reheat-treated films thereof, which can be suitably used for electrical/electronic parts such as TAB base films and flexible printed circuit boards. Regarding.

[従来技術および発明か解決しようとする課題]近年、
耐熱性や機械特性や、寸法精度に優れた素材開発のため
に、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリスル
ホン等種々のフィルムか開発され、あるいは既に市販さ
れ、これらは電子・電気機器や機械などの部品の素材と
して広汎な用途に供されている。
[Prior art and the problem to be solved by the invention] In recent years,
In order to develop materials with excellent heat resistance, mechanical properties, and dimensional accuracy, various films such as polyamide, polyimide, polyester, and polysulfone have been developed or are already commercially available, and are used for parts of electronic and electrical equipment and machinery. It is used as a material for a wide range of purposes.

しかしながら、現在もっとも優れていると言われるボッ
イミドであるカプトンは吸湿性か高いのて、そのフィル
ムは寸法安定性に劣る。
However, Kapton, which is said to be the most excellent boimide at present, has high hygroscopicity, but its film has poor dimensional stability.

また、熱可塑性樹脂であるポリエーテルケトン系重合体
は、耐熱性、難燃性、耐薬品性等に非常に優れた材料で
あるので、電気・電子分野において電気絶縁材料として
、耐熱性フレキシフルプリント回路基板などへの応用か
期待されている。
In addition, polyetherketone polymer, which is a thermoplastic resin, is a material with excellent heat resistance, flame retardance, and chemical resistance, so it is used as a heat-resistant flexible material in the electrical and electronic fields. It is expected that it will be applied to printed circuit boards, etc.

しかしなから、このポリエーテルケトン系重合体におい
ても、ガラス転移温度か低く、耐熱性は実用上いまだ不
十分である。
However, even in this polyetherketone polymer, the glass transition temperature is low and the heat resistance is still insufficient for practical use.

本発明は前記の事情に基づいてなされたちのである。The present invention has been made based on the above circumstances.

本発明の目的は、ポリエーテル系共重合体と特定量の無
機質充填剤とを含有するポリエーテル系共重合体樹脂組
成物を製膜することにより、線膨張係数か金属並みに低
く、しかも耐熱性か高く、各種の特性に優れた熱可塑性
樹脂組成物のフィルムを提供することにある。
The purpose of the present invention is to form a film of a polyether copolymer resin composition containing a polyether copolymer and a specific amount of inorganic filler, so that the coefficient of linear expansion is as low as that of metal, and it is heat resistant. The purpose of the present invention is to provide a film of a thermoplastic resin composition having high strength and excellent various properties.

[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するための、請求項1の発明の#或は、
次式(T): て表される繰り返し単位および次式HT)(r[) て表される繰り返し単位からなり、前記式(1)て表さ
れる繰り返し単位の組成比[モル比(I)/((I) 
+ (II) ) ]>10.15〜0.40テあると
ともに、400℃における溶融粘度か1.000〜l0
(1,QO[lボイズであるボッエーテル系共重合体と
このポリエーテル系共重合体に対して10〜50重量%
の含有割合になるように配合された無機質充填剤とを含
有するポリエーテル系共重合体樹脂組成物を成膜してな
るフィルムてあり、 請求項2の発明の構成は、前記請求項1におけるフィル
ムを、延伸倍率1.2〜3倍にm一方向または二軸方向
に延伸してなる延伸フィルムてあり 請求項3の発明のJII4成は、前記請求項1に記載の
フィルムまたは請求項2に記載の延伸フィルムを、該ポ
リエーテル系共重合体の納品化温度と結晶融点との間の
温度において熱処理してなる熱処理フィルムてあり 請求項4の発明の構成は、前記請求項3に記載の熱処理
フィルムを、そのカラス転移温度と前記熱処理温度との
間の温度において再熱処理してなる再熱処理フィルムで
ある。
[Means for solving the problem] To achieve the above object, # of the invention of claim 1 or,
It consists of a repeating unit represented by the following formula (T): and a repeating unit represented by the following formula HT)(r[), and the composition ratio [molar ratio (I)] of the repeating unit represented by the formula (1) is /((I)
+ (II) ) ] > 10.15 to 0.40, and the melt viscosity at 400°C is 1.000 to 10
(1, QO [l voids is 10 to 50% by weight based on the bodether copolymer and this polyether copolymer.
There is a film formed by forming a polyether copolymer resin composition containing an inorganic filler blended to have a content ratio of: A stretched film obtained by stretching a film in one or two axial directions at a stretching ratio of 1.2 to 3 times. The structure of the invention according to claim 4 is a heat-treated film obtained by heat-treating the stretched film according to claim 3 at a temperature between the delivery temperature and the crystal melting point of the polyether copolymer. This is a reheat-treated film obtained by reheating a heat-treated film obtained by reheating the film at a temperature between its glass transition temperature and the heat treatment temperature.

以下 5細に説明する。This will be explained in detail below.

−ボッエーテル系共重合体 本発明における各種フィルムの原料となるポリエーテル
系共重合体において重要な点)一つは前記ポリエーテル
系共重合体か、前記式(1)て表わされる繰り返し単位
と前記tO,(■)て表わされる繰り返し単位とからな
るとともに、前記式(1)で表わされる繰り返し単位の
含有割合「モル比、(I)/((1)+ (n))]か
0.15〜0.4の範囲にあり、式(II)て表わされ
る繰り返し単位の組成比(モル比)か0.85〜0.6
であることである。
-Botether copolymer Important points regarding the polyether copolymer which is the raw material for various films in the present invention) One is that the polyether copolymer is the repeating unit represented by the formula (1), and the repeating unit represented by the formula (1) is tO, (■), and the content ratio of the repeating unit represented by the above formula (1) "molar ratio, (I) / ((1) + (n))" or 0.15 ~0.4, and the composition ratio (molar ratio) of the repeating unit represented by formula (II) is 0.85 to 0.6
It is to be.

