JPH042942B2 - - Google Patents
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- JPH042942B2 JPH042942B2 JP60083214A JP8321485A JPH042942B2 JP H042942 B2 JPH042942 B2 JP H042942B2 JP 60083214 A JP60083214 A JP 60083214A JP 8321485 A JP8321485 A JP 8321485A JP H042942 B2 JPH042942 B2 JP H042942B2
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- photosensitive layer
- silicone rubber
- weight
- layer
- printing
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水なし平版印刷版に関するものであ
り、特に微小網点再現性に優れた水なし平版印刷
版に関するものである。
り、特に微小網点再現性に優れた水なし平版印刷
版に関するものである。
水なし平版印刷版の感光性化合物として、０−
ナフトキノンジアジドスルホン酸とフエノールノ
ボラツク樹脂のエステル化合物が感光特性、保存
安定性の点で優れており、過去にいくつか提案さ
れている。
ナフトキノンジアジドスルホン酸とフエノールノ
ボラツク樹脂のエステル化合物が感光特性、保存
安定性の点で優れており、過去にいくつか提案さ
れている。
例えば、特開昭55−59466号公報には、アルミ
板に裏打ちされた、キノンジアジド化合物からな
る光可溶化型感光層の上に接着層を介してシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が開示され
ている。また、特開昭56−80046号公報には、ナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
クロリドとフエノールノボラツク樹脂の部分エス
テル化物を多官能イソシアネートで架橋した光剥
離性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた水な
し平版印刷版が開示されている。
板に裏打ちされた、キノンジアジド化合物からな
る光可溶化型感光層の上に接着層を介してシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が開示され
ている。また、特開昭56−80046号公報には、ナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
クロリドとフエノールノボラツク樹脂の部分エス
テル化物を多官能イソシアネートで架橋した光剥
離性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた水な
し平版印刷版が開示されている。
これらの従来技術による水なし平版印刷版は、
以下の問題がある。
以下の問題がある。
(1) 光可溶化型感光層の上に、シリコーンゴム層
を設けた水なし平版印刷版の場合、画線部は感
光層ごと除去して基板を露出させた平凹版であ
る。従つて、セルの深度は、シリコーンゴム層
と感光層の膜厚を合計したものになり、セルの
深度が深い場合は、微小網点部のインキが着肉
しにくく、いわゆる素抜け現像がおこる。その
ため、シリコーンゴム層および感光層の膜厚を
薄くすることが試みられたが、シリコーンゴム
層の膜厚を薄くしすぎると、耐刷性およびイン
キ反発性が低下する。一方、感光層の膜厚を薄
くしすぎると、基板からのハレーシヨン等の影
響により、微小な網点が再現されにくくなる。
を設けた水なし平版印刷版の場合、画線部は感
光層ごと除去して基板を露出させた平凹版であ
る。従つて、セルの深度は、シリコーンゴム層
と感光層の膜厚を合計したものになり、セルの
深度が深い場合は、微小網点部のインキが着肉
しにくく、いわゆる素抜け現像がおこる。その
ため、シリコーンゴム層および感光層の膜厚を
薄くすることが試みられたが、シリコーンゴム
層の膜厚を薄くしすぎると、耐刷性およびイン
キ反発性が低下する。一方、感光層の膜厚を薄
くしすぎると、基板からのハレーシヨン等の影
響により、微小な網点が再現されにくくなる。
(2) 光剥離性感光層の上に、シリコーンゴム層を
設けた水なし平版印刷版の場合は、シリコーン
ゴム層のみが除去されて感光層が画線部となる
ため、セルの深度は実質的に、シリコーンゴム
層の膜厚ぶんだけになり、いわゆる素抜け現象
に対しては、非常に有利である。ところが、こ
ように多官能イソシアネートなどで架橋した光
剥離性感光層を用いた場合、印刷時の衝撃力を
感光層が緩和しきれず、印刷時にひび割れ、ク
ラツクなどが感光層に入り、そのひび割れ、ク
ラツクなどにそつてシリコーンゴム層が破壊さ
れ、耐刷性低下の原因となる。そのため、感光
層の膜厚を薄くすることが試みられたが、印刷
時のひび割れ、クラツクの生成にとつては効果
が認められても、基板からのハレーシヨン等に
よつて微小な網点が再現されにくくなる。
設けた水なし平版印刷版の場合は、シリコーン
ゴム層のみが除去されて感光層が画線部となる
ため、セルの深度は実質的に、シリコーンゴム
層の膜厚ぶんだけになり、いわゆる素抜け現象
に対しては、非常に有利である。ところが、こ
ように多官能イソシアネートなどで架橋した光
剥離性感光層を用いた場合、印刷時の衝撃力を
感光層が緩和しきれず、印刷時にひび割れ、ク
ラツクなどが感光層に入り、そのひび割れ、ク
ラツクなどにそつてシリコーンゴム層が破壊さ
れ、耐刷性低下の原因となる。そのため、感光
層の膜厚を薄くすることが試みられたが、印刷
時のひび割れ、クラツクの生成にとつては効果
が認められても、基板からのハレーシヨン等に
よつて微小な網点が再現されにくくなる。
本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を解
消し、感光層を薄くしても、微小網点再現性の
