JPH04288039A - １，２−ジヒドロフタル酸類及びその製造法 - Google Patents
１，２−ジヒドロフタル酸類及びその製造法Info
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- JPH04288039A JPH04288039A JP3072416A JP7241691A JPH04288039A JP H04288039 A JPH04288039 A JP H04288039A JP 3072416 A JP3072416 A JP 3072416A JP 7241691 A JP7241691 A JP 7241691A JP H04288039 A JPH04288039 A JP H04288039A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は１，２−ジヒドロフタル
酸類及びその製造法に関するものである。本発明の後記
一般式（Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類
はそれ自体又は中間体として、例えば各種エステル類、
アルキッド樹脂あるいはポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド類等の合成原料やエポキシ樹脂硬化剤又は高分
子改質剤として利用される重要な化合物である。又、高
分子材料の中間体としてのみならず、各種化学品、医薬
、農薬等を製造するための中間体として有用な化合物で
あり、産業上広い用途を有する化合物である。
酸類及びその製造法に関するものである。本発明の後記
一般式（Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類
はそれ自体又は中間体として、例えば各種エステル類、
アルキッド樹脂あるいはポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド類等の合成原料やエポキシ樹脂硬化剤又は高分
子改質剤として利用される重要な化合物である。又、高
分子材料の中間体としてのみならず、各種化学品、医薬
、農薬等を製造するための中間体として有用な化合物で
あり、産業上広い用途を有する化合物である。
【０００２】
【従来の技術】一般に１，２−ジヒドロフタル酸の代表
的な合成法としては二つの方法が知られており、一つは
Ｏｒｇ．Ｓｙｎ．５０，５０（１９７０）に記載のフタ
ル酸のナトリウム／アマルガムによる還元法で、他の一
つは米国特許第３４７１３８１号（１９６９）に記載の
フタル酸の電極還元法によるものであるが、先の還元法
ではナトリウム／アマルガムを使用するために製造時の
煩雑さ、製造後の廃液処理及び低収率（５４−６２％）
など多くの解決すべき課題を有している。又、後者の米
国特許に記載された発明は無公害の製法であるが、５％
硫酸を用いて７０℃以上の反応温度条件下では原料の各
種フタル酸類の溶解性や反応性の相違のために、満足す
べき選択性をもって目的とする還元体を得ることができ
ず、無置換の１，２−ジヒドロフタル酸類以外の製造に
は適さず、汎用性を有しないという課題を有している。 従って現状では、工業的見地からは電極法が優っている
が、現製造法には汎用性や一般性がなく、置換基を有す
る１，２−ジヒドロフタル酸類の製造には必ずしも適用
することができず、応用面での実用化が遅れている。
的な合成法としては二つの方法が知られており、一つは
Ｏｒｇ．Ｓｙｎ．５０，５０（１９７０）に記載のフタ
ル酸のナトリウム／アマルガムによる還元法で、他の一
つは米国特許第３４７１３８１号（１９６９）に記載の
フタル酸の電極還元法によるものであるが、先の還元法
ではナトリウム／アマルガムを使用するために製造時の
煩雑さ、製造後の廃液処理及び低収率（５４−６２％）
など多くの解決すべき課題を有している。又、後者の米
国特許に記載された発明は無公害の製法であるが、５％
硫酸を用いて７０℃以上の反応温度条件下では原料の各
種フタル酸類の溶解性や反応性の相違のために、満足す
べき選択性をもって目的とする還元体を得ることができ
ず、無置換の１，２−ジヒドロフタル酸類以外の製造に
は適さず、汎用性を有しないという課題を有している。 従って現状では、工業的見地からは電極法が優っている
が、現製造法には汎用性や一般性がなく、置換基を有す
る１，２−ジヒドロフタル酸類の製造には必ずしも適用
することができず、応用面での実用化が遅れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一般式（Ｉ）
で表される１，２−ジヒドロフタル酸類は文献未記載の
新規化合物であり、これらの化合物を包含する一般式（
Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類は従来の