前記式(I)で表わされる繰り返し単位の組成比か0.
15未満であると、ポリエーテル系共重合体のガラス転
移温度か低くなって耐熱性が低下したり、融点か高くな
って成形性の劣化を招いたりする。一方、0.4を超え
ると、ポリエーテル系共重合体の結晶性が失われて、耐
熱性、耐溶剤性か低下する。
The composition ratio of the repeating unit represented by the formula (I) is 0.
If it is less than 15, the glass transition temperature of the polyether copolymer will be low, resulting in a decrease in heat resistance, or the melting point will be high, leading to deterioration in moldability. On the other hand, if it exceeds 0.4, the crystallinity of the polyether copolymer will be lost and the heat resistance and solvent resistance will decrease.

また、本発明におけるポリエーテル系共重合体において
は、温度400℃における溶融粘度(ゼロ剪断粘度)が
1,000〜100.000ボイズであることが重要で
ある。
Furthermore, it is important that the polyether copolymer in the present invention has a melt viscosity (zero shear viscosity) of 1,000 to 100,000 voids at a temperature of 400°C.

この溶融粘度が3.000ボイズ未満である低分子量の
ポリエーテル系共重合体では、充分な耐熱性および機械
的強度を達成することができないからである。
This is because a low molecular weight polyether copolymer having a melt viscosity of less than 3.000 voids cannot achieve sufficient heat resistance and mechanical strength.

また、溶融粘度か100.000ポイズを超えるとフィ
ルム化が困驚になる。
Moreover, if the melt viscosity exceeds 100,000 poise, it becomes difficult to form a film.

本発明に用いられるポリエーテル系共重合体は、たとえ
ば結晶融点か330〜400℃程度であって、高い結晶
性を有するとともに、充分に高分子量てあり、充分な耐
熱性を示すとともに、耐溶剤性、機械的強度に優れて、
たとえば電気・電子機器分野1檄械分野等における新た
な素材として好適に用いることかできる。
The polyether copolymer used in the present invention has, for example, a crystal melting point of about 330 to 400°C, has high crystallinity, has a sufficiently high molecular weight, exhibits sufficient heat resistance, and is resistant to solvents. Excellent strength and mechanical strength.
For example, it can be suitably used as a new material in the electric/electronic equipment field, machine making field, etc.

このようなポリエーテル系共重合体は、以下のようにし
て製造することがてきる。
Such a polyether copolymer can be produced as follows.

−ポリエーテル系共重合体の製造方法−ポリエーテル系
共重合体は、特定使用比率てジハロゲノベンゾニトリル
、および4,4°−ビフェノール、ならびにアルカリ金
属化合物を中性極性溶媒の存在下に反応させた後、反応
生成物と特定量の4,4゛−ジハロゲノベンゾフェノン
との共重合反応を行なうことにより、製造することがで
きる。
-Production method of polyether copolymer-Polyether copolymer is produced by reacting dihalogenobenzonitrile, 4,4°-biphenol, and an alkali metal compound in the presence of a neutral polar solvent in a specific usage ratio. After that, it can be produced by carrying out a copolymerization reaction between the reaction product and a specific amount of 4,4'-dihalogenobenzophenone.

使用に供される前記ジハロゲノベンゾニトリルの具体例
としては、たとえば1次式。
Specific examples of the dihalogenobenzonitrile that can be used include, for example, the linear formula.

(たたし1式中、Xはへロゲン原子である。)て表わさ
れる2、6−ジハロゲノベンゾニトリル、2.4−ジハ
ロゲノベンゾニトリルなどが挙げられる。
(In the formula 1, X is a herogen atom.) Examples include 2,6-dihalogenobenzonitrile and 2,4-dihalogenobenzonitrile.

これらの中ても、好ましいのは2.6−ジクロロベンゾ
ニトリル、2.6−ジフルオロベンゾニトリル、2.4
−ジクロロベンゾニトリル、2゜4−ジフルオロベンゾ
ニトリルてあり、特に好ましいのは2.6−ジクロロベ
ンゾニトリルである。
Among these, preferred are 2.6-dichlorobenzonitrile, 2.6-difluorobenzonitrile, and 2.4-dichlorobenzonitrile.
2.6-dichlorobenzonitrile is particularly preferred.

前記ジハロゲノベンゾニトリルと次式:て表わされる4
、4′−ビフェノールとをアルカリ金属化合物および中
性極性溶媒の存在下て反応させる。
The dihalogenobenzonitrile and the following formula: 4
, 4'-biphenol in the presence of an alkali metal compound and a neutral polar solvent.

使用に供される前記アルカリ金属化合物は、@記4.4
°〜ビフェノールをアルカリ金属塩にすることのできる
ものてあれば、特に制限かなく奸ましいのはアルカリ金
属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩である。
The alkali metal compound to be used is specified in @Note 4.4.
~ If there is something that can convert biphenol into an alkali metal salt, there are no particular restrictions, and the most dangerous ones are alkali metal carbonates and alkali metal hydrogen carbonates.

前記アルカリ金属炭酸塩としては、たとえば炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、
炭酸セシウムなどが挙げられる。
Examples of the alkali metal carbonates include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate,
Examples include cesium carbonate.

