JPH042942B2 - - Google Patents
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- JPH042942B2 JPH042942B2 JP60083214A JP8321485A JPH042942B2 JP H042942 B2 JPH042942 B2 JP H042942B2 JP 60083214 A JP60083214 A JP 60083214A JP 8321485 A JP8321485 A JP 8321485A JP H042942 B2 JPH042942 B2 JP H042942B2
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- photosensitive layer
- silicone rubber
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水なし平版印刷版に関するものであ
り、特に微小網点再現性に優れた水なし平版印刷
版に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a waterless lithographic printing plate, and particularly to a waterless lithographic printing plate with excellent fine halftone dot reproducibility.
水なし平版印刷版の感光性化合物として、0−
ナフトキノンジアジドスルホン酸とフエノールノ
ボラツク樹脂のエステル化合物が感光特性、保存
安定性の点で優れており、過去にいくつか提案さ
れている。
As a photosensitive compound for waterless planographic printing plates, 0-
Ester compounds of naphthoquinonediazide sulfonic acid and phenol novolak resin have excellent photosensitivity and storage stability, and several have been proposed in the past.
例えば、特開昭55−59466号公報には、アルミ
板に裏打ちされた、キノンジアジド化合物からな
る光可溶化型感光層の上に接着層を介してシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が開示され
ている。また、特開昭56−80046号公報には、ナ
フトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
クロリドとフエノールノボラツク樹脂の部分エス
テル化物を多官能イソシアネートで架橋した光剥
離性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた水な
し平版印刷版が開示されている。 For example, JP-A No. 55-59466 discloses a waterless lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided via an adhesive layer on a photo-solubilizable photosensitive layer made of a quinonediazide compound, which is lined with an aluminum plate. Disclosed. In addition, JP-A-56-80046 discloses that a partially esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride and a phenol novolac resin is crosslinked with a polyfunctional isocyanate on a photoreleasable photosensitive layer. A waterless lithographic printing plate provided with a silicone rubber layer is disclosed.
これらの従来技術による水なし平版印刷版は、
以下の問題がある。
These conventional waterless planographic printing plates are
There are the following problems.
(1) 光可溶化型感光層の上に、シリコーンゴム層
を設けた水なし平版印刷版の場合、画線部は感
光層ごと除去して基板を露出させた平凹版であ
る。従つて、セルの深度は、シリコーンゴム層
と感光層の膜厚を合計したものになり、セルの
深度が深い場合は、微小網点部のインキが着肉
しにくく、いわゆる素抜け現像がおこる。その
ため、シリコーンゴム層および感光層の膜厚を
薄くすることが試みられたが、シリコーンゴム
層の膜厚を薄くしすぎると、耐刷性およびイン
キ反発性が低下する。一方、感光層の膜厚を薄
くしすぎると、基板からのハレーシヨン等の影
響により、微小な網点が再現されにくくなる。(1) In the case of a waterless planographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided on a photo-solubilizable photosensitive layer, the image area is a planar intaglio plate in which the entire photosensitive layer is removed to expose the substrate. Therefore, the cell depth is the sum of the film thicknesses of the silicone rubber layer and the photosensitive layer, and if the cell depth is deep, it is difficult for ink to adhere to the minute halftone dots, resulting in so-called clear development. . For this reason, attempts have been made to reduce the thickness of the silicone rubber layer and the photosensitive layer, but if the thickness of the silicone rubber layer is made too thin, printing durability and ink repellency deteriorate. On the other hand, if the thickness of the photosensitive layer is made too thin, minute halftone dots will be difficult to reproduce due to effects such as halation from the substrate.