還元法又は電極還元法では製造することができない化合
物をも含めて本発明によって製造することができ、例え
ば本発明の一般式（Ｉ’）で表される化合物を従来の無
置換フタル酸の電極還元により電気化学的に還元すれば
、反応率は極めて低く、且つ多くの副生成物が生成し、
目的とする１，２−ジヒドロフタル酸類の選択性や収率
が極めて低く、産業上の利用性に問題がある。
で表される１，２−ジヒドロフタル酸類は文献未記載の
新規化合物であり、これらの化合物を包含する一般式（
Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類は従来の
還元法又は電極還元法では製造することができない化合
物をも含めて本発明によって製造することができ、例え
ば本発明の一般式（Ｉ’）で表される化合物を従来の無
置換フタル酸の電極還元により電気化学的に還元すれば
、反応率は極めて低く、且つ多くの副生成物が生成し、
目的とする１，２−ジヒドロフタル酸類の選択性や収率
が極めて低く、産業上の利用性に問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式（Ｉ）（
式中、Ｒは低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を示
す。）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類及びこれ
らの化合物を包含する一般式（Ｉ’）式中、Ｒ’は水素
原子、低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を示す。 ）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類の新規な製造
法に関するものである。
式中、Ｒは低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を示
す。）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類及びこれ
らの化合物を包含する一般式（Ｉ’）式中、Ｒ’は水素
原子、低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を示す。 ）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類の新規な製造
法に関するものである。
【０００５】本発明の一般式（Ｉ）で表される１，２−
ジヒドロフタル酸類は文献未記載の新規化合物である。 更に本発明は、従来法では高収率で且つ経済的に製造す
ることはできなかった一般式（Ｉ）を包含する一般式（
Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類を高収率
、高選択性及び無公害で製造する新規な製造法をも提供
するものである。本発明の製造法を例えば図式的に示す
と下記の通りである。 （式中、Ｒ’は水素原子、低級アルキル基又は低級ハロ
アルキル基を示す。）即ち、一般式（ＩＩ）で表される
フタル酸類を低級脂肪族アルコ−ル系有機溶媒及びエ−
テル系有機溶媒から選択される１種以上の有機溶媒及び
酸性水溶液との混合溶媒の存在下に隔膜を用いて陰極還
元することにより、一般式（Ｉ’）で表される１，２−
ジヒドロフタル酸類を製造することができる。
ジヒドロフタル酸類は文献未記載の新規化合物である。 更に本発明は、従来法では高収率で且つ経済的に製造す
ることはできなかった一般式（Ｉ）を包含する一般式（
Ｉ’）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類を高収率
、高選択性及び無公害で製造する新規な製造法をも提供
するものである。本発明の製造法を例えば図式的に示す
と下記の通りである。 （式中、Ｒ’は水素原子、低級アルキル基又は低級ハロ
アルキル基を示す。）即ち、一般式（ＩＩ）で表される
フタル酸類を低級脂肪族アルコ−ル系有機溶媒及びエ−
テル系有機溶媒から選択される１種以上の有機溶媒及び
酸性水溶液との混合溶媒の存在下に隔膜を用いて陰極還
元することにより、一般式（Ｉ’）で表される１，２−
ジヒドロフタル酸類を製造することができる。
【０００６】本発明で使用できる有機溶媒としては低級
脂肪族アルコ−ル系有機溶媒及びエ−テル系有機溶媒を
使用することができ、低級脂肪族アルコ−ル系有機溶媒
としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−
ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル類、エ−テル系有機溶媒
としては、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオ
キサン、ジグライム等を例示することができるが、本発
明は例示の有機溶媒に限定されるものではなく、本反応
の進行を阻害しない有機溶媒であれば良い。
脂肪族アルコ−ル系有機溶媒及びエ−テル系有機溶媒を
使用することができ、低級脂肪族アルコ−ル系有機溶媒
としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−
ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル類、エ−テル系有機溶媒
としては、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオ
キサン、ジグライム等を例示することができるが、本発
明は例示の有機溶媒に限定されるものではなく、本反応
の進行を阻害しない有機溶媒であれば良い。
【０００７】本発明で使用する酸性水溶液の酸としては
無機酸及び有機酸を使用することができ、例えば硫酸、
硝酸、過塩素酸、ホウフッ化酸、パラトルエンスルホン
酸等の鉱酸又は有機酸を使用することができ、好ましく
は硫酸又はホウフッ化酸を使用するのが良い。酸性水溶
液の酸濃度としては０．１〜３０重量％の範囲から選択
され、好ましくは３〜１０重量％の範囲が適当である。 有機溶媒／酸性水溶液の比率は１０〜９０重量％の範囲
から適宜選択すれば良く、好ましくは３０〜７０重量％
の範囲が適当である。
無機酸及び有機酸を使用することができ、例えば硫酸、
硝酸、過塩素酸、ホウフッ化酸、パラトルエンスルホン
酸等の鉱酸又は有機酸を使用することができ、好ましく
は硫酸又はホウフッ化酸を使用するのが良い。酸性水溶
液の酸濃度としては０．１〜３０重量％の範囲から選択
され、好ましくは３〜１０重量％の範囲が適当である。 有機溶媒／酸性水溶液の比率は１０〜９０重量％の範囲
から適宜選択すれば良く、好ましくは３０〜７０重量％
の範囲が適当である。
【０００８】反応基質であるフタル酸類の濃度は０．１
〜１０重量％の範囲であるが、この範囲に限定されるこ
となく基質が溶解する限り高濃度条件でも選択性良く反
応は進行する。又、電流密度は０．１〜１０．０ Ａ／
ｄｍ２の範囲から適宜選択すれば良い。電極材質として
は陰極として、例えば亜鉛、鉛、錫、銅等を使用するこ
とができ、好ましくは鉛を使用するのが良い。又米国特
許第３４７１３８１号（１９６９）に記載の水銀、カド
ニウム、タリウム等を含有する合金も使用することがで
きる。陽極としては、例えば炭素、鉛、白金、白金メッ
キ電極等を使用することができる。
〜１０重量％の範囲であるが、この範囲に限定されるこ
となく基質が溶解する限り高濃度条件でも選択性良く反
応は進行する。又、電流密度は０．１〜１０．０ Ａ／
ｄｍ２の範囲から適宜選択すれば良い。電極材質として
は陰極として、例えば亜鉛、鉛、錫、銅等を使用するこ
とができ、好ましくは鉛を使用するのが良い。又米国特
許第３４７１３８１号（１９６９）に記載の水銀、カド
ニウム、タリウム等を含有する合金も使用することがで
きる。陽極としては、例えば炭素、鉛、白金、白金メッ
キ電極等を使用することができる。
【０００９】反応温度は０〜５０℃の範囲から選択すれ
ば良い。本発明で使用する隔膜素材としては、例えばア
スベスト、ガラスフィルタ−、素焼き材料、多孔質プラ
スチックフィルム等の濾過膜やイオン交換膜等を使用す
ることができる。反応終了後、目的物を含む反応液から
常法により単離し、必要に応じて再結晶法等により精製
することにより、目的物を製造することができる。
ば良い。本発明で使用する隔膜素材としては、例えばア
スベスト、ガラスフィルタ−、素焼き材料、多孔質プラ
スチックフィルム等の濾過膜やイオン交換膜等を使用す
ることができる。反応終了後、目的物を含む反応液から
常法により単離し、必要に応じて再結晶法等により精製
することにより、目的物を製造することができる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を挙げるが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ ４−メチル−１，２−ジヒドロフタル酸の
製造 素焼円筒隔膜（内径２．５ｃｍ、外径２．７ｃｍ、高さ
７ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１００ｍｌ）内
に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）、
陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）を約２
ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキサン４０
ｍｌ及び５％硫酸４０ｍｌの混合溶液、円筒内陽極室に
５％硫酸２０ｍｌをそれぞれ導入した。陰極室に４−メ