良好な粋なし平版印刷版を提供することにあ
る。
消し、感光層を薄くしても、微小網点再現性の
良好な粋なし平版印刷版を提供することにあ
る。
本発明は、支持体、キノンジアジド化合物を含
有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版において、該感光
層にサルチル酸エステル系、ベンゾフエノン系お
よびベンゾトリアゾール系の光吸収剤の群から選
ばれる少くとも１種が含まれていることを特徴と
する水なし平版印刷版に関するものである。
有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版において、該感光
層にサルチル酸エステル系、ベンゾフエノン系お
よびベンゾトリアゾール系の光吸収剤の群から選
ばれる少くとも１種が含まれていることを特徴と
する水なし平版印刷版に関するものである。
本発明の感光層に用いられるキノンジアジド化
合物は、例えば通常ポジ型PS版、ワイポン版、
フオトレジストなどに用いられているキノンジア
類をさす。具体的な化合物としては、例えばベン
ゾキノン−１，２−ジアジド−４−または−５−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−また
は−５−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−または−５−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また、
特開昭56−80046号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化物で架橋せしめた光
剥離性感光層が挙げられる。
合物は、例えば通常ポジ型PS版、ワイポン版、
フオトレジストなどに用いられているキノンジア
類をさす。具体的な化合物としては、例えばベン
ゾキノン−１，２−ジアジド−４−または−５−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−また
は−５−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−または−５−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また、
特開昭56−80046号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化物で架橋せしめた光
剥離性感光層が挙げられる。
本発明におけるキノンジアジド化合物として、
特に好ましいものは、ナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸とフエノールホルムアル
デヒドノボラツク樹脂の部分エステル化物であ
る。また、感光層中には、塗膜形成性の向上や接
着性向上などの目的で、他のポリマや可塑剤など
の成分を加えたりすることも可能である。
特に好ましいものは、ナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸とフエノールホルムアル
デヒドノボラツク樹脂の部分エステル化物であ
る。また、感光層中には、塗膜形成性の向上や接
着性向上などの目的で、他のポリマや可塑剤など
の成分を加えたりすることも可能である。
感光層中に添加すべき光吸収剤としては、紫
外・可視吸収スペクトルにおいて、300nｍから
450nｍの間に、吸収極大を有し、極大値の分子
吸光係数が100から50000・mol-1、好ましく
は、200から4000・mol-1の範囲に入るものが
好ましい。具体的には、サルチル酸エステル系の
光吸収剤、例えば、フエニルサリシレート、ｐ−
tert−ブチルフエニルサリシレート、ｐ−オクチ
ルフエニルサリシレートなど、ベンゾフエノン系
の光吸収剤、例えば、２，４−ジ−ヒドロキシベ
ンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシ
ベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフエノン、２，2′−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン、２，2′−ジヒドロキサシ
−４，4′−ジメトキシベンゾフエノン、４，4′−
ジメチルアミノベンゾフエノン、４，4′−ジエチ
ルマミノベンゾフエノンなど、ベンゾトリアゾー
ル系の光吸収剤、例えば、２（2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、２
（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−tort−ブチルフエ
ニル）ベンゾトリアゾールなど光吸収剤が挙げら
れる。これらの光吸収剤のうち、感光層との相溶
性の点でベンゾフエノン系の光吸収剤が特に好ま
しく用いられる。
外・可視吸収スペクトルにおいて、300nｍから
450nｍの間に、吸収極大を有し、極大値の分子
吸光係数が100から50000・mol-1、好ましく
は、200から4000・mol-1の範囲に入るものが
好ましい。具体的には、サルチル酸エステル系の
光吸収剤、例えば、フエニルサリシレート、ｐ−
tert−ブチルフエニルサリシレート、ｐ−オクチ
ルフエニルサリシレートなど、ベンゾフエノン系
の光吸収剤、例えば、２，４−ジ−ヒドロキシベ
ンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシ
ベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフエノン、２，2′−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン、２，2′−ジヒドロキサシ
−４，4′−ジメトキシベンゾフエノン、４，4′−
ジメチルアミノベンゾフエノン、４，4′−ジエチ
ルマミノベンゾフエノンなど、ベンゾトリアゾー
ル系の光吸収剤、例えば、２（2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、２