これらの中ても、好ましいのは炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムである。
Among these, preferred are sodium carbonate and potassium carbonate.

前記アルカリ金属炭酸水素塩としては、たとえば炭酸水
素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、
炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウムなどが挙げられ
る。
Examples of the alkali metal hydrogen carbonate include lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate,
Examples include rubidium hydrogen carbonate and cesium hydrogen carbonate.

これらの中でも、好ましいのは炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウムである。
Among these, preferred are sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate.

前記中性極性溶媒としては、たとえばN、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミド、N。
Examples of the neutral polar solvent include N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N
-dimethylacetamide, N.

N−ジエチルアセトアミド、N、N−シプロピルアセト
アミト、N、N−ジメチル安息香酸アミド、N−メチル
−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−
イソプロピル−2−とロリトン、N−インブチル−2−
ピロリドン、N−n−プロピル−2−ピロリドン、N−
n−ブチル−2−ピロリドン、N−シクロへキシル−2
−ピロリドン、N−メチル−3−メチル−2−ピロリド
ン、N−エチル−3−メチル−2−ピロリドン、N−メ
チル−3,4,5−1−リフチル2−ピロリドン、N−
メチル−2−ピペリドンN−エチル−2−ピペリトン、
N−イソプロピル−2−ピペリトン、N−メチル−6−
メチル−2−ピペリトン、N−メチル−3−エチルピペ
リトン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド
、l−メチル−1−才キソスルホラン、1−エチル−1
−オキソスルホラン、l−フェニル−1−オキソスルホ
ラン、N、N’ −ジメチルイミダシソジノン、ジフェ
ニルスルホンなどが挙げられる。
N-diethylacetamide, N,N-cypropylacetamide, N,N-dimethylbenzoic acid amide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-
Isopropyl-2- and Loliton, N-inbutyl-2-
Pyrrolidone, N-n-propyl-2-pyrrolidone, N-
n-butyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2
-pyrrolidone, N-methyl-3-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-3-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-3,4,5-1-rifthyl-2-pyrrolidone, N-
Methyl-2-piperidone N-ethyl-2-piperitone,
N-isopropyl-2-piperitone, N-methyl-6-
Methyl-2-piperitone, N-methyl-3-ethylpiperitone, dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, l-methyl-1-xosulfolane, 1-ethyl-1
-oxosulfolane, l-phenyl-1-oxosulfolane, N,N'-dimethylimidasisodinone, diphenylsulfone, and the like.

製造方法の一例としては、前記アルカリ金属化合物およ
び前記中性極性溶媒の存在下ての前記ジハロゲノベンゾ
ニトリルと前記4.4°−ビフェノールとの反応を行な
って得られる反応生成物と前記4.4°−ジハロゲノベ
ンゾフェノンとを反応させる。
As an example of the production method, the reaction product obtained by reacting the dihalogenobenzonitrile with the 4.4°-biphenol in the presence of the alkali metal compound and the neutral polar solvent and the reaction product described in 4. React with 4°-dihalogenobenzophenone.

使用に供される前記4.4°−ジハロゲノベンゾフェノ
ンは、次式。
The 4.4°-dihalogenobenzophenone used has the following formula.

(たたし、Xは前記と同じ意味である。)て表わされる
化合物であり1本発明の方法におし)ては、4,4′−
ジフルオロベンゾフェノン4.4°−ジクロロベンゾフ
ェノンを特に好適に使用することかてきる。
(Where, X has the same meaning as above.) In the method of the present invention), 4,4'-
Difluorobenzophenone 4.4°-Dichlorobenzophenone is particularly preferably used.

ジハロゲノベンゾニトリルと4.4°−ジハロゲノベン
ゾフェノンとの合計量の、前記4.4′−ビフェノール
の使用量に対するモル比が、通常、0.98〜1.02
、好ましくは、1.00〜1.01である。アルカリ金
属化合物のモル比は、通常、1.03〜2.50、好ま
しくは、 t、OS〜1.25である。
The molar ratio of the total amount of dihalogenobenzonitrile and 4.4°-dihalogenobenzophenone to the amount of 4.4′-biphenol used is usually 0.98 to 1.02.
, preferably 1.00 to 1.01. The molar ratio of the alkali metal compound is usually 1.03 to 2.50, preferably t,OS to 1.25.

前記中性極性溶媒の使用量については、特に制限はない
か、通常、前記ジハロゲノベンゾニトリルと、前記4.
4゛−ビフェノールと、前記アルカリ金属化合物との合
計100%量部当り、 200〜2.000重量部の範
囲で選ばれる。
There is no particular restriction on the amount of the neutral polar solvent used, but it is usually the same amount as the dihalogenobenzonitrile and 4.
The amount is selected in the range of 200 to 2.000 parts by weight based on 100% of the total weight of 4'-biphenol and the alkali metal compound.

ポリエーテル系共重合体を得るには、たとえば、前記中
性極性溶媒中に、前記ジハロゲノベンゾニトリルと、前
記4,4°−ビフェノールと、前記アルカリ金属化合物
とを、同時に添加して、前記ジハロゲノベンゾニトリル
と前記4,4゜ビフェノールとの反応を行なわせた後、
さらに前記4,4゛−ジハロゲノベンゾフェノンを添加
し、通常は150〜380℃、好ましくは180〜33
0℃の範囲の温度において一連の反応を行なわせる0反
応温度か150℃未満ては1反応速度か遅すぎて実用的
てはないし、380℃を超えると、副反応を招くことか
ある。
In order to obtain a polyether copolymer, for example, the dihalogenobenzonitrile, the 4,4°-biphenol, and the alkali metal compound are simultaneously added to the neutral polar solvent, and the After reacting dihalogenobenzonitrile with the 4,4° biphenol,
Furthermore, the above-mentioned 4,4'-dihalogenobenzophenone is added, usually at 150-380°C, preferably at 180-330°C.
If the reaction temperature is less than 150°C, the reaction rate is too slow to be practical, and if it exceeds 380°C, side reactions may occur.