チルフタル酸２．０ｇを加え、陰極液をマグネチックス
タ−ラ−で攪拌し、反応液を５０℃以下に保ちながら０
．５Ａの定電流条件下で８ Ｆ／ｍｏｌの通電を行った
。次いで陰極室の溶媒を３０ｍｌ程度に濃縮し冷却する
ことにより白色固体結晶を得た。更にその溶液をエ−テ
ル抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テルを
留去し、得られた固体結晶をアセトン／エ−テルで再結
晶して合計１．７５ｇの目的物を得た。 収率 ８
７％ 物性 白色固体 ｍ．ｐ． １６７−１７０℃Ｉ
Ｒ （ＫＢｒ） １７１０（Ｃ＝Ｏ）， １２
００ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ， δ値）
１．８０（ｂｒｓ，３Ｈ）， ３．６０（ｍ，２Ｈ），
５．５−６．２（ｍ，３Ｈ）． 元素分析：（Ｃ９Ｈ１０Ｏ４ として）実測値 Ｃ
５９．６２ Ｈ ５．７６．計算値 Ｃ ５９．
３２ Ｈ ５ ５４．
本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ ４−メチル−１，２−ジヒドロフタル酸の
製造 素焼円筒隔膜（内径２．５ｃｍ、外径２．７ｃｍ、高さ
７ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１００ｍｌ）内
に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）、
陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）を約２
ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキサン４０
ｍｌ及び５％硫酸４０ｍｌの混合溶液、円筒内陽極室に
５％硫酸２０ｍｌをそれぞれ導入した。陰極室に４−メ
チルフタル酸２．０ｇを加え、陰極液をマグネチックス
タ−ラ−で攪拌し、反応液を５０℃以下に保ちながら０
．５Ａの定電流条件下で８ Ｆ／ｍｏｌの通電を行った
。次いで陰極室の溶媒を３０ｍｌ程度に濃縮し冷却する
ことにより白色固体結晶を得た。更にその溶液をエ−テ
ル抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テルを
留去し、得られた固体結晶をアセトン／エ−テルで再結
晶して合計１．７５ｇの目的物を得た。 収率 ８
７％ 物性 白色固体 ｍ．ｐ． １６７−１７０℃Ｉ
Ｒ （ＫＢｒ） １７１０（Ｃ＝Ｏ）， １２
００ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ， δ値）
１．８０（ｂｒｓ，３Ｈ）， ３．６０（ｍ，２Ｈ），
５．５−６．２（ｍ，３Ｈ）． 元素分析：（Ｃ９Ｈ１０Ｏ４ として）実測値 Ｃ
５９．６２ Ｈ ５．７６．計算値 Ｃ ５９．
３２ Ｈ ５ ５４．
【００１１】実施例２ ４
−トリフルオロメチル−１，２−ジヒドロフタル酸の製
造 実施例１に従い、反応基質として４−トリフルオロメチ
ルフタル酸１．０ｇを陰極室に加え、０．５Ａの定電流
条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。陰極液を３０ｍｌ程度
に濃縮しエ−テル抽出を行い、次いで無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、エ−テルを留去後ヘキサン／ エ−テル
で再結晶して０．８５ｇの４−トリフルオロメチル−１
，２−ジヒドロフタル酸を得た。収率８４％ 物性 白色固体 ｍ．ｐ． １８０−１８２℃Ｉ
Ｒ （ＫＢｒ） １７００（Ｃ＝Ｏ）， １２５
０， １１１６， ９１０ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
Ｄ３ＣＯＣＤ３，δ値） ４．１８（ｍ，１Ｈ）， ４
．１８（ｍ，１Ｈ）， ５．９８（ｍ，１Ｈ）， ６．３０（ｍ，１Ｈ）， ７．０３（ｍ，１Ｈ）．元素
分析：（Ｃ９Ｈ７Ｏ４Ｆ３として）実測値 Ｃ ４６
．０５ Ｈ ３．１６．計算値 Ｃ ４５．７６
Ｈ ２．９９．
−トリフルオロメチル−１，２−ジヒドロフタル酸の製
造 実施例１に従い、反応基質として４−トリフルオロメチ
ルフタル酸１．０ｇを陰極室に加え、０．５Ａの定電流
条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。陰極液を３０ｍｌ程度
に濃縮しエ−テル抽出を行い、次いで無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、エ−テルを留去後ヘキサン／ エ−テル
で再結晶して０．８５ｇの４−トリフルオロメチル−１
，２−ジヒドロフタル酸を得た。収率８４％ 物性 白色固体 ｍ．ｐ． １８０−１８２℃Ｉ
Ｒ （ＫＢｒ） １７００（Ｃ＝Ｏ）， １２５