(2) 光剥離性感光層の上に、シリコーンゴム層を
設けた水なし平版印刷版の場合は、シリコーン
ゴム層のみが除去されて感光層が画線部となる
ため、セルの深度は実質的に、シリコーンゴム
層の膜厚ぶんだけになり、いわゆる素抜け現象
に対しては、非常に有利である。ところが、こ
ように多官能イソシアネートなどで架橋した光
剥離性感光層を用いた場合、印刷時の衝撃力を
感光層が緩和しきれず、印刷時にひび割れ、ク
ラツクなどが感光層に入り、そのひび割れ、ク
ラツクなどにそつてシリコーンゴム層が破壊さ
れ、耐刷性低下の原因となる。そのため、感光
層の膜厚を薄くすることが試みられたが、印刷
時のひび割れ、クラツクの生成にとつては効果
が認められても、基板からのハレーシヨン等に
よつて微小な網点が再現されにくくなる。(2) In the case of a waterless lithographic printing plate with a silicone rubber layer provided on the photoreleasable photosensitive layer, only the silicone rubber layer is removed and the photosensitive layer becomes the image area, so the cell depth is virtually unchanged. In other words, it is only as thick as the silicone rubber layer, and is very advantageous against so-called see-through phenomena. However, when such a photoreleasable photosensitive layer crosslinked with polyfunctional isocyanate or the like is used, the photosensitive layer cannot fully absorb the impact force during printing, and cracks and cracks enter the photosensitive layer during printing. The silicone rubber layer is destroyed by cracks, etc., causing a decrease in printing durability. Therefore, attempts were made to reduce the thickness of the photosensitive layer, but although it was found to be effective in reducing cracks and cracks during printing, minute halftone dots were reproduced due to halation from the substrate, etc. become less likely to be
本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を解
消し、感光層を薄くしても、微小網点再現性の
良好な粋なし平版印刷版を提供することにあ
る。 An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a pure lithographic printing plate with good fine halftone dot reproducibility even when the photosensitive layer is made thin.
本発明は、支持体、キノンジアジド化合物を含
有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版において、該感光
層にサルチル酸エステル系、ベンゾフエノン系お
よびベンゾトリアゾール系の光吸収剤の群から選
ばれる少くとも1種が含まれていることを特徴と
する水なし平版印刷版に関するものである。
The present invention provides a waterless lithographic printing plate comprising a support, a photosensitive layer containing a quinonediazide compound, and a silicone rubber layer, which are laminated in this order. The present invention relates to a waterless lithographic printing plate characterized by containing at least one selected from the group of agents.
本発明の感光層に用いられるキノンジアジド化
合物は、例えば通常ポジ型PS版、ワイポン版、
フオトレジストなどに用いられているキノンジア
類をさす。具体的な化合物としては、例えばベン
ゾキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−また
は−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−または−5−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また、
特開昭56−80046号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化物で架橋せしめた光
剥離性感光層が挙げられる。 The quinonediazide compound used in the photosensitive layer of the present invention is, for example, a normal positive PS plate, a Wipon plate,
Refers to quinonedias used in photoresists, etc. Specific compounds include, for example, benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-
Esters of sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, esters of naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetone resin, naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfone Esters of acids and phenol formaldehyde novolac resins or oak-modified novolac resins may be mentioned. Also,
Examples include a photoreleasable photosensitive layer in which quinone diazides are crosslinked with a polyfunctional compound, as proposed in JP-A-56-80046.
本発明におけるキノンジアジド化合物として、
特に好ましいものは、ナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸とフエノールホルムアル
デヒドノボラツク樹脂の部分エステル化物であ
る。また、感光層中には、塗膜形成性の向上や接
着性向上などの目的で、他のポリマや可塑剤など
の成分を加えたりすることも可能である。 As the quinonediazide compound in the present invention,
Particularly preferred is a partially esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin. It is also possible to add other components such as polymers and plasticizers to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film forming properties and adhesion.
