JPH04290877A - 対称的な２，２’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製造方法 - Google Patents
対称的な２，２’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製造方法Info
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- JPH04290877A JPH04290877A JP34992991A JP34992991A JPH04290877A JP H04290877 A JPH04290877 A JP H04290877A JP 34992991 A JP34992991 A JP 34992991A JP 34992991 A JP34992991 A JP 34992991A JP H04290877 A JPH04290877 A JP H04290877A
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- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
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- C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２，２’−メチレンビ
スベンゾトリアゾリルフェノール類の製造の新規な方法
に関する。
スベンゾトリアゾリルフェノール類の製造の新規な方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】そのような化合物の製造方法は欧州特許
第１８０９９３号に開示されている。この方法において
、ベンゾトリアゾリルフェノールは第一段階で、アミン
とホルムアルデヒドを有機溶媒中で反応させて、相当す
るマンニッヒ塩基を得る。第二段階で、単離されたマン
ニッヒ塩基をさらにベンゾトリアゾリルフェノールと他
の有機溶媒中で反応させて、望ましい２，２’−メチレ
ンビスベンゾトリアゾリルフェノールを得る。
第１８０９９３号に開示されている。この方法において
、ベンゾトリアゾリルフェノールは第一段階で、アミン
とホルムアルデヒドを有機溶媒中で反応させて、相当す
るマンニッヒ塩基を得る。第二段階で、単離されたマン
ニッヒ塩基をさらにベンゾトリアゾリルフェノールと他
の有機溶媒中で反応させて、望ましい２，２’−メチレ
ンビスベンゾトリアゾリルフェノールを得る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】対称的な２，２’−メ
チレンビスベンゾトリアゾリルフェノール類は、有機溶
媒の存在なしでベンゾトリアゾリルフェノール、アミン
及びホルムアルデヒドを反応させることにより従来の反
応よりも、より単純に、より早く得られるということが
見い出された。
チレンビスベンゾトリアゾリルフェノール類は、有機溶
媒の存在なしでベンゾトリアゾリルフェノール、アミン
及びホルムアルデヒドを反応させることにより従来の反
応よりも、より単純に、より早く得られるということが
見い出された。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は次式（
１）
１）
【化４】（式中、Ｒ１ は水素原子、炭素原子数１ない
し１２のアルキル基またはアルコキシ基、フェニル基、
アルキル基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフェニ
ルアルキル基、またはハロゲン原子を表わし、Ｒ２ は
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、ＣＯ２ Ｈ基に
より置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
フェニル基、アルキル基部分に１ないし４個の炭素原子
を含むフェニルアルキル基、または炭素原子数５ないし
８のシクロアルキル基を表わす）で表わされる対称的な
２，２’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノ
ールの製造方法において、次式（２）
し１２のアルキル基またはアルコキシ基、フェニル基、
アルキル基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフェニ
ルアルキル基、またはハロゲン原子を表わし、Ｒ２ は
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、ＣＯ２ Ｈ基に
より置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
フェニル基、アルキル基部分に１ないし４個の炭素原子