また、この一連の反応の反応時間は1通常、0.1〜1
0時間てあり、好ましくは0.5時間〜5時間である。
In addition, the reaction time of this series of reactions is usually 0.1 to 1
0 hours, preferably 0.5 hours to 5 hours.

反応の終了後、得られるポリエーテル系共重合体を含有
する中性極性溶媒溶液から、公知の方法に従って、ポリ
エーテル系共重合体を分離、精製することにより、ポリ
エーテル系共覗合体を得ることかてきる。
After completion of the reaction, a polyether copolymer is obtained by separating and purifying the polyether copolymer from the resulting neutral polar solvent solution containing the polyether copolymer according to a known method. Something comes up.

また1本発明に用いられるポリエーテル系共重合体は、
中性極性溶媒溶液中にジハロゲノベンゾニトリルとビフ
ェノールとアルカリ金m塩とジハロゲノベンゾフェノン
とを同時に添加することにより得ることもてきる。
In addition, the polyether copolymer used in the present invention is
It can also be obtained by simultaneously adding dihalogenobenzonitrile, biphenol, alkali gold salt, and dihalogenobenzophenone to a neutral polar solvent solution.

本発明において用いるポリエーテル系共重合体は、40
0℃における溶融粘度か3.000〜100,000ボ
イズてあり、その結晶融点は330〜400°Cである
The polyether copolymer used in the present invention is 40
The melt viscosity at 0°C is 3,000 to 100,000 voids, and the crystal melting point is 330 to 400°C.

ポリエーテル系共重合体樹脂組成物 請求項1に記載のフィルムは、前記ポリエーテル系共重
合体と無機質充填剤とを、ポリエーテル系共重合体に対
し、無機質充填剤の含有割合か特定割合になるように配
合してなるポリエーテル系共重合体樹脂組成物から製造
される。
The polyether copolymer resin composition according to claim 1, wherein the polyether copolymer and the inorganic filler are mixed in a specific proportion or at a content ratio of the inorganic filler to the polyether copolymer. It is manufactured from a polyether-based copolymer resin composition that is blended so as to have the following properties.

この発明における無機質充填剤としては、たとえば、炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、トロマイト等の炭酸
塩、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム等の硫酸塩、亜
硫酸カルシウム等の亜硫酸塩、タルク、クレー、マイカ
、アスベスト、ガラス繊維、ガラスピーズ、ケイ酸カル
シウム、モンモリロナイト、ベントナイト等のケイ酸塩
、二酸化ケイ素、アルミナ、鉄、亜鉛、アルミニウム等
の金属粉、炭化ケイ素、チッ化ケイ素等のセラミックお
よびこれらのウィスカ、カーボンブラック、グラファイ
ト、炭素繊維などを挙げることができる。前記各種の無
機質充填剤の中でも、たとえば、炭酸カルシウム、二酸
化ケイ素、アルミナ、粘土(カオリン、ベントナイト、
白土等)。
Examples of the inorganic filler in this invention include carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, and tolomite, sulfates such as calcium sulfate and magnesium sulfate, sulfites such as calcium sulfite, talc, clay, mica, asbestos, and glass fibers. , glass peas, silicates such as calcium silicate, montmorillonite, and bentonite, silicon dioxide, metal powders such as alumina, iron, zinc, and aluminum, ceramics such as silicon carbide, silicon nitride, and their whiskers, carbon black, and graphite. , carbon fiber, etc. Among the various inorganic fillers, for example, calcium carbonate, silicon dioxide, alumina, clay (kaolin, bentonite,
Shirato etc.).

タルク、金属酸化物(MgO,ZnO1Ti02)等か
好ましい。
Talc, metal oxides (MgO, ZnO1Ti02), etc. are preferable.

前記無機質充填剤は1粒状、板状、繊維状のいずれの形
態であってもよいが、この発明においては粒径か5pm
以下てあれば良く、好ましくはより細かいものを用いる
The inorganic filler may be in the form of a single particle, a plate, or a fiber, but in this invention, the particle size is 5 pm or less.
It is sufficient if the size is smaller than that, and preferably a finer one is used.

これらの無機質充填剤は、一種単独で使用してもよいし
、あるいは二種以上を併用してもよい。
These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられるポリエーテル系共重合体組成物にお
ける重要な点は、前記ポリエーテル系共重合体に対する
前記無機質充填剤の配合割合か、10〜50重量%、好
ましくは15〜40重量%であることである。
An important point in the polyether copolymer composition used in the present invention is the blending ratio of the inorganic filler to the polyether copolymer, 10 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. It is a certain thing.

前記無機質充填剤の配合割合か10重量%未満であると
、膨張率が大きくなり、金属との差か大きくなる。また
、50重量%を超えると成形性か低下することかある。
If the blending ratio of the inorganic filler is less than 10% by weight, the expansion coefficient becomes large and the difference from metal becomes large. Moreover, if it exceeds 50% by weight, moldability may deteriorate.