感光層中に添加すべき光吸収剤としては、紫
外・可視吸収スペクトルにおいて、300nmから
450nmの間に、吸収極大を有し、極大値の分子
吸光係数が100から50000・mol-1、好ましく
は、200から4000・mol-1の範囲に入るものが
好ましい。具体的には、サルチル酸エステル系の
光吸収剤、例えば、フエニルサリシレート、p−
tert−ブチルフエニルサリシレート、p−オクチ
ルフエニルサリシレートなど、ベンゾフエノン系
の光吸収剤、例えば、2,4−ジ−ヒドロキシベ
ンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキシ
ベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフエノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフエノン、2,2′−ジヒドロキサシ
−4,4′−ジメトキシベンゾフエノン、4,4′−
ジメチルアミノベンゾフエノン、4,4′−ジエチ
ルマミノベンゾフエノンなど、ベンゾトリアゾー
ル系の光吸収剤、例えば、2(2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール、2
(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tort−ブチルフエ
ニル)ベンゾトリアゾールなど光吸収剤が挙げら
れる。これらの光吸収剤のうち、感光層との相溶
性の点でベンゾフエノン系の光吸収剤が特に好ま
しく用いられる。 The light absorbent to be added to the photosensitive layer should be from 300 nm in the ultraviolet/visible absorption spectrum.
It is preferable to have an absorption maximum between 450 nm and a maximum molecular extinction coefficient in the range of 100 to 50000·mol −1 , preferably 200 to 4000·mol −1 . Specifically, salicylic acid ester-based light absorbers, such as phenyl salicylate, p-
Benzophenone-based light absorbers such as tert-butylphenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate, such as 2,4-di-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-acetoxybenzophenone, 2-hydroxy- 4-Methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-
benzotriazole-based light absorbers such as dimethylaminobenzophenone and 4,4'-diethylmaminobenzophenone; for example, 2(2'-hydroxy-
5′-methylphenyl)benzotriazole, 2
Examples include light absorbers such as (2'-hydroxy-3',5'-di-tort-butylphenyl)benzotriazole. Among these light absorbers, benzophenone light absorbers are particularly preferably used in terms of compatibility with the photosensitive layer.
特に好ましくは、下記の一般式で示されるアミ
ノベンゾフエノン
(式中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ水素または
炭素数が4以下のアルキル基である)が挙げられ
る。 Particularly preferably, an aminobenzophenone represented by the following general formula (wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each hydrogen or an alkyl group having 4 or less carbon atoms).
これらの光吸収剤は、単独あるいは二種以上を
併用して用いることが可能であるが、感光層中へ
の添加量としては、通常1重量%から20重量%の
範囲が好ましい。1重量%未満の場合は、本発明
の効果が発現しないし、また20重量%を超える
と、感光層との相溶性が悪くなり、光吸収性剤が
析出してくる可能性が大きい。 These light absorbers can be used alone or in combination of two or more, but the amount added to the photosensitive layer is usually preferably in the range of 1% by weight to 20% by weight. If it is less than 1% by weight, the effects of the present invention will not be exhibited, and if it exceeds 20% by weight, the compatibility with the photosensitive layer will be poor, and there is a high possibility that the light-absorbing agent will precipitate.
上記の感光層を形成するための組成物は適当な
有機溶剤(例えば、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、セロソルブ、セロソルブアセテートなど)
に溶解させることによつて調製される。 The composition for forming the above-mentioned photosensitive layer is a suitable organic solvent (for example, dioxane, tetrahydrofuran, cellosolve, cellosolve acetate, etc.).
It is prepared by dissolving it in
感光層の厚さは、前述したように薄い方が好ま
しいが、あまり薄すぎるとピンホールを生じ易く
なり、通常0.1〜20μ、より好ましくは、0.1〜5μ
が選ばれる。 As mentioned above, the thickness of the photosensitive layer is preferably thin, but if it is too thin, pinholes are likely to occur, so the thickness is usually 0.1 to 20μ, more preferably 0.1 to 5μ.
is selected.
本発明で用いられるシリコーンゴム層は、通常
次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするも
のである。 The silicone rubber layer used in the present invention usually has as a main component a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and having the following repeating units.
ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンをまば
らに架橋してシリコーンゴムとするものである。
架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型の
シリコーンゴムに使われているアセトキシシラ
ン、ケトオキシムイラン、アルコキシシラン、ア
ミノシラン、アミドシランなどであり、通常線状
有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるも
のと組み合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド型の
シリコーンゴムとなる。これらのシリコーンゴム
には、更に触媒として少量の有機スズ化合物等が
添加されるのが一般的である。 Here, n is an integer of 2 or more, R is an alkyl group, alkenyl group, or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and preferably 60% or more of R is a methyl group. Such a linear organic polysiloxane is sparsely crosslinked to form a silicone rubber.