を含むフェニルアルキル基、または炭素原子数５ないし
８のシクロアルキル基を表わす）で表わされる対称的な
２，２’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノ
ールの製造方法において、次式（２）
【化５】（式中、Ｒ１ 及びＲ２ は与えられた意味を
表わす）で表わされる化合物を次式（３）
表わす）で表わされる化合物を次式（３）
【化６】
（式中、Ｒ３ 及びＲ４ はそれぞれ独立して他の炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる
化合物及び、次式（４）ＣＨ２ Ｏで表わされる化合物
、またはそのポリマーと反応させて、相当するマンニッ
ヒ塩基を得て、そして該マンニッヒ塩基を塩基で処理す
ることからなり、両反応は中間体を分離することなく、
同じ反応容器中で連続的に行われる方法に関する。
原子数１ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる
化合物及び、次式（４）ＣＨ２ Ｏで表わされる化合物
、またはそのポリマーと反応させて、相当するマンニッ
ヒ塩基を得て、そして該マンニッヒ塩基を塩基で処理す
ることからなり、両反応は中間体を分離することなく、
同じ反応容器中で連続的に行われる方法に関する。
【０００５】式（１）の化合物は例えば、上記で引用さ
れた欧州特許第１８０９９３号ＮＩ知である。式（２）
の出発化合物もまた、その製造方法と共に、米国特許第
４６４２３５０号及び欧州特許第３１３０２号で公知で
あり、開示されている。式（１）の２，２’−メチレン
ビスベンゾトリアゾリル フェノールは、有機ポリマ
ーにおいて光安定剤として使用されうる。
れた欧州特許第１８０９９３号ＮＩ知である。式（２）
の出発化合物もまた、その製造方法と共に、米国特許第
４６４２３５０号及び欧州特許第３１３０２号で公知で
あり、開示されている。式（１）の２，２’−メチレン
ビスベンゾトリアゾリル フェノールは、有機ポリマ
ーにおいて光安定剤として使用されうる。
【０００６】本発明の方法により製造された式（１）の
化合物における置換基Ｒ１ は、水素原子に加えて、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、代表的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基、及びドデシル基、並び
に相当する分枝状異性体である。適当なアルコキシ官能
基の例は、この詳細から推論できる。さらに、Ｒ１ は
フェニル基、またはアルキル基部分に１ないし４個の炭
素原子を含むフェニルアルキル基である。実例はフェニ
ルエチル基、フェニルプロピル基、α−メチルベンジル
基、α，α−ジメチルベンジル基、及び好ましくはベン
ジル基である。Ｒ１ はハロゲン原子、例えば、塩素原
子または臭素原子でありうる。好ましくは、Ｒ１ は水
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、または塩
素原子である。
化合物における置換基Ｒ１ は、水素原子に加えて、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、代表的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基、及びドデシル基、並び
に相当する分枝状異性体である。適当なアルコキシ官能
基の例は、この詳細から推論できる。さらに、Ｒ１ は
フェニル基、またはアルキル基部分に１ないし４個の炭
素原子を含むフェニルアルキル基である。実例はフェニ
ルエチル基、フェニルプロピル基、α−メチルベンジル
基、α，α−ジメチルベンジル基、及び好ましくはベン
ジル基である。Ｒ１ はハロゲン原子、例えば、塩素原
子または臭素原子でありうる。好ましくは、Ｒ１ は水
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、または塩
素原子である。
【０００７】適当なアルキル置換基Ｒ２ は、Ｒ１ で
引用されたものと同じである。これらのアルキル置換基
はＣＯ２ Ｈ基により置換されて、−ＣＨ２ ＣＨ２
ＣＯ２ Ｈのような基を形成する。フェニル基、及びア
ルキル基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフェニル
アルキル基（Ｒ１ のときの例）に加えて、Ｒ２ は炭
素原子数５ないし８のシクロアルキル基、代表的にはシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチ
ル基でありうる。
引用されたものと同じである。これらのアルキル置換基
はＣＯ２ Ｈ基により置換されて、−ＣＨ２ ＣＨ２
ＣＯ２ Ｈのような基を形成する。フェニル基、及びア
ルキル基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフェニル
アルキル基（Ｒ１ のときの例）に加えて、Ｒ２ は炭
素原子数５ないし８のシクロアルキル基、代表的にはシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチ
ル基でありうる。
【０００８】式（３）の化合物におけるＲ３ 及びＲ４
は、それぞれ独立して他の炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、例えば、メチル基、プロピル基、及びブチル
基、並びに相当する分枝状異性体である。
は、それぞれ独立して他の炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、例えば、メチル基、プロピル基、及びブチル
基、並びに相当する分枝状異性体である。
【０００９】Ｒ１ が水素原子、炭素原子数１ないし４
のアルキル基、またはハロゲン原子、好ましくは塩素原
子を表わし、Ｒ２ が炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基を表わし、さらに好ましくはＲ１ が水素原子を表
わし、Ｒ２ が炭素原子数６ないし１２のアルキル基を
表わす式（２）の化合物を使用することは好ましい。特
に好ましいアルキル官能基Ｒ２ は第三オクチル基であ
る。
のアルキル基、またはハロゲン原子、好ましくは塩素原
子を表わし、Ｒ２ が炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基を表わし、さらに好ましくはＲ１ が水素原子を表
わし、Ｒ２ が炭素原子数６ないし１２のアルキル基を
表わす式（２）の化合物を使用することは好ましい。特
に好ましいアルキル官能基Ｒ２ は第三オクチル基であ
る。
【００１０】式（３）の化合物におけるＲ３ 及びＲ４
は好ましくは、同じ意味を表わし、好ましくはメチル
基またはブチル基を表わす。
は好ましくは、同じ意味を表わし、好ましくはメチル
基またはブチル基を表わす。
【００１１】ホルムアルデヒドに加えて、式（４）の化
合物として、ホルムアルデヒドのポリマー、例えば、パ
ラホルムアルデヒド〔（ＣＨ２ Ｏ）ｎ ，ｎ＝１２〜
３０〕またはトリオキサンを使用することができる。
合物として、ホルムアルデヒドのポリマー、例えば、パ
ラホルムアルデヒド〔（ＣＨ２ Ｏ）ｎ ，ｎ＝１２〜
３０〕またはトリオキサンを使用することができる。
【００１２】本発明の方法は例えば、ベンゾトリアゾリ
ルフェノール及びホルムアルデヒドを反応器に好都合に
は圧力下、代表的には１ないし５０ｍｂａｒで置き、こ
の混合物を溶融物に転換することにより行われる。ジア
ルキルアミンをこの溶融物中に通し、次いで反応混合物
を多少高めな温度、代表的には１２０ないし１５０℃で
反応させ続ける。反応器中の圧力はこの状態で約１７０
０〜１９００ｍｂａｒに高められうる。通常、反応は２
ないし４時間後でさえ、中断することはできない。
ルフェノール及びホルムアルデヒドを反応器に好都合に
は圧力下、代表的には１ないし５０ｍｂａｒで置き、こ
の混合物を溶融物に転換することにより行われる。ジア
ルキルアミンをこの溶融物中に通し、次いで反応混合物
を多少高めな温度、代表的には１２０ないし１５０℃で
反応させ続ける。反応器中の圧力はこの状態で約１７０
０〜１９００ｍｂａｒに高められうる。通常、反応は２
ないし４時間後でさえ、中断することはできない。
【００１３】マンニッヒ塩基及び未反応ベンゾトリアゾ
リルベンゼンを含んでいる溶融物を冷却させ、反応水お
よび過剰のアミンを減圧することにより除去する。マン
ニッヒ塩基は単離されず、さらに同じ反応器中で反応す
る。脱アミン反応のため、塩基、例えば、ナトリウム
メタノレートまたはナトリウム エタノレートのよ
うなアルカリ金属アルコレート、または水酸化ナトリウ
ム若しくは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物が、反応混合物に添加され、そしてバッチは圧力下、
代表的には１５０ないし２００ｍｂａｒで、約２８０な
いし２２０℃に加熱される。
リルベンゼンを含んでいる溶融物を冷却させ、反応水お
よび過剰のアミンを減圧することにより除去する。マン
ニッヒ塩基は単離されず、さらに同じ反応器中で反応す
る。脱アミン反応のため、塩基、例えば、ナトリウム
メタノレートまたはナトリウム エタノレートのよ
うなアルカリ金属アルコレート、または水酸化ナトリウ
ム若しくは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物が、反応混合物に添加され、そしてバッチは圧力下、
代表的には１５０ないし２００ｍｂａｒで、約２８０な
いし２２０℃に加熱される。
【００１４】通常、脱アミン反応は２ないし４時間後に
停止される。塩基を中和するため、溶融物はより高温の
沸点をもつ溶媒、例えば、キシレンに溶解され、カルボ