ポリエーテル系共重合体樹脂組成物は、上述した製造方
法により得られたポリエーテル系共重合体のパウダーに
、適宜に選択した無機質充填剤を10〜50重量%の割
合て混合し、ブレンドした後、押出機にて混練し、ベレ
ット化することにより得ることかてきる。
The polyether copolymer resin composition was prepared by mixing and blending an appropriately selected inorganic filler at a ratio of 10 to 50% by weight with the polyether copolymer powder obtained by the above-mentioned manufacturing method. After that, it can be obtained by kneading it in an extruder and forming it into pellets.

また、無機質充填剤の存在下にポリエーテル系共重合体
を製造する方法を採用してもよい。
Alternatively, a method of producing a polyether copolymer in the presence of an inorganic filler may be adopted.

しかしなから、無機質充填剤の混合割合か50重量%を
超えると成形性か低下することによりフィルム化か困難
になる。
However, if the mixing ratio of the inorganic filler exceeds 50% by weight, the moldability deteriorates, making it difficult to form into a film.

−フィルム、延伸フィルム、熱処理フィルムおよび再熱
処フィルムの製造方法− 得られたポリエーテル系共重合体樹脂組成物をフィルム
化することにより、前記請求項1に記載のフィルムを得
ることかてきる。
-Production method of film, stretched film, heat-treated film, and reheat-treated film- The film according to claim 1 can be obtained by forming the obtained polyether copolymer resin composition into a film. .

フィルム化は、押出成形法やプレス成形法等の通常の方
法を用いて、結晶融点より10〜+00 ”C高い温度
で、好ましくは、結晶融点より30〜70℃高い温度て
行い、急冷することによって、透明性のよい非品性フィ
ルムか得られる。
Forming into a film is carried out using a conventional method such as extrusion molding or press molding at a temperature of 10 to +00"C higher than the crystal melting point, preferably 30 to 70"C higher than the crystal melting point, followed by rapid cooling. By this method, a non-grade film with good transparency can be obtained.

たとえば、前記ボッエーテル系共重合体樹脂組成物を押
し出し檄に供給し、樹脂温度を350〜450℃とし、
溶融状態でスリット状のダイから押出し、冷却・固化さ
せることにより、ポリエーテル系共重合体樹脂組Jt物
の未延伸の非品性フィルムを作製することかできる。
For example, the Botether copolymer resin composition is fed to an extruder, the resin temperature is set at 350 to 450°C,
By extruding the molten material through a slit-shaped die, cooling and solidifying it, an unstretched, non-quality film of the polyether copolymer resin assembly Jt can be produced.

または、熱プレス機により、プレス温度350〜450
℃にて、プレスフィルムを作製することにより、ボッエ
ーテル系共重合体樹脂組成物の未延伸の非品性フィルム
を得ることかてきる。
Or press at a temperature of 350 to 450 using a heat press machine.
By producing a press film at ℃, it is possible to obtain an unstretched, unstretched film of the Botether copolymer resin composition.

ついて、これらの未延伸フィルムを一軸延伸あるいは二
輪延伸して配向させることにより、請求項2に記載の延
伸フィルムを製造することかてきる。
Then, the stretched film according to claim 2 can be produced by orienting these unstretched films by uniaxial stretching or two-wheel stretching.

延伸方法は二輪同時でも、あるいは−軸づつ逐次てもい
ずれの方法でもよい。
The stretching method may be either two-wheel simultaneous or one-axis sequential.

延伸温度は、ガラス転移温度から結晶融点の間の温度、
たとえば、180〜250℃て行う。
The stretching temperature is a temperature between the glass transition temperature and the crystal melting point,
For example, it is carried out at 180 to 250°C.

延伸倍率は、 1.2〜3倍であるのか好ましく特に1
.3〜2.5倍であるのか好ましい。
The stretching ratio is preferably 1.2 to 3 times, especially 1
.. It is preferable that it is 3 to 2.5 times.

延伸倍率か、1.2倍未満では十分な延伸効果(引張強
度、引張弾性率等のフィルム特性の改良効果)か奏され
ないことかあるし、また、3倍を超えて延伸したとして
も、延伸効果はさらに向上しないことかある。
If the stretching ratio is less than 1.2 times, a sufficient stretching effect (improving effect on film properties such as tensile strength and tensile modulus) may not be achieved; The effect may not improve further.

また、延伸前のフィルムあるいは延伸後の延伸フィルム
を熱処理することによって、耐熱性の著しく向上した熱
処理フィルムを得ることかてきる。
Furthermore, by heat-treating the film before stretching or the stretched film after stretching, it is possible to obtain a heat-treated film with significantly improved heat resistance.

熱処理は、その結晶化温度と結晶融点との間の温度て加
熱することにより行なわれ、その結果結晶化フィルムか
得られる。
Heat treatment is carried out by heating at a temperature between the crystallization temperature and the crystal melting point, resulting in a crystallized film.

延伸の如何に拘らず、熱処理は、緊張下で行い、結晶化
温度すなわち、上記フィルム化て非晶化したポリマーか
、熱処理(昇温)て結晶化する温度より高く、結晶融点
より低い温度、たとえば、190〜370℃で行う。
Regardless of whether or not the stretching is carried out, the heat treatment is performed under tension, and the crystallization temperature is higher than the temperature at which the film-formed and amorphous polymer is crystallized by heat treatment (temperature elevation) and lower than the crystal melting point. For example, it is carried out at 190 to 370°C.

好適な一例として、前記延伸フィルムを金属フレーム等
て固定し、緊張下て、 190〜370℃に加熱しなか
ら、1〜600秒間かけて、熱処理することか挙げられ
る。
As a preferred example, the stretched film is fixed to a metal frame or the like, heated under tension to 190 to 370°C, and then heat-treated for 1 to 600 seconds.