０， １１１６， ９１０ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
Ｄ３ＣＯＣＤ３，δ値） ４．１８（ｍ，１Ｈ）， ４
．１８（ｍ，１Ｈ）， ５．９８（ｍ，１Ｈ）， ６．３０（ｍ，１Ｈ）， ７．０３（ｍ，１Ｈ）．元素
分析：（Ｃ９Ｈ７Ｏ４Ｆ３として）実測値 Ｃ ４６
．０５ Ｈ ３．１６．計算値 Ｃ ４５．７６
Ｈ ２．９９．
【００１２】実施例３ ４−ト
リフルオロメチル−１，２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１に従い、反応基質として４−トリフルオロメチ
ルフタル酸２．０ｇを陰極室に加え、０．２５Ａの定電
流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。実施例２と同様に処
理することにより１．７３ｇの目的物を得た。収率８４
％
リフルオロメチル−１，２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１に従い、反応基質として４−トリフルオロメチ
ルフタル酸２．０ｇを陰極室に加え、０．２５Ａの定電
流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。実施例２と同様に処
理することにより１．７３ｇの目的物を得た。収率８４
％
【００１３】実施例４ ４−ｔｅｒｔ−ブチル−１
，２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１に従い、反応基質として４−ｔｅｒｔ−ブチル
フタル酸１．０ｇを陰極室に加え、０．５Ａの定電流条
件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。実施例１と同様に処理す
ることにより０．８９ｇの目的物を得た。収率８８％物
性 白色固体 ｍ．ｐ． １９２−１９３℃ＩＲ
（ＫＢｒ） １７００（Ｃ＝Ｏ）， １３００
， １２４０， ６１２ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
３ＣＯＣＤ３，δ値） １．１０（ｓ，３Ｈ）， ３．
５７（ｍ，２Ｈ）， ５．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）， ５．８８（ｂｒｄ，１Ｈ）， ６．２０（ｂｒｄ，１Ｈ
）．元素分析：（Ｃ１２Ｈ１５Ｏ４として）実測値
Ｃ ６４．３８ Ｈ ７．２８．計算値 Ｃ ６
４．２６ Ｈ ７．２０．
，２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１に従い、反応基質として４−ｔｅｒｔ−ブチル
フタル酸１．０ｇを陰極室に加え、０．５Ａの定電流条
件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。実施例１と同様に処理す
ることにより０．８９ｇの目的物を得た。収率８８％物
性 白色固体 ｍ．ｐ． １９２−１９３℃ＩＲ
（ＫＢｒ） １７００（Ｃ＝Ｏ）， １３００
， １２４０， ６１２ｃｍ−１．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
３ＣＯＣＤ３，δ値） １．１０（ｓ，３Ｈ）， ３．
５７（ｍ，２Ｈ）， ５．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）， ５．８８（ｂｒｄ，１Ｈ）， ６．２０（ｂｒｄ，１Ｈ
）．元素分析：（Ｃ１２Ｈ１５Ｏ４として）実測値
Ｃ ６４．３８ Ｈ ７．２８．計算値 Ｃ ６
４．２６ Ｈ ７．２０．
【００１４】実施例５
４−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−ジヒドロフタル酸の
製造 実施例１の条件において、陰極室溶媒としてジグライム
４０ｍｌと５％硫酸水溶液４０ｍｌの混合溶媒を用い、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸を１．０ｇ陰極室に加え
、０．５Ａの定電流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。陰
極室溶液を４０ｍｌまで濃縮しエ−テルで目的物を抽出
した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テ
ル層を濃縮し、ヘキサンを添加して再結晶することによ
り０．６２ｇの目的物を得た。 収率６１％
４−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−ジヒドロフタル酸の
製造 実施例１の条件において、陰極室溶媒としてジグライム