Examples of crosslinking agents include acetoxysilane, ketoximylan, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, etc., which are used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber, and are usually linear organic polysiloxanes with hydroxyl groups at the ends. In combination, these silicone rubbers become deacetic acid type, oxime type, alcohol deal type, deamine type, and deamid type silicone rubber, respectively. Generally, a small amount of an organic tin compound or the like is further added as a catalyst to these silicone rubbers.
シリコーンゴム層の厚さは約0.5〜100μ、約0.5
〜30μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷性およ
びインキ反発性の点で問題を生じることがあり、
一方厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりで
なく、現在時にシリコーンゴム層を除去しにくく
なり、画像再現性の低下をもたらすおそれもあ
る。 The thickness of the silicone rubber layer is about 0.5-100μ, about 0.5
~30μ is appropriate; if it is too thin, problems may occur in terms of printing durability and ink repulsion.
On the other hand, if it is too thick, it is not only economically disadvantageous, but also makes it difficult to remove the silicone rubber layer, which may lead to a decrease in image reproducibility.
本発明の水なし平版印刷原板において、感光層
とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷性などの基本的な版性能にとつて重要であるの
で、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、
各層に接着性成分を添加したりすることがおこな
われる。特に、感光層とシリコーンゴム層間の接
着のために、層間に公知のシリコーンプライマや
シランカツプリング剤またはチタネート系カツプ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるい
は感光層にシリコーンプライマやシランカツプリ
ング剤あるいはチタネート系カツプリング剤を添
加すること効果的である。 In the waterless lithographic printing original plate of the present invention, adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability. Provide an adhesive layer,
Adhesive components may be added to each layer. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a known silicone primer, silane coupling agent, or titanate coupling agent layer may be provided between the layers, or a silicone primer, silane coupling agent, or titanate coupling agent layer may be provided between the silicone rubber layer or the photosensitive layer. It is effective to add a titanate coupling agent.
本発明に使用される支持体は、通常の平版印刷
機にセツトできるたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えうるものであればよい。代表的なものとし
ては、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属
板、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン等のようなプラスチツクフイ
ルムないしはシート、クロロプレンゴム、NBR
のようなゴム弾性を有する支持体、かかるゴム弾
性を有する支持体と、プラスチツクフイルムない
しは金属板との複合基板、もしくはコート紙等が
挙げられる。これらの支持体上にはハレーシヨン
防止その他の目的でさらに他の物質をコーテイン
グして支持体として溶いることも可能である。 The support used in the present invention may be one that is flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and that can withstand the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, zinc, and steel, plastic films or sheets such as polyethylene terephthalate, polystyrene, and polypropylene, chloroprene rubber, and NBR.
Examples include a support having rubber elasticity such as, a composite substrate of such a support having rubber elasticity and a plastic film or a metal plate, coated paper, and the like. It is also possible to coat these supports with other substances for antihalation and other purposes and dissolve them as a support.
以上説明したようにして構成された水ないし平
版印刷原板の表面を形成するシリコーンゴム層を
保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面
にプレーンまたは凹凸処理した薄い保護フイルム
をラミネートすることもできる。 In order to protect the silicone rubber layer forming the surface of the water or lithographic printing original plate constructed as described above, a thin protective film that is plain or textured can be laminated on the surface of the silicone rubber layer. .
以下実施例によつて本発明をさらに詳しく説明
する。
The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.
実施例 1
化成処理アルミ板(住友軽金属製)に、住友デ
ユレズ(株)製フエノールホルムアルデヒドレゾール
樹脂を1ミクロンの厚みに塗し、200℃で3分間
硬化させ基板とした。Example 1 A chemically treated aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) was coated with phenol formaldehyde resol resin manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd. to a thickness of 1 micron, and cured at 200° C. for 3 minutes to obtain a substrate.