（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−tort−ブチルフエ
ニル）ベンゾトリアゾールなど光吸収剤が挙げら
れる。これらの光吸収剤のうち、感光層との相溶
性の点でベンゾフエノン系の光吸収剤が特に好ま
しく用いられる。
特に好ましくは、下記の一般式で示されるアミ
ノベンゾフエノン （式中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ水素または
炭素数が４以下のアルキル基である）が挙げられ
る。
ノベンゾフエノン （式中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ水素または
炭素数が４以下のアルキル基である）が挙げられ
る。
これらの光吸収剤は、単独あるいは二種以上を
併用して用いることが可能であるが、感光層中へ
の添加量としては、通常１重量％から20重量％の
範囲が好ましい。１重量％未満の場合は、本発明
の効果が発現しないし、また20重量％を超える
と、感光層との相溶性が悪くなり、光吸収性剤が
析出してくる可能性が大きい。
併用して用いることが可能であるが、感光層中へ
の添加量としては、通常１重量％から20重量％の
範囲が好ましい。１重量％未満の場合は、本発明
の効果が発現しないし、また20重量％を超える
と、感光層との相溶性が悪くなり、光吸収性剤が
析出してくる可能性が大きい。
上記の感光層を形成するための組成物は適当な
有機溶剤（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、セロソルブ、セロソルブアセテートなど）
に溶解させることによつて調製される。
有機溶剤（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、セロソルブ、セロソルブアセテートなど）
に溶解させることによつて調製される。
感光層の厚さは、前述したように薄い方が好ま
しいが、あまり薄すぎるとピンホールを生じ易く
なり、通常0.1〜20μ、より好ましくは、0.1〜5μ
が選ばれる。
しいが、あまり薄すぎるとピンホールを生じ易く
なり、通常0.1〜20μ、より好ましくは、0.1〜5μ
が選ばれる。
本発明で用いられるシリコーンゴム層は、通常
次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするも
のである。
次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするも
のである。
ここでｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Ｒの60％以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンをまば
らに架橋してシリコーンゴムとするものである。
架橋剤としては、いわゆる室温（低温）硬化型の
シリコーンゴムに使われているアセトキシシラ
ン、ケトオキシムイラン、アルコキシシラン、ア
ミノシラン、アミドシランなどであり、通常線状
有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるも
のと組み合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド型の
シリコーンゴムとなる。これらのシリコーンゴム
には、更に触媒として少量の有機スズ化合物等が
添加されるのが一般的である。
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Ｒの60％以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンをまば
らに架橋してシリコーンゴムとするものである。
架橋剤としては、いわゆる室温（低温）硬化型の
シリコーンゴムに使われているアセトキシシラ
ン、ケトオキシムイラン、アルコキシシラン、ア
ミノシラン、アミドシランなどであり、通常線状
有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるも
のと組み合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド型の
シリコーンゴムとなる。これらのシリコーンゴム
には、更に触媒として少量の有機スズ化合物等が
添加されるのが一般的である。
シリコーンゴム層の厚さは約0.5〜100μ、約0.5
〜30μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷性およ
びインキ反発性の点で問題を生じることがあり、
一方厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりで
なく、現在時にシリコーンゴム層を除去しにくく
なり、画像再現性の低下をもたらすおそれもあ
る。
〜30μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷性およ
びインキ反発性の点で問題を生じることがあり、
一方厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりで
なく、現在時にシリコーンゴム層を除去しにくく
なり、画像再現性の低下をもたらすおそれもあ
る。
本発明の水なし平版印刷原板において、感光層
とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷性などの基本的な版性能にとつて重要であるの
で、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、
各層に接着性成分を添加したりすることがおこな
われる。特に、感光層とシリコーンゴム層間の接
着のために、層間に公知のシリコーンプライマや
シランカツプリング剤またはチタネート系カツプ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるい
は感光層にシリコーンプライマやシランカツプリ
ング剤あるいはチタネート系カツプリング剤を添
加すること効果的である。
とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷性などの基本的な版性能にとつて重要であるの
で、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、
各層に接着性成分を添加したりすることがおこな
われる。特に、感光層とシリコーンゴム層間の接
着のために、層間に公知のシリコーンプライマや
シランカツプリング剤またはチタネート系カツプ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるい
は感光層にシリコーンプライマやシランカツプリ
ング剤あるいはチタネート系カツプリング剤を添
加すること効果的である。
本発明に使用される支持体は、通常の平版印刷
機にセツトできるたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えうるものであればよい。代表的なものとし
ては、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属
板、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン等のようなプラスチツクフイ
ルムないしはシート、クロロプレンゴム、NBR
のようなゴム弾性を有する支持体、かかるゴム弾
性を有する支持体と、プラスチツクフイルムない
しは金属板との複合基板、もしくはコート紙等が
挙げられる。これらの支持体上にはハレーシヨン
防止その他の目的でさらに他の物質をコーテイン
グして支持体として溶いることも可能である。
機にセツトできるたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えうるものであればよい。代表的なものとし
ては、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属
板、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン等のようなプラスチツクフイ
ルムないしはシート、クロロプレンゴム、NBR
のようなゴム弾性を有する支持体、かかるゴム弾
性を有する支持体と、プラスチツクフイルムない
しは金属板との複合基板、もしくはコート紙等が
挙げられる。これらの支持体上にはハレーシヨン
防止その他の目的でさらに他の物質をコーテイン
グして支持体として溶いることも可能である。
以上説明したようにして構成された水ないし平
版印刷原板の表面を形成するシリコーンゴム層を
保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面
にプレーンまたは凹凸処理した薄い保護フイルム
をラミネートすることもできる。
版印刷原板の表面を形成するシリコーンゴム層を
保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面
にプレーンまたは凹凸処理した薄い保護フイルム
をラミネートすることもできる。
以下実施例によつて本発明をさらに詳しく説明
する。
する。
実施例 １
化成処理アルミ板（住友軽金属製）に、住友デ
ユレズ(株)製フエノールホルムアルデヒドレゾール
樹脂を１ミクロンの厚みに塗し、200℃で３分間
硬化させ基板とした。
ユレズ(株)製フエノールホルムアルデヒドレゾール
樹脂を１ミクロンの厚みに塗し、200℃で３分間
硬化させ基板とした。
この上に、下記の組成を有する感光液を塗布
し、100℃、３分間乾燥させて、1.5μの感光層を
設けた。
し、100℃、３分間乾燥させて、1.5μの感光層を
設けた。
(1) フエノールノボラツク樹脂（住友デユレズ
製：スミライトレジンPR50622）のナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸のエス
テル（エステル化度40％） 100重量部 (2) ４，4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
５重量部 (3) ジオキサン 525重量部 この感光層の上に、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン（UCC社製：A1100）の0.2重量％
のｎ−ヘキサン溶液をホエラで回転塗布後、110
℃、１分間乾燥した。更に、この上に次の組成を
持つシリコーンゴム組成物を塗布し、120℃、４
分間加熱硬化させて、2.0μのシリコーンゴム層を
設けた。
製：スミライトレジンPR50622）のナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸のエス
テル（エステル化度40％） 100重量部 (2) ４，4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
５重量部 (3) ジオキサン 525重量部 この感光層の上に、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン（UCC社製：A1100）の0.2重量％
のｎ−ヘキサン溶液をホエラで回転塗布後、110
℃、１分間乾燥した。更に、この上に次の組成を
持つシリコーンゴム組成物を塗布し、120℃、４
分間加熱硬化させて、2.0μのシリコーンゴム層を
設けた。
(1) ポリジメチルポリシロキサン（分子量約
25000未満OH基） 100重量部 (2) エチルトリアセトキシシラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4) 炭化水素系溶媒“アイソパー”Ｅ（エクソン
化学製） 540重量部 得られたシリコーンゴム層上に、厚さ10ミクロ
ンのポリプロピレンフイルム（東レ(株)製“トレフ
アン”）をラミネートし、印刷原板とした。
25000未満OH基） 100重量部 (2) エチルトリアセトキシシラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4) 炭化水素系溶媒“アイソパー”Ｅ（エクソン