加熱の方法については特に制限がなく、様々な手段を採
用することかてきる。
There are no particular restrictions on the heating method, and various means may be employed.

さらに、この熱処理により得られた熱処理フィルムを、
再度、熱処理温度付近て再熱処理を行うことにより、再
熱処理フィルムを製造することかてきる。
Furthermore, the heat-treated film obtained by this heat treatment is
A reheat-treated film can be produced by performing reheat treatment again at around the heat treatment temperature.

この再熱処理は、必要に応じて緊張下または無緊張下て
行い、ポリエーテル系共重合体樹脂組成物のガラス転移
温度と前記熱処理温度との間の温度て行うのが良い。
This reheat treatment is preferably carried out under tension or without tension as required, and at a temperature between the glass transition temperature of the polyether copolymer resin composition and the heat treatment temperature.

この再熱処理を行うことにより、熱処理フィルムの熱収
縮率か小さくなり、寸法安定性に優れたフィルムを得る
ことかできる。
By performing this reheat treatment, the heat shrinkage rate of the heat-treated film is reduced, and a film with excellent dimensional stability can be obtained.

このようにして得られたフィルム、延伸フィルム、熱処
理フィルムおよび再熱処理フィルムは。
The films, stretched films, heat-treated films and reheat-treated films obtained in this way are:

(1)エレクトロニクス分野において フレキシブルプリント基板用ベースフィルム、フレキシ
ブルプリント基板用裏打材、メンブレン用電極板、メン
ブレン用裏打材、透明電極用ベースフィルム、液晶用フ
ィルムセル、ICキャリヤーテープ(TAB用ベースフ
ィルム)、光カート、垂直磁化用ベースフィルム等に使
用することかてき、 (2)電気および熱絶縁分野において、面状発熱体ベー
スおよび表面カバーフィルム、絶縁テープ(モーター、
発電機、変圧器)、コンデンサー、電線被覆、電子レン
ジその他熱機器用遮弊板、スピーカー振動板、照明機器
カバー、計器類表不盤、感熱転写記録媒体用ベースフィ
ルム、磁気記録媒体用ベースフィルム等に使用すること
かてき。
(1) In the electronics field, base films for flexible printed circuit boards, backing materials for flexible printed circuit boards, electrode plates for membranes, backing materials for membranes, base films for transparent electrodes, film cells for liquid crystals, IC carrier tapes (base films for TAB) (2) In the electrical and thermal insulation fields, it can be used for sheet heating element bases, surface cover films, insulating tapes (motors,
(generators, transformers), capacitors, wire coatings, shielding plates for microwave ovens and other heat equipment, speaker diaphragms, lighting equipment covers, instrument faceplates, base films for thermal transfer recording media, base films for magnetic recording media It can be used for etc.

(3)一般工業用途において オーハーヘントブロシエクター原紙、航空機内装材、原
子力関連機器、ソーラーコレクターカバー、限外濾過膜
等に使用することかてき、(4)その他において 耐熱ラベル、耐熱銘板、航空・車両・防衛関係等コンポ
ラット等に使用することかてきる。
(3) In general industrial applications, it can be used for Oherhentbroschictor base paper, aircraft interior materials, nuclear power related equipment, solar collector covers, ultrafiltration membranes, etc.; (4) In other applications, it can be used for heat-resistant labels, heat-resistant nameplates, etc. It can be used for components such as aviation, vehicles, and defense.

[実施例] 次に本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する
[Examples] Next, the present invention will be described in more detail based on Examples.

(実施例1) トルエンを満たしたディーンスタルクトラップ、攪拌装
置およびアルゴンガス吹込管を備えた内容積200文の
反応器に、2,6−シクロロペンゾニトリル1,548
 g (9モル)、4.4’−ビフェノールS、580
 g (:10モル)、炭酸カリウム4.551 g 
(33モル)およびN−メチル−2−ピロリドン50文
を入れ、アルゴンガスを吹込みなから、1時間かけて室
温から 195℃にまて昇温した。
(Example 1) 1,548 g of 2,6-cyclopenzonitrile was placed in a reactor with an internal volume of 200 g, equipped with a Dean-Starck trap filled with toluene, a stirring device, and an argon gas blowing tube.
g (9 mol), 4.4'-biphenol S, 580
g (:10 mol), potassium carbonate 4.551 g
(33 mol) and 50 moles of N-methyl-2-pyrrolidone were added, and the temperature was raised from room temperature to 195°C over 1 hour while blowing argon gas.

昇温後、少量のトルエンを加えて生成する水を共沸によ
り除去した。
After raising the temperature, a small amount of toluene was added and the produced water was removed by azeotropy.

次いて、温度195℃にて30分間かけて反応を行なっ
た後、4.4°−ジフルオロベンゾフェノン4.582
 g (21モル)をN−メチル−2−ピロリドン70
見に溶解した溶液を加えて、さらに1時間かけて反応を
行なった。
Next, after carrying out a reaction at a temperature of 195°C for 30 minutes, 4.4°-difluorobenzophenone 4.582
g (21 mol) to N-methyl-2-pyrrolidone 70
The dissolved solution was added to the solution, and the reaction was continued for an additional hour.

反応終了後、水、メタノールの順に洗浄を行なってから
、乾燥させて、白色粉末状のポリエテル系共重合体10
.0kg (収率98%)を得た。
After the reaction is completed, the polyether copolymer 10 in the form of a white powder is obtained by washing with water and methanol in that order and drying.
.. 0 kg (yield 98%) was obtained.