この上に、下記の組成を有する感光液を塗布
し、100℃、3分間乾燥させて、1.5μの感光層を
設けた。 A photosensitive liquid having the composition shown below was applied thereon and dried at 100°C for 3 minutes to form a 1.5μ photosensitive layer.
(1) フエノールノボラツク樹脂(住友デユレズ
製:スミライトレジンPR50622)のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエス
テル(エステル化度40%) 100重量部
(2) 4,4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
5重量部
(3) ジオキサン 525重量部
この感光層の上に、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン(UCC社製:A1100)の0.2重量%
のn−ヘキサン溶液をホエラで回転塗布後、110
℃、1分間乾燥した。更に、この上に次の組成を
持つシリコーンゴム組成物を塗布し、120℃、4
分間加熱硬化させて、2.0μのシリコーンゴム層を
設けた。(1) Ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid (degree of esterification 40%) of phenol novolac resin (Sumitomo Durez: Sumilight Resin PR50622) 100 parts by weight (2) 4,4'- Diethylaminobenzophenone
5 parts by weight (3) Dioxane 525 parts by weight 0.2% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by UCC: A1100) on this photosensitive layer
After spin-coating the n-hexane solution of 110
℃ for 1 minute. Furthermore, a silicone rubber composition having the following composition was applied on top of this, and heated at 120℃ for 4 hours.
A 2.0μ silicone rubber layer was provided by heating and curing for a minute.
(1) ポリジメチルポリシロキサン(分子量約
25000未満OH基) 100重量部
(2) エチルトリアセトキシシラン 8重量部
(3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部
(4) 炭化水素系溶媒“アイソパー”E(エクソン
化学製) 540重量部
得られたシリコーンゴム層上に、厚さ10ミクロ
ンのポリプロピレンフイルム(東レ(株)製“トレフ
アン”)をラミネートし、印刷原板とした。(1) Polydimethylpolysiloxane (molecular weight approx.
Less than 25,000 OH groups) 100 parts by weight (2) Ethyltriacetoxysilane 8 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (4) Hydrocarbon solvent "Isopar" E (manufactured by Exxon Chemical) 540 parts by weight Obtained A 10 micron thick polypropylene film ("Torefan" manufactured by Toray Industries, Inc.) was laminated on the silicone rubber layer to form a printing base plate.
この印刷原板に真空密着した150線/インチの
網点画像を持つネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ(岩崎電気(株)製アイドルフイン2000)
を用い、1mの距離から60秒照射した。版面をエ
タノール/“アイソパー”E(20/80重量比)に
浸漬し、現像パツドで軽くこすると、露光部分は
感光層ごと除去されて、基板が露出する。一方、
未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存してお
り、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得られ
た。 A metal halide lamp (Idolfin 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) is passed through a negative film with a halftone image of 150 lines/inch that is vacuum-adhered to this printing original plate.
It was irradiated for 60 seconds from a distance of 1 m. When the plate surface is immersed in ethanol/"Isopar" E (20/80 weight ratio) and rubbed lightly with a developer pad, the exposed areas are removed along with the photosensitive layer, exposing the substrate. on the other hand,
The silicone rubber layer remained firmly in the unexposed areas, and an image that faithfully reproduced the negative film was obtained.
この印刷版をオフセツト印刷機(小森スプリン
ト2色機)に取り付け、東洋インキ製“アクワレ
ス”ST監を用いて、湿し水を用しないで印刷し
たところ、150線/インチの網点3%〜95%が再
現した極めて良好な画像を持つ印刷物が得られ
た。 This printing plate was attached to an offset printing machine (Komori Sprint 2-color machine) and printed using Toyo Ink's "Aquares" ST monitor without using dampening water. Prints with extremely good images with 95% reproduction were obtained.
比較例 1、2
実施例1において、感光層がフエノールノボラ
ツク樹脂(住友デユレズ製:スミライトレジン
PR50622)のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸のエステル(エステル化度40%)
からなることおよび感光層の膜厚を1.5μ(比較例
1)と3.0(比較例2)とした以外は、実施例1と
同様にして印刷原板を作製した。Comparative Examples 1 and 2 In Example 1, the photosensitive layer was made of phenol novolak resin (manufactured by Sumitomo Durez: Sumilite Resin).