ン酸、好ましくはギ酸または酢酸で処理される。ろ過に
より不純物を除去した後、慣用の方法、例えば、結晶化
、蒸留または抽出により反応生成物が生じる。析出によ
る溶融物の結晶化、または精製段階は、カルボン酸での
中和後、引続き直接起こる。この場合、有機溶媒の添加
は不要である。
停止される。塩基を中和するため、溶融物はより高温の
沸点をもつ溶媒、例えば、キシレンに溶解され、カルボ
ン酸、好ましくはギ酸または酢酸で処理される。ろ過に
より不純物を除去した後、慣用の方法、例えば、結晶化
、蒸留または抽出により反応生成物が生じる。析出によ
る溶融物の結晶化、または精製段階は、カルボン酸での
中和後、引続き直接起こる。この場合、有機溶媒の添加
は不要である。
【００１５】未反応ベンゾトリアゾリルフェノールは、
より高温の沸点をもつ有機溶媒から蒸留により、例えば
、薄いフィルムエバポレータにより回収され、消費され
たベンゾトリアゾリルフェノールに基づいた収量は、通
常４ないし１０％まで増加する。溶媒は再利用されうる
。
より高温の沸点をもつ有機溶媒から蒸留により、例えば
、薄いフィルムエバポレータにより回収され、消費され
たベンゾトリアゾリルフェノールに基づいた収量は、通
常４ないし１０％まで増加する。溶媒は再利用されうる
。
【００１６】本発明の方法の特徴は、有機溶媒の存在な
しでワン ポット方法（ｏｎｅ−ｐｏｔ ｐｒｏｃｅ
ｓｓ）として行われることである。
しでワン ポット方法（ｏｎｅ−ｐｏｔ ｐｒｏｃｅ
ｓｓ）として行われることである。
【００１７】純粋な生成物の収量を増加することに加え
て、この方法は欧州特許第１８０９９３号に開示された
先行技術の方法よりさらに意味のある有利な点を提供す
る。この先行技術と比較して、本発明の方法は３４時間
の全反応時間（第一段階で２４時間、第二段階で１０時
間）を４ないし８時間に短縮する。これは、本発明の方
法が生成物の純度を損なうことなく、欧州特許第１８０
９９３号の第一反応段階にのみ必要とされた時間の６な
いし８時間だけ、生成物の収量をより高めたことを意味
する。空時収量は少なくとも因子５により本発明の実施
において、改善された。
て、この方法は欧州特許第１８０９９３号に開示された
先行技術の方法よりさらに意味のある有利な点を提供す
る。この先行技術と比較して、本発明の方法は３４時間
の全反応時間（第一段階で２４時間、第二段階で１０時
間）を４ないし８時間に短縮する。これは、本発明の方
法が生成物の純度を損なうことなく、欧州特許第１８０
９９３号の第一反応段階にのみ必要とされた時間の６な
いし８時間だけ、生成物の収量をより高めたことを意味
する。空時収量は少なくとも因子５により本発明の実施
において、改善された。
【００１８】本発明の実施において、中間体（次式
【化
７】 で表わされるマンニッヒ塩基）の単離、またはこの中間
体の精製でさえ、また必要ない。
７】 で表わされるマンニッヒ塩基）の単離、またはこの中間
体の精製でさえ、また必要ない。
【００１９】欧州特許第１８０９９３号において、異な
る有機溶媒は第一及び第二反応段階に使用される。その
方法に関連した問題、すなわち、溶媒の精製または処理
の問題が本発明の方法において生じない。これらの利点
は、本発明の方法が単純で、非常に実利的な２，２’−
メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製
造方法であることを明確にした。
る有機溶媒は第一及び第二反応段階に使用される。その
方法に関連した問題、すなわち、溶媒の精製または処理
の問題が本発明の方法において生じない。これらの利点
は、本発明の方法が単純で、非常に実利的な２，２’−
メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製
造方法であることを明確にした。
【００２０】６０ないし３００℃、好ましくは１３０な
いし２２０℃の温度範囲で本発明の方法が行われるのが
好ましい。マンニッヒ塩基を製造するまでの第一段階は
６０ないし１５０℃、好ましくは１２０ないし１５０℃
の温度範囲で行われ、そして最終生成物を形成するまで
の第二段階は１８０ないし３００℃、好ましくは１８０
ないし２２０℃の温度範囲で行われる。塩基、例えば、
アルカリ金属アルコレートまたはアルカリ金属水酸化物
の存在下に第二段階が行われる必要がある。式（２），
（３）及び（４）の化合物のモル比は好ましくは２：１
：１ないし２：３：３、特に２：２．５：１．５である
。
いし２２０℃の温度範囲で本発明の方法が行われるのが
好ましい。マンニッヒ塩基を製造するまでの第一段階は
６０ないし１５０℃、好ましくは１２０ないし１５０℃
の温度範囲で行われ、そして最終生成物を形成するまで
の第二段階は１８０ないし３００℃、好ましくは１８０
ないし２２０℃の温度範囲で行われる。塩基、例えば、
アルカリ金属アルコレートまたはアルカリ金属水酸化物
の存在下に第二段階が行われる必要がある。式（２），