４０ｍｌと５％硫酸水溶液４０ｍｌの混合溶媒を用い、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸を１．０ｇ陰極室に加え
、０．５Ａの定電流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した。陰
極室溶液を４０ｍｌまで濃縮しエ−テルで目的物を抽出
した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テ
ル層を濃縮し、ヘキサンを添加して再結晶することによ
り０．６２ｇの目的物を得た。 収率６１％
【００１５】実施例６ ４−ｔｅｒｔ−ブチル−１，
２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１の条件において、陰極室溶媒としてメタノ−ル
４０ｍｌと５％硫酸水溶液４０ｍｌの混合溶媒を用い、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸を１．０ｇ陰極室に加え
、０．５Ａの定電流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した．反
応終了後、実施例１と同様にして単離して目的物０．７
０ｇを得た。 収率６１％
２−ジヒドロフタル酸の製造 実施例１の条件において、陰極室溶媒としてメタノ−ル
４０ｍｌと５％硫酸水溶液４０ｍｌの混合溶媒を用い、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸を１．０ｇ陰極室に加え
、０．５Ａの定電流条件で８ Ｆ／ｍｏｌ通電した．反
応終了後、実施例１と同様にして単離して目的物０．７
０ｇを得た。 収率６１％
【００１６】実施例７ １，２−ジヒドロフタル酸の
製造 素焼円筒隔膜（内径２．５ｃｍ、外径２．７ｃｍ、高さ
７ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１００ｍｌ）内
に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）、
陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）を約２
ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキサン４０
ｍｌ及び５％硫酸４０ｍｌの混合溶液、円筒内陽極室に
５％硫酸２０ｍｌをそれぞれ導入した。陰極室にフタル
酸２ｇを加え、陰極液をマグネチックスタ−ラ−で攪拌
し、反応液を５０℃以下に保ちながら０．５Ａの定電流
条件下で５ Ｆ／ｍｏｌの通電を行った。次いで陰極室
の溶媒を３０ｍｌ程度に濃縮し冷却することにより１．
２ｇの白色固体結晶を得た。更にその溶液をエ−テル抽
出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テルを留去
し、得られた固体結晶をアセトン／エ−テルで再結晶し
て合計１．７２ｇの目的物を得た。 ｍ．ｐ． １７３−１７５℃ 収率 ８
６％
製造 素焼円筒隔膜（内径２．５ｃｍ、外径２．７ｃｍ、高さ
７ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１００ｍｌ）内
に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）、
陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（３ｃｍ×４ｃｍ）を約２
ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキサン４０
ｍｌ及び５％硫酸４０ｍｌの混合溶液、円筒内陽極室に
５％硫酸２０ｍｌをそれぞれ導入した。陰極室にフタル
酸２ｇを加え、陰極液をマグネチックスタ−ラ−で攪拌
し、反応液を５０℃以下に保ちながら０．５Ａの定電流
条件下で５ Ｆ／ｍｏｌの通電を行った。次いで陰極室
の溶媒を３０ｍｌ程度に濃縮し冷却することにより１．
２ｇの白色固体結晶を得た。更にその溶液をエ−テル抽
出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エ−テルを留去
し、得られた固体結晶をアセトン／エ−テルで再結晶し
て合計１．７２ｇの目的物を得た。 ｍ．ｐ． １７３−１７５℃ 収率 ８
６％
【００１７】実施例８ １，２−ジヒドロフタル
酸の製造 素焼円筒隔膜（内径４．５ｃｍ、外径５．０ｃｍ、高さ
１５ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１０００ｍｌ
）内に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（７ｃｍ×１３ｃ
ｍ）、陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（４ｃｍ×１３ｃｍ