このポリエーテル系共重合体の特性について測定したと
ころ、温度400°Cにおける溶融粘度(ゼロ剪断粘度
)は16,000ポイズてあり、ガラス転移温度185
℃、結晶融点348℃、熱分解開始温度か560℃(空
気中、5%重量減)てあった。
When the properties of this polyether copolymer were measured, the melt viscosity (zero shear viscosity) at a temperature of 400°C was 16,000 poise, and the glass transition temperature was 185
℃, the crystal melting point was 348℃, and the thermal decomposition onset temperature was 560℃ (5% weight loss in air).

このポリエーテル系共重合体は、その赤外吸収スペクト
ル分析から、下記の繰り返し単位を有するものであった
According to infrared absorption spectrum analysis, this polyether copolymer had the following repeating units.

(I) (II) (z)/((r)+  (n))=0.3このポリエー
テル系共重合体に浅田製粉■製のタルク(FF−R1平
均粒径 0.74m)を、その含有率か20重量%にな
るようにブレンドし。
(I) (II) (z)/((r)+(n))=0.3 To this polyether copolymer, talc (FF-R1 average particle size 0.74 m) manufactured by Asada Seifun ■ was added. Blend so that the content is 20% by weight.

390℃にて二輪押出機(池貝鉄工■製: PCM−3
0)により、押出成形し、ついてベレット化した。
Two-wheel extruder (manufactured by Ikegai Iron Works: PCM-3) at 390℃
0) to form a pellet.

このベレットを用いて、T−ダイにより押出成形し、輻
2Sc−のフィルムを得た。
Using this pellet, extrusion molding was performed using a T-die to obtain a film with a diameter of 2Sc-.

このフィルムの物性を測定したところ、引張強度か8 
kg/−一”  (ASTM  D882準拠)、引張
弾性率か260kg/■―”  (ASTM  08g
2準拠)、破断伸度か60%(ASTM  D882準
拠)てあった。
When the physical properties of this film were measured, the tensile strength was 8.
kg/-1" (ASTM D882 compliant), tensile modulus 260 kg/-" (ASTM 08g
2), and the elongation at break was 60% (based on ASTM D882).

次いて、この未延伸のフィルムを二輪延伸機(東洋精機
製作所製)により、延伸速度500%/分、190℃て
、縦15倍横1.5倍の二軸延伸をして、延伸フィルム
を得た。
Next, this unstretched film was biaxially stretched 15 times vertically and 1.5 times horizontally at a stretching speed of 500%/min at 190° C. using a two-wheel stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) to obtain a stretched film. Obtained.

その後、これらの未延伸および延伸フィルムをそれぞれ
金属フレームに固定し1足長下300℃、60秒間熱処
理を行い、厚さが751Lmである、二軸配向の熱処理
フィルムを得た。
Thereafter, these unstretched and stretched films were each fixed to a metal frame and heat-treated at 300° C. for 60 seconds under one foot length to obtain a biaxially oriented heat-treated film having a thickness of 751 Lm.

さらに、これらの熱処理フィルムを、弛緩状態て、30
0℃、60秒間熱処理を行って再熱処理フィルムを得た
Furthermore, these heat-treated films were heated for 30 minutes in a relaxed state.
Heat treatment was performed at 0° C. for 60 seconds to obtain a reheat-treated film.

このうち、未延伸の再熱処理フィルムの物性を測定した
ところ、引張強度か10kg/ ms”  (A S 
TM  0882準拠)、引張弾性率か300kg/−
12(ASTM  D882準拠)、破断伸度か15%
(ASTM  D882準拠)てあった。
Among these, when the physical properties of the unstretched reheat-treated film were measured, the tensile strength was 10 kg/ms" (A S
TM 0882 compliant), tensile modulus 300kg/-
12 (based on ASTM D882), elongation at break 15%
(based on ASTM D882).

また、これら再熱処理フィルムをSEI KO電子■製
T M A 100にて線膨張係数を測定した。
Furthermore, the coefficient of linear expansion of these reheat-treated films was measured using TMA 100 manufactured by SEI KO Electronics.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

また、はんだ耐熱性試験機(タバイ社製)にて300°
C,2秒間はんだ耐熱性試験を行なった。
In addition, the solder heat resistance tester (manufactured by Tabai Co., Ltd.) was used at 300°.
C. A soldering heat resistance test was conducted for 2 seconds.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

(実施例2) 実施例1において、タルクの配合割合を、その含有割合
か30%となるようにし、かつ二軸延伸をしなかったほ
かは、実施例1に従って、フィルム化・熱処理、再熱処
理を同一条件で行なった。
(Example 2) Filming, heat treatment, and reheat treatment were performed in accordance with Example 1, except that the blending ratio of talc was adjusted to 30%, and biaxial stretching was not performed. was conducted under the same conditions.

評価結果を第1表に示す。The evaluation results are shown in Table 1.

(実施例3) 実施例1において、合成したポリマーに第1表に示した
無機質を充填し、かつ二輪延伸をしなかったほかは、実
施例1に従って、フィルム化・熱処理、再熱処理を同一
条件て行なった。
(Example 3) Film formation, heat treatment, and reheat treatment were performed under the same conditions as in Example 1, except that the synthesized polymer was filled with the inorganic material shown in Table 1 and two-wheel stretching was not performed. I did it.

評価結果を第1表に示す。The evaluation results are shown in Table 1.