（３）及び（４）の化合物のモル比は好ましくは２：１
：１ないし２：３：３、特に２：２．５：１．５である
。
【００２１】本発明の方法は、式（２）｛Ｒ１ が水素
原子を表わし、Ｒ２ が第三オクチル基を表わす｝で表
わされる化合物を、式（３）｛Ｒ３ 及びＲ４ が同時
にメチル基またはブチル基を表わす｝で表わされる化合
物およびホルムアルデヒドとを反応させ、これらの化合
物をモル比２：２：１ないし２：２．２：１．１で使用
し、そして反応温度が１３０ないし２２０℃の範囲であ
る、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリルフェノ
ール〕の製造に特に適する。
原子を表わし、Ｒ２ が第三オクチル基を表わす｝で表
わされる化合物を、式（３）｛Ｒ３ 及びＲ４ が同時
にメチル基またはブチル基を表わす｝で表わされる化合
物およびホルムアルデヒドとを反応させ、これらの化合
物をモル比２：２：１ないし２：２．２：１．１で使用
し、そして反応温度が１３０ないし２２０℃の範囲であ
る、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリルフェノ
ール〕の製造に特に適する。
【００２２】本発明は以下の実施例により、さらに詳細
に説明され、パーセントは重量による。
に説明され、パーセントは重量による。
【００２３】
【実施例】実施例１：１．５ｂａｒ過圧で試験され、気
体吸入チューブ、受け用フラスコをもつ降下冷却器及び
真空ポンプへの冷却トラップをもつ真空接続チューブを
備え付けた０．７５ｌの二重ジャケットフラスコ（ｄｏ
ｕｂｌｅ−ｊａｃｋｅｔ ｆｌａｓｋ）に、３２３．２
ｇ（１．０モル）の４−（１，１，３，３−テトラメチ
ル）ブチル−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノ
ールおよび１６．５ｇ（０．５５モル）のパラホルムア
ルデヒドを入れる。
体吸入チューブ、受け用フラスコをもつ降下冷却器及び
真空ポンプへの冷却トラップをもつ真空接続チューブを
備え付けた０．７５ｌの二重ジャケットフラスコ（ｄｏ
ｕｂｌｅ−ｊａｃｋｅｔ ｆｌａｓｋ）に、３２３．２
ｇ（１．０モル）の４−（１，１，３，３−テトラメチ
ル）ブチル−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノ
ールおよび１６．５ｇ（０．５５モル）のパラホルムア
ルデヒドを入れる。
【００２４】２０ｍｂａｒにフラスコを排気し、封じた
後、混合物を１２０℃のジャケット温度で溶融し、その
結果、圧力は約２７０ｍｂａｒに上がる。その後、２４
．８ｇ（０．５５モル）の気体状ジメチルアミンを容易
に攪拌できる溶融物に１００〜１０５℃、３０分かけて
混入する。最終圧力は９００〜１０００ｍｂａｒに上が
る。反応混合物を１３５℃に加熱し、この温度で２ない
し４時間、１８００ｍｂａｒに高められた圧力で攪拌す
る。９０℃に冷却後、未反応アミンと一緒に反応水を、
減圧し及び、１３０℃に加熱することにより除去する。 圧力は窒素でゆるめ、次いで２．２ｇ（０．０４モル）
のナトリウムメチレートを触媒として反応塊に添加し、
２００ｍｂａｒの減圧にした後、素早く２００℃に加熱
する。
後、混合物を１２０℃のジャケット温度で溶融し、その
結果、圧力は約２７０ｍｂａｒに上がる。その後、２４
．８ｇ（０．５５モル）の気体状ジメチルアミンを容易
に攪拌できる溶融物に１００〜１０５℃、３０分かけて
混入する。最終圧力は９００〜１０００ｍｂａｒに上が
る。反応混合物を１３５℃に加熱し、この温度で２ない
し４時間、１８００ｍｂａｒに高められた圧力で攪拌す
る。９０℃に冷却後、未反応アミンと一緒に反応水を、
減圧し及び、１３０℃に加熱することにより除去する。 圧力は窒素でゆるめ、次いで２．２ｇ（０．０４モル）
のナトリウムメチレートを触媒として反応塊に添加し、
２００ｍｂａｒの減圧にした後、素早く２００℃に加熱
する。
【００２５】約１４５〜１５５℃からジメチルアミンの
分離が観察される。２００℃及び約２００ｍｂａｒで２
ないし４時間攪拌した後、脱アミン反応は終り、反応が
完了する。２００ｇのキシレン混合物に溶融物を溶解し
た後、アルカリ触媒を３．２ｍｌのギ酸（８５％）で中
和し、溶液を１３０℃でろ過することにより不純物を除
去し、ろ液を７５ｇのキシレン混合物で洗浄する。約０
℃に冷却することにより結晶化する。
分離が観察される。２００℃及び約２００ｍｂａｒで２
ないし４時間攪拌した後、脱アミン反応は終り、反応が
完了する。２００ｇのキシレン混合物に溶融物を溶解し
た後、アルカリ触媒を３．２ｍｌのギ酸（８５％）で中
和し、溶液を１３０℃でろ過することにより不純物を除
去し、ろ液を７５ｇのキシレン混合物で洗浄する。約０
℃に冷却することにより結晶化する。
【００２６】粘性懸濁液を吸引ろ過し、１００ｇのキシ
レン混合物で洗浄し、生成物を１２０℃の真空乾燥オー