化学製） 540重量部 得られたシリコーンゴム層上に、厚さ10ミクロ
ンのポリプロピレンフイルム（東レ(株)製“トレフ
アン”）をラミネートし、印刷原板とした。
この印刷原板に真空密着した150線／インチの
網点画像を持つネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ（岩崎電気(株)製アイドルフイン2000）
を用い、１ｍの距離から60秒照射した。版面をエ
タノール／“アイソパー”Ｅ（20／80重量比）に
浸漬し、現像パツドで軽くこすると、露光部分は
感光層ごと除去されて、基板が露出する。一方、
未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存してお
り、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
網点画像を持つネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ（岩崎電気(株)製アイドルフイン2000）
を用い、１ｍの距離から60秒照射した。版面をエ
タノール／“アイソパー”Ｅ（20／80重量比）に
浸漬し、現像パツドで軽くこすると、露光部分は
感光層ごと除去されて、基板が露出する。一方、
未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存してお
り、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
この印刷版をオフセツト印刷機（小森スプリン
ト２色機）に取り付け、東洋インキ製“アクワレ
ス”ST監を用いて、湿し水を用しないで印刷し
たところ、150線／インチの網点３％〜95％が再
現した極めて良好な画像を持つ印刷物が得られ
た。
ト２色機）に取り付け、東洋インキ製“アクワレ
ス”ST監を用いて、湿し水を用しないで印刷し
たところ、150線／インチの網点３％〜95％が再
現した極めて良好な画像を持つ印刷物が得られ
た。
比較例 １、２
実施例１において、感光層がフエノールノボラ
ツク樹脂（住友デユレズ製：スミライトレジン
PR50622）のナフトキノン−１，２−ジアジド−
５−スルホン酸のエステル（エステル化度40％）
からなることおよび感光層の膜厚を1.5μ（比較例
１）と3.0（比較例２）とした以外は、実施例１と
同様にして印刷原板を作製した。
ツク樹脂（住友デユレズ製：スミライトレジン
PR50622）のナフトキノン−１，２−ジアジド−
５−スルホン酸のエステル（エステル化度40％）
からなることおよび感光層の膜厚を1.5μ（比較例
１）と3.0（比較例２）とした以外は、実施例１と
同様にして印刷原板を作製した。
これらの印刷原板を用いて、実施例１と同様に
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
（小森スプリント２色機）に取り付け印刷した。
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
（小森スプリント２色機）に取り付け印刷した。
感光層の膜厚が1.5μの比較例１では、網点の再
現性が３％〜90％であり、シヤドウ部の再現性が
不良であつた。一方、感光層の膜厚が3.0μの比較
例２では、３％〜95％まで再現したいたが、印刷
物をよく見ると、ハライト部の網点の一部が素抜
けていた。
現性が３％〜90％であり、シヤドウ部の再現性が
不良であつた。一方、感光層の膜厚が3.0μの比較
例２では、３％〜95％まで再現したいたが、印刷
物をよく見ると、ハライト部の網点の一部が素抜
けていた。
実施例 ２
厚み0.3mmのアルミ板（住友軽金属(株)製）に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、２分間熱
処理して5.0μのプライマ層を設けた。
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、２分間熱
処理して5.0μのプライマ層を設けた。
(1) ポリウレタン樹脂（サンプレンLQ−T1331、
三洋化成工業(株)製） 100重量部 (2) ブロツクイソシアネート（タケネートB830、
他瀬打薬品(株)製） 20重量部 (3) エポキシ・フエノール・尿素樹脂（SJ9372、
関西ペイント(株)製） ８重量部 (4) ジメチルホルムアミド 725重量部 続いて、この上に下記の感光性組成物をバーコ
ータを用いて塗布し、110℃の熱風中で１分間乾
燥して、厚さ1.5μの感光層を設けた。
三洋化成工業(株)製） 100重量部 (2) ブロツクイソシアネート（タケネートB830、
他瀬打薬品(株)製） 20重量部 (3) エポキシ・フエノール・尿素樹脂（SJ9372、
関西ペイント(株)製） ８重量部 (4) ジメチルホルムアミド 725重量部 続いて、この上に下記の感光性組成物をバーコ
ータを用いて塗布し、110℃の熱風中で１分間乾
燥して、厚さ1.5μの感光層を設けた。
(1) ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂（スミライトレジンPR50622、住友デユ
レズ製）の部分エステル（エステル化度40％）
100重量部 (2) ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
40重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4) ４，4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
５重量部 (5) テトラヒドロフラン 800重量部 ついで、この感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンゴム層をバーコータで塗布後、115℃、
露点30℃中で３分間加熱硬化して、厚さ2.5μのシ
リコーンゴム層を設けた。
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂（スミライトレジンPR50622、住友デユ