(実施例4,5) 実施例1における共重合体製造時の原料仕込量を、2.
6−シクロロベンゾニトリル1,290 g(7,5モ
ル)、炭酸カリウム4,976 g (36モル)、4
,4°−ジフルオロベンゾフェノン4.910 g (
22,5モル)に変更した他は、実施例1と同様にして
、下記の構造単位からなるポリエーテル系共重合体を得
た。
(Examples 4 and 5) The amount of raw materials charged during copolymer production in Example 1 was changed to 2.
6-cyclobenzonitrile 1,290 g (7.5 mol), potassium carbonate 4,976 g (36 mol), 4
, 4°-difluorobenzophenone 4.910 g (
A polyether copolymer consisting of the following structural unit was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was changed to 22.5 mol).

(I) (■) (I)/((1)+([1))=0.zsこのポリエー
テル系共重合体は、400℃における溶融粘度(ゼロせ
ん断粘度)か11.000ポイズてあり、ガラス転移温
度か182°C1結晶融点が379℃、熱分解開始温度
か562℃てあった。
(I) (■) (I)/((1)+([1))=0. This polyether copolymer has a melt viscosity (zero shear viscosity) of 11,000 poise at 400°C, a glass transition temperature of 182°C, a crystal melting point of 379°C, and a thermal decomposition onset temperature of 562°C. Ta.

このポリエーテル系共重合体に第1表に示した無機質充
填剤を配合し、その後実施例1.2に従ってフィルム化
・二軸延伸・熱処理、再熱処理をそれぞれを同一条件て
行なった。
The inorganic fillers shown in Table 1 were blended into this polyether copolymer, and then film formation, biaxial stretching, heat treatment, and reheat treatment were performed under the same conditions in accordance with Example 1.2.

このフィルムの線膨張係数、はんだ耐熱性を実施例1と
回じ条件で測定した。
The linear expansion coefficient and soldering heat resistance of this film were measured under the same conditions as in Example 1.

評価結果を第1表に示す。The evaluation results are shown in Table 1.

(比較例1) 実施例1て製造したポリエーテル系共重合体を使用して
、S檄質充填剤を添加しないことのほかは前記実施例1
と同様にフィルム化し、熱処理および再熱処理をして、
線膨張係数を測定した。
(Comparative Example 1) The same procedure as that of Example 1 was used except that the polyether copolymer produced in Example 1 was used and no S-based filler was added.
It is made into a film in the same way, heat treated and reheated,
The coefficient of linear expansion was measured.

評価結果を第1表に示す。The evaluation results are shown in Table 1.

(以下、余白) 第 表 ※※ ◎:全く変化なし [光用の効果] 本発明によると、金属並みの低線膨張係数を有し、さら
に高耐熱性てしかも高温時のす法安定性に漬れた樹脂組
成物フィルムを提供することかできる。
(Hereinafter, blank space) Table ※※ ◎: No change at all [Optical effect] According to the present invention, it has a low coefficient of linear expansion comparable to that of metal, and has high heat resistance and stability at high temperatures. It is also possible to provide a soaked resin composition film.

また、本発明の樹脂組成物フィルムはTAB用ベースフ
ィルム、フレキシブルプリント回路基板などの電気・電
子部品などに使用可能である。
Further, the resin composition film of the present invention can be used for electrical/electronic parts such as TAB base films and flexible printed circuit boards.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる繰り返し単位および次式(II);▲数式、
化学式、表等があります▼(II) で表される繰り返し単位からなり、前記式( I )で表
される繰り返し単位の組成比[モル比:( I )/{(
I )+(II)}]が0.15〜0.40であるととも
に、400℃における溶融粘度が3,000〜100,
000ポイズであるポリエーテル系共重合体とこのポリ
エーテル系共重合体に対して10〜50重量%の含有割
合になるように配合された無機質充填剤とを含有するポ
リエーテル系共重合体樹脂組成物を成膜してなるフィル
ム。
(1) The following formula (I): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼The repeating unit represented by (I) and the following formula (II); ▲Mathematical formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ (II) Consisting of repeating units represented by formula (I), composition ratio of repeating units represented by formula (I) [molar ratio: (I)/{(
I)+(II)}] is 0.15 to 0.40, and the melt viscosity at 400°C is 3,000 to 100,
A polyether copolymer resin containing a polyether copolymer having a poise of 0.000 poise and an inorganic filler blended at a content ratio of 10 to 50% by weight with respect to the polyether copolymer. A film formed by forming a composition.
(2)請求項1におけるフィルムを、延伸倍率1.2〜
3倍に一軸方向または二軸方向に延伸してなる延伸フィ
ルム。
(2) The film according to claim 1 is stretched at a stretching ratio of 1.2 to
A stretched film that is uniaxially or biaxially stretched three times.
(3)請求項1に記載のフィルムまたは請求項2に記載
の延伸フィルムを、該ポリエーテル系共重合体の結晶化
温度と融点との間の温度において熱処理してなる熱処理
フィルム。
(3) A heat-treated film obtained by heat-treating the film according to claim 1 or the stretched film according to claim 2 at a temperature between the crystallization temperature and the melting point of the polyether copolymer.
(4)請求項3に記載の熱処理フィルムを、該ポリエー
テル系共重合体のガラス転移温度と前記熱処理温度との
間の温度において再熱処理してなる再熱処理フィルム。
(4) A reheat-treated film obtained by reheating the heat-treated film according to claim 3 at a temperature between the glass transition temperature of the polyether copolymer and the heat treatment temperature.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002338710A (en) * 2001-03-16 2002-11-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Plastic base plate for indication element

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