ブン中で乾燥する。 収量：黄色粉末の形態で２９４ｇの生成物（消費された
ベンゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論値の８９
．３％）、融点１９７．６℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９６．４％
５００ｎｍで透過：９７．７％。
レン混合物で洗浄し、生成物を１２０℃の真空乾燥オー
ブン中で乾燥する。 収量：黄色粉末の形態で２９４ｇの生成物（消費された
ベンゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論値の８９
．３％）、融点１９７．６℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９６．４％
５００ｎｍで透過：９７．７％。
【００２７】洗浄された液体は、蒸発により完全に濃縮
され、残渣は、未反応ベンゾトリアゾリルフェノールが
量的収量で回収されるように薄いフィルムエバポレータ
で蒸留される。この方法で、未反応ベンゾトリアゾリル
フェノールの４ないし１０％は回収され、次のバッチで
使用される。消費されたベンゾトリアゾリルフェノール
に基づいた収量は、理論値の９０〜９２％である。
され、残渣は、未反応ベンゾトリアゾリルフェノールが
量的収量で回収されるように薄いフィルムエバポレータ
で蒸留される。この方法で、未反応ベンゾトリアゾリル
フェノールの４ないし１０％は回収され、次のバッチで
使用される。消費されたベンゾトリアゾリルフェノール
に基づいた収量は、理論値の９０〜９２％である。
【００２８】実施例２：固定攪拌器、還流コンデンサー
、窒素吸入チューブ及び油浴を備え付けた０．７５ｌの
スルホン化フラスコに、３２３．２ｇ（１．０モル）の
４−（１，１，３，３−テトラメチル）ブチル−６−ベ
ンゾトリアゾール−２−イルフェノールおよび１６．５
ｇ（０．５５モル）のパラホルムアルデヒドを１４２．
２ｇ（１．１モル）のジブチルアミンと一緒に入れる。
、窒素吸入チューブ及び油浴を備え付けた０．７５ｌの
スルホン化フラスコに、３２３．２ｇ（１．０モル）の
４−（１，１，３，３−テトラメチル）ブチル−６−ベ
ンゾトリアゾール−２−イルフェノールおよび１６．５
ｇ（０．５５モル）のパラホルムアルデヒドを１４２．
２ｇ（１．１モル）のジブチルアミンと一緒に入れる。
【００２９】懸濁液を約１００℃に加熱し、１００〜１
０２℃で６時間攪拌する。過剰のジブチルアミン及び反
応水は５ｍｂａｒ及び１２０℃での蒸留により除去され
る。引続き、析出は、５ｍｂａｒの圧力下および反応時
間がたった１ないし２時間であること以外は、実施例１
に記載されたように行われる。 収量：黄色粉末の形態で２７７〜２９０ｇの生成物（消
費されたベンゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論
値の８４〜８８％）、融点１９７℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９７．０％
５００ｎｍで透過：９８．８％。 母液は実施例１のように調製される。収量は理論値の８
８〜９２％まで高まる。
０２℃で６時間攪拌する。過剰のジブチルアミン及び反
応水は５ｍｂａｒ及び１２０℃での蒸留により除去され
る。引続き、析出は、５ｍｂａｒの圧力下および反応時
間がたった１ないし２時間であること以外は、実施例１
に記載されたように行われる。 収量：黄色粉末の形態で２７７〜２９０ｇの生成物（消
費されたベンゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論
値の８４〜８８％）、融点１９７℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９７．０％
５００ｎｍで透過：９８．８％。 母液は実施例１のように調製される。収量は理論値の８
８〜９２％まで高まる。
【００３０】実施例３：実施例１の０．７５ｌの二重ジ
ャケット圧力反応器に、３２３．２ｇ（１．０モル）の
４−（１，１，３，３−テトラメチル）ブチル−６−ベ
ンゾトリアゾール−２−イルフェノール、１５．６ｇ（
０．５２モル）のパラホルムアルデヒドおよび１３４．
４ｇ（１．０４モル）のジブチルアミンを入れる。
ャケット圧力反応器に、３２３．２ｇ（１．０モル）の
４−（１，１，３，３−テトラメチル）ブチル−６−ベ
ンゾトリアゾール−２−イルフェノール、１５．６ｇ（
０．５２モル）のパラホルムアルデヒドおよび１３４．
４ｇ（１．０４モル）のジブチルアミンを入れる。
【００３１】反応器を１００ｎｂａｒで排気し、封じる
。懸濁液を１３５℃に加熱し、この温度で１時間、約１
．７ｂａｒに高められた圧力で攪拌する。他の段階は、
触媒量が０．５４ｇまたは１モル％に相当する０．０１
モルに減少されること以外、実施例１で記載された一般
手順に従って行われる。