PR50622) naphthoquinone-1,2-diazide
Ester of 5-sulfonic acid (degree of esterification 40%)
Printing original plates were produced in the same manner as in Example 1, except that the film thickness of the photosensitive layer was 1.5 μm (Comparative Example 1) and 3.0 μm (Comparative Example 2).
これらの印刷原板を用いて、実施例1と同様に
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
(小森スプリント2色機)に取り付け印刷した。 These printing original plates were exposed and developed in the same manner as in Example 1, and printed on an offset printing machine (Komori Sprint two-color machine).
感光層の膜厚が1.5μの比較例1では、網点の再
現性が3%〜90%であり、シヤドウ部の再現性が
不良であつた。一方、感光層の膜厚が3.0μの比較
例2では、3%〜95%まで再現したいたが、印刷
物をよく見ると、ハライト部の網点の一部が素抜
けていた。 In Comparative Example 1 in which the photosensitive layer had a thickness of 1.5 μm, the reproducibility of halftone dots was 3% to 90%, and the reproducibility of shadow areas was poor. On the other hand, in Comparative Example 2 in which the photosensitive layer had a film thickness of 3.0 μm, the reproduction was from 3% to 95%, but when the printed matter was looked closely, some of the halftone dots in the halite area were missing.
実施例 2
厚み0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱
処理して5.0μのプライマ層を設けた。Example 2 The following primer composition was applied to an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) with a thickness of 0.3 mm, and heat treated at 200° C. for 2 minutes to form a 5.0 μm thick primer layer.
(1) ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−T1331、
三洋化成工業(株)製) 100重量部
(2) ブロツクイソシアネート(タケネートB830、
他瀬打薬品(株)製) 20重量部
(3) エポキシ・フエノール・尿素樹脂(SJ9372、
関西ペイント(株)製) 8重量部
(4) ジメチルホルムアミド 725重量部
続いて、この上に下記の感光性組成物をバーコ
ータを用いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾
燥して、厚さ1.5μの感光層を設けた。(1) Polyurethane resin (Samplen LQ-T1331,
Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 100 parts by weight (2) Blocked isocyanate (Takenate B830,
(manufactured by Taseuchi Yakuhin Co., Ltd.) 20 parts by weight (3) Epoxy/phenol/urea resin (SJ9372,
(manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) 8 parts by weight (4) Dimethylformamide 725 parts by weight Subsequently, the following photosensitive composition was applied thereon using a bar coater, dried for 1 minute in hot air at 110°C, A photosensitive layer with a thickness of 1.5 μm was provided.
(1) ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂(スミライトレジンPR50622、住友デユ
レズ製)の部分エステル(エステル化度40%)
100重量部
(2) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
40重量部
(3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部
(4) 4,4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
5重量部
(5) テトラヒドロフラン 800重量部
ついで、この感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンゴム層をバーコータで塗布後、115℃、
露点30℃中で3分間加熱硬化して、厚さ2.5μのシ
リコーンゴム層を設けた。(1) Partial ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilight Resin PR50622, manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification 40%)
100 parts by weight (2) 4,4'-diphenylmethane diisocyanate
40 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (4) 4,4'-diethylaminobenzophenone
5 parts by weight (5) 800 parts by weight of tetrahydrofuran Next, a silicone rubber layer having the following composition was coated on the photosensitive layer using a bar coater, and heated at 115°C.
A silicone rubber layer with a thickness of 2.5 μm was provided by heating and curing for 3 minutes at a dew point of 30°C.