）を約５ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキ
サン３００ｍｌ及び５％硫酸３００ｍｌの混合溶液、円
筒内陽極室に５％硫酸２００ｌ をそれぞれ導入した。 陰極室にフタル酸４０ｇを加え、陰極液をマグネチック
スタ−ラ−で攪拌し、反応液を５０℃以下に保ちながら
１０Ａの定電流条件下で電極還元を行い、５ Ｆ／ｍｏ
ｌの通電を行った後、陰極室の溶媒を２００ｍｌ程度に
濃縮し冷却することにより、析出した目的物の白色固体
結晶２７．６ｇを得た。更にその溶液を濃縮し再結晶し
て９．２ｇの目的物を得た。 収率 ９０％
酸の製造 素焼円筒隔膜（内径４．５ｃｍ、外径５．０ｃｍ、高さ
１５ｃｍ）付きビ−カ−形電解セル（容量１０００ｍｌ
）内に、陰極として厚さ１ｍｍの鉛板（７ｃｍ×１３ｃ
ｍ）、陽極として厚さ１ｍｍの鉛板（４ｃｍ×１３ｃｍ
）を約５ｃｍの間隔をおいて取り付け、陰極室にジオキ
サン３００ｍｌ及び５％硫酸３００ｍｌの混合溶液、円
筒内陽極室に５％硫酸２００ｌ をそれぞれ導入した。 陰極室にフタル酸４０ｇを加え、陰極液をマグネチック
スタ−ラ−で攪拌し、反応液を５０℃以下に保ちながら
１０Ａの定電流条件下で電極還元を行い、５ Ｆ／ｍｏ
ｌの通電を行った後、陰極室の溶媒を２００ｍｌ程度に
濃縮し冷却することにより、析出した目的物の白色固体
結晶２７．６ｇを得た。更にその溶液を濃縮し再結晶し
て９．２ｇの目的物を得た。 収率 ９０％
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） （式中、Ｒは低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を
示す。）で表される１，２−ジヒドロフタル酸類。 - 【請求項２】 Ｒがメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基又
はトリフルオロメチル基である請求項第１項記載の１，
２−ジヒドロフタル酸類。 - 【請求項３】 一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ’は水素原子、低級アルキル基又は低級ハロ
アルキル基を示す。）で表されるフタル酸類を有機溶媒
及び酸性水溶液の存在下に電極還元反応することを特徴
とする一般式（Ｉ’） （式中、Ｒ’は前記に同じ。）で表される１，２−ジヒ
ドロフタル酸類の製造法。 - 【請求項４】 有機溶媒が低級脂肪族アルコ−ル系有
機溶媒及びエ−テル系有機溶媒から選択される１種以上
である請求項第３項記載の１，２−ジヒドロフタル酸類
の製造法。 - 【請求項５】 Ｒ’がメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基
又はトリフルオロメチル基である請求項第４項記載の１
，２−ジヒドロフタル酸類の製造法。 - 【請求項６】 １，２−ジヒドロフタル酸類の環上の
置換基がメタ位に置換された請求項第５項記載の１，２
−ジヒドロフタル酸類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072416A JPH04288039A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | １，２−ジヒドロフタル酸類及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072416A JPH04288039A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | １，２−ジヒドロフタル酸類及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04288039A true JPH04288039A (ja) | 1992-10-13 |
Family
ID=13488657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3072416A Pending JPH04288039A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | １，２−ジヒドロフタル酸類及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04288039A (ja) |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP3072416A patent/JPH04288039A/ja active Pending
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