。懸濁液を１３５℃に加熱し、この温度で１時間、約１
．７ｂａｒに高められた圧力で攪拌する。他の段階は、
触媒量が０．５４ｇまたは１モル％に相当する０．０１
モルに減少されること以外、実施例１で記載された一般
手順に従って行われる。
【００３２】収量：黄色粉末の形態で２７７〜２９０ｇ
の生成物（使用されたベンゾトリアゾリルフェノールに
基づいて理論値の８４〜８８％、または消費されたベン
ゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論値の８８〜９
２％）、融点１９７．５℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９７．９％
５００ｎｍで透過：９９．４％。
の生成物（使用されたベンゾトリアゾリルフェノールに
基づいて理論値の８４〜８８％、または消費されたベン
ゾトリアゾリルフェノールに基づいて理論値の８８〜９
２％）、融点１９７．５℃、 ４５０ｎｍで透過（クロロホルム中５％）：９７．９％
５００ｎｍで透過：９９．４％。
【化４】
【化４】
Claims (8)
- 【請求項１】 次式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１ は水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基またはアルコキシ基、フェニル基、アルキル
基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフェニルアルキ
ル基、またはハロゲン原子を表わし、Ｒ２ は炭素原子
数１ないし１２のアルキル基、ＣＯ２ Ｈ基により置換
された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル
基、アルキル基部分に１ないし４個の炭素原子を含むフ
ェニルアルキル基、または炭素原子数５ないし８のシク
ロアルキル基を表わす）で表わされる対称的な２，２’
−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノールの製
造方法において、次式（２） 【化２】 （式中、Ｒ１ 及びＲ２ は与えられた意味を表わす）
で表わされる化合物を次式（３） 【化３】 （式中、Ｒ３ 及びＲ４ はそれぞれ独立して他の炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる
化合物及び、次式（４）ＣＨ２ Ｏで表わされる化合物
、またはそのポリマーと反応させて、相当するマンニッ
ヒ塩基を得て、そして該マンニッヒ塩基を塩基で処理す
ることからなり、両反応は中間体を分離することなく、
同じ反応容器中で連続的に行われる方法。 - 【請求項２】 Ｒ１ が水素原子、炭素原子数１ない
し４のアルキル基またはハロゲン原子を表わし、Ｒ２
が炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わす請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 Ｒ１ が水素原子を表わし、Ｒ２ が
炭素原子数６ないし１２のアルキル基を表わす請求項２
記載の方法。 - 【請求項４】 Ｒ２ が第三オクチル基を表わす請求
項３記載の方法。 - 【請求項５】 Ｒ３ 及びＲ４ がメチル基またはブ
チル基を表わす請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 反応が６０ないし３００℃、好ましく
は１３０ないし２２０℃の温度範囲で行われる請求項１
記載の方法。 - 【請求項７】 式（２），（３）及び（４）の化合物
がモル比２：１：１ないし２：３：３、好ましくは２：
２．５：１：５で反応する請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 式（２）｛Ｒ１ が水素原子を表わし
、Ｒ２ が４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル
）を表わす｝で表わされる化合物を、式（３）｛Ｒ３
及びＲ４ がメチル基またはブチル基を表わす｝で表わ
される化合物およびホルムアルデヒドと、モル比２：１
：１ないし２：２．２：１．１及び１３０ないし２２０
℃の温度範囲で反応させることにより、請求項１記載の
２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリルフェノール
〕を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH3903/90-9 | 1990-12-11 | ||
| CH390390 | 1990-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04290877A true JPH04290877A (ja) | 1992-10-15 |