(1) ポリジメチルシロキサン(分子量約25000、
末端OH基) 100重量部
(2) ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8重量部
(3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部
(4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部
(5) “アイソパー”E 1400重量部
上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
の東レ(株)製ポリプロピレンフイルム“トレフア
ン”をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原板を得た。(1) Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 25,000,
(terminal OH group) 100 parts by weight (2) Vinyltri(methylethylketoxime)silane 8 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.1 part by weight (4) γ-Aminopropyltrimethoxysilane
0.5 parts by weight (5) 1400 parts by weight of “Isopar” E Add a layer of 10μ thick to the laminate obtained above.
A waterless lithographic printing original plate was obtained by laminating polypropylene film "Torefane" manufactured by Toray Industries, Inc. using a calendar roller.
かかる印刷原板にメタルハライドランプ(岩崎
電気(株)製、アイドルフイン2000)を用い、UVメ
ーター(オーク製作所製ライトメジヤータイプ
UV−402A)で11mW/cm2の照度で全面露光を6
秒間施した。 A metal halide lamp (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., Idolfin 2000) was used on the printing original plate, and a UV meter (light measure type, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) was used.
UV-402A) with an illuminance of 11 mW/cm 2 for 6 full-surface exposures.
It was applied for seconds.
上記のようにして得られた印刷原板上に真空密
着した150線/インチの網点画像を持つネガフイ
ルムを通して上記のメタルハライドランプを用
い、1mの距離から60秒画像露光した。次いで上
記“トレフアン”を剥離して、前処理液(“アイ
ソパー”H/ブチルカルビトール/エチルセロソ
ルブ/モノエタノールアミン=90/10/5/0.6
重量比)にひたし、露光ずみの版面を完全にぬら
し、1分間処理する。ゴムスキージで版面上の前
処理液を除去し、次いで版面と現像パツドに現像
液(ブチルカルビトール/水/2−エチル酪酸/
クリスタルバイオレツト(20/80/2/0.2重量
比)を注ぎ、現像パツトで版面を軽くこすると画
像状に露光された部分のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。一方、全面露光さ
れた部分にはシリコーンゴム層が強固に残存とし
ており、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得
られた。 A negative film having a halftone dot image of 150 lines/inch was vacuum-adhered onto the printing original plate obtained as described above, and image exposure was carried out for 60 seconds from a distance of 1 m using the metal halide lamp described above. Next, the above "Trejuan" was peeled off and a pre-treatment liquid ("Isopar" H/butyl carbitol/ethyl cellosolve/monoethanolamine = 90/10/5/0.6
(weight ratio) to completely wet the exposed plate and process for 1 minute. Remove the pre-treatment liquid on the plate surface with a rubber squeegee, then apply developer solution (butyl carbitol/water/2-ethylbutyric acid/
When crystal violet (20/80/2/0.2 weight ratio) was poured and the plate surface was lightly rubbed with a developing pad, the imagewise exposed portions of the silicone rubber layer were removed and the surface of the photosensitive layer was exposed. On the other hand, the silicone rubber layer remained firmly in the exposed area, and an image that faithfully reproduced the negative film was obtained.
この印刷版をオフセツト印刷機(小森スプリン
ト2色機)に取り付け、東洋インキ(株)製“アクワ
レス”ST監を用いて、湿し水を用いないで印刷
したところ150線/インチの網点3%〜95%が現
在した極めて良好な画像をもつ印刷物が得られ
た。5万部刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全
く見られず、さらに印刷を継続できる状態であつ
た。 This printing plate was attached to an offset printing machine (Komori Sprint 2-color machine), and printed using Toyo Ink Co., Ltd.'s "Aquares" ST monitor without using dampening water, resulting in halftone dots of 3 with 150 lines/inch. Prints with very good images of between 95% and 95% were obtained. Even after printing 50,000 copies, no scumming or damage to the plate surface was observed, and printing could continue.
比較例 3、4
実施例2において、感光層が光吸収剤4,4′−
ジエチルアミノベンゾフエノンを含まないこと、
および感光層の膜厚が1.5μ(比較例3)、30μ(比較
例4)とする以外は、実施例2と同様にして、印
刷原板を作製した。Comparative Examples 3 and 4 In Example 2, the photosensitive layer contains the light absorber 4,4'-
Contains no diethylaminobenzophenone;
Printing original plates were produced in the same manner as in Example 2, except that the photosensitive layer thickness was 1.5 μm (Comparative Example 3) and 30 μm (Comparative Example 4).