| JP3223377B2 JP3223377B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=4265987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34992991A Expired - Lifetime JP3223377B2 (ja) | 1990-12-11 | 1991-12-10 | 対称的な２，２’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0490815B1 (ja) |
| JP (1) | JP3223377B2 (ja) |
| CA (1) | CA2057109C (ja) |
| DE (1) | DE59103040D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009063392A2 (en) | 2007-11-12 | 2009-05-22 | Basf Se | Ultraviolet absorber water-dispersed composition |
| JP2011037774A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Toei Corp | メチレンビスベンゾトリアゾリル（ヒドロキシアルキル）フェノール化合物の製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0735033T3 (da) * | 1995-03-28 | 2000-10-23 | Hoffmann La Roche | Aminomethylering af tocopheroler |
| JP4162274B2 (ja) * | 1996-07-31 | 2008-10-08 | 城北化学工業株式会社 | ビス（２−ヒドロキシフェニル−３−ベンゾトリアゾール）メタン類の製造方法 |
| JP4155606B2 (ja) * | 1996-12-12 | 2008-09-24 | 城北化学工業株式会社 | ベンゾトリアゾリル−アルキレンビスフェノール化合物、その製造方法およびそれを含有する安定化有機材料 |
| JP2963945B2 (ja) * | 1997-05-08 | 1999-10-18 | 大塚化学株式会社 | ２，２’−ビス（６−ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61115073A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Adeka Argus Chem Co Ltd | ２，２’−メチレンビス（４−置換−６−ベンゾトリアゾリルフェノ−ル）の製造方法 |
-
1991
- 1991-12-03 DE DE59103040T patent/DE59103040D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-03 EP EP19910810939 patent/EP0490815B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-09 CA CA 2057109 patent/CA2057109C/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-10 JP JP34992991A patent/JP3223377B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009063392A2 (en) | 2007-11-12 | 2009-05-22 | Basf Se | Ultraviolet absorber water-dispersed composition |
| JP2011037774A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Toei Corp | メチレンビスベンゾトリアゾリル（ヒドロキシアルキル）フェノール化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2057109C (en) | 2002-05-21 |
| CA2057109A1 (en) | 1992-06-12 |
| JP3223377B2 (ja) | 2001-10-29 |
| EP0490815B1 (de) | 1994-09-21 |
| DE59103040D1 (de) | 1994-10-27 |
| EP0490815A1 (de) | 1992-06-17 |
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