これらの印刷原板を用いて、実施例2と同様に
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
(小森スプリント2色機)に取り付け印刷した。 These printing original plates were exposed and developed in the same manner as in Example 2, and printed on an offset printing machine (Komori Sprint 2-color machine).
感光層の膜厚が1.5μの比較例2では、網点再現
性が3%〜90%であり、シヤドウ部の再現性が不
良であつた。一方、感光層の膜厚が30μの比較例
3では、3%〜95%まで再現していたが、2万部
刷る時点で感光層のひび割れに添つて、シリコー
ンゴム層に亀裂が入り、地汚れを生じた。 In Comparative Example 2 in which the photosensitive layer had a film thickness of 1.5 μm, the halftone dot reproducibility was 3% to 90%, and the reproducibility of shadow areas was poor. On the other hand, in Comparative Example 3 in which the photosensitive layer had a film thickness of 30μ, the reproduction was from 3% to 95%, but at the time of printing 20,000 copies, cracks appeared in the silicone rubber layer along with the cracks in the photosensitive layer. It caused stains.
本発明になる水なし平版印刷版によれば、次の
ような効果が達成される。
According to the waterless lithographic printing plate of the present invention, the following effects are achieved.
(1) 感光層の膜厚を、従来よりも薄くしても良好
な画像再現性が得られる。(1) Good image reproducibility can be obtained even if the thickness of the photosensitive layer is made thinner than before.
(2) 感光層の膜厚が薄くできるので、微小網点の
素抜けがなくなる。(2) Since the thickness of the photosensitive layer can be made thinner, there will be no omission of minute halftone dots.
(3) 感光層の膜厚が薄くできるので、印刷時の衝
撃によつて生じる感光層のひび割れ、クラツク
が軽減し、耐刷性が向上する。(3) Since the thickness of the photosensitive layer can be reduced, cracks and cracks in the photosensitive layer caused by impact during printing are reduced, and printing durability is improved.
Claims (1)
光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層して
なる水なし平版印刷版において、該感光層にサル
チル酸エステル系、ベンゾフエノン系およびベン
ゾトリアゾール系の光吸収剤の群から選ばれる少
くとも1種が含まれていることを特徴とする水な
し平版印刷版。1. In a waterless lithographic printing plate formed by laminating a support, a photosensitive layer containing a quinonediazide compound, and a silicone rubber layer in this order, the photosensitive layer contains a group of salicylic acid ester-based, benzophenone-based, and benzotriazole-based light absorbers. A waterless lithographic printing plate characterized by containing at least one selected from the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (en) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | Lithographic plate requiring no water |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (en) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | Lithographic plate requiring no water |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61241759A JPS61241759A (en) | 1986-10-28 |
| JPH042942B2 true JPH042942B2 (en) | 1992-01-21 |
Family
ID=13796065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8321485A Granted JPS61241759A (en) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | Lithographic plate requiring no water |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61241759A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3736758A1 (en) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Hoechst Ag | POSITIVELY WORKING LIGHT-SENSITIVE MIXTURE, CONTAINING A DYE, AND POSITIVELY WORKING LIGHT-SENSITIVE RECORDING MATERIAL MADE FROM THEREOF |
| JP3024694B2 (en) * | 1993-11-29 | 2000-03-21 | 東京応化工業株式会社 | Positive photoresist composition |
| JP3192548B2 (en) * | 1994-04-22 | 2001-07-30 | 東京応化工業株式会社 | Positive photoresist composition |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680046A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Toray Ind Inc | Lithographic plate requiring no dampening water and its manufacture |
| JPS59142538A (en) * | 1983-02-04 | 1984-08-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS6011845A (en) * | 1983-07-01 | 1985-01-22 | Toray Ind Inc | Original printing plate requiring no dampening water |
-
1985
- 1985-04-18 JP JP8321485A patent/JPS61241759A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61241759A (en) | 1986-10-28 |
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