レズ製）の部分エステル（エステル化度40％）
100重量部 (2) ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
40重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4) ４，4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
５重量部 (5) テトラヒドロフラン 800重量部 ついで、この感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンゴム層をバーコータで塗布後、115℃、
露点30℃中で３分間加熱硬化して、厚さ2.5μのシ
リコーンゴム層を設けた。
(1) ポリジメチルシロキサン（分子量約25000、
末端OH基） 100重量部 (2) ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 (5) “アイソパー”Ｅ 1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
の東レ(株)製ポリプロピレンフイルム“トレフア
ン”をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原板を得た。
末端OH基） 100重量部 (2) ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 (5) “アイソパー”Ｅ 1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
の東レ(株)製ポリプロピレンフイルム“トレフア
ン”をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原板を得た。
かかる印刷原板にメタルハライドランプ（岩崎
電気(株)製、アイドルフイン2000）を用い、UVメ
ーター（オーク製作所製ライトメジヤータイプ
UV−402A）で11ｍＷ／cm2の照度で全面露光を６
秒間施した。
電気(株)製、アイドルフイン2000）を用い、UVメ
ーター（オーク製作所製ライトメジヤータイプ
UV−402A）で11ｍＷ／cm2の照度で全面露光を６
秒間施した。
上記のようにして得られた印刷原板上に真空密
着した150線／インチの網点画像を持つネガフイ
ルムを通して上記のメタルハライドランプを用
い、１ｍの距離から60秒画像露光した。次いで上
記“トレフアン”を剥離して、前処理液（“アイ
ソパー”Ｈ／ブチルカルビトール／エチルセロソ
ルブ／モノエタノールアミン＝90／10／５／0.6
重量比）にひたし、露光ずみの版面を完全にぬら
し、１分間処理する。ゴムスキージで版面上の前
処理液を除去し、次いで版面と現像パツドに現像
液（ブチルカルビトール／水／２−エチル酪酸／
クリスタルバイオレツト（20／80／２／0.2重量
比）を注ぎ、現像パツトで版面を軽くこすると画
像状に露光された部分のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。一方、全面露光さ
れた部分にはシリコーンゴム層が強固に残存とし
ており、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得
られた。
着した150線／インチの網点画像を持つネガフイ
ルムを通して上記のメタルハライドランプを用
い、１ｍの距離から60秒画像露光した。次いで上
記“トレフアン”を剥離して、前処理液（“アイ
ソパー”Ｈ／ブチルカルビトール／エチルセロソ
ルブ／モノエタノールアミン＝90／10／５／0.6
重量比）にひたし、露光ずみの版面を完全にぬら
し、１分間処理する。ゴムスキージで版面上の前
処理液を除去し、次いで版面と現像パツドに現像
液（ブチルカルビトール／水／２−エチル酪酸／
クリスタルバイオレツト（20／80／２／0.2重量
比）を注ぎ、現像パツトで版面を軽くこすると画
像状に露光された部分のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。一方、全面露光さ
れた部分にはシリコーンゴム層が強固に残存とし
ており、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得
られた。
この印刷版をオフセツト印刷機（小森スプリン
ト２色機）に取り付け、東洋インキ(株)製“アクワ
レス”ST監を用いて、湿し水を用いないで印刷
したところ150線／インチの網点３％〜95％が現
在した極めて良好な画像をもつ印刷物が得られ
た。５万部刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全
く見られず、さらに印刷を継続できる状態であつ
た。
ト２色機）に取り付け、東洋インキ(株)製“アクワ
レス”ST監を用いて、湿し水を用いないで印刷
したところ150線／インチの網点３％〜95％が現
在した極めて良好な画像をもつ印刷物が得られ
た。５万部刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全
く見られず、さらに印刷を継続できる状態であつ
た。
比較例 ３、４
実施例２において、感光層が光吸収剤４，4′−
ジエチルアミノベンゾフエノンを含まないこと、
および感光層の膜厚が1.5μ（比較例３）、30μ（比較
例４）とする以外は、実施例２と同様にして、印
刷原板を作製した。
ジエチルアミノベンゾフエノンを含まないこと、
および感光層の膜厚が1.5μ（比較例３）、30μ（比較
例４）とする以外は、実施例２と同様にして、印
刷原板を作製した。
これらの印刷原板を用いて、実施例２と同様に
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
（小森スプリント２色機）に取り付け印刷した。
して、露光、現像処理を施し、オフセツト印刷機
（小森スプリント２色機）に取り付け印刷した。
感光層の膜厚が1.5μの比較例２では、網点再現
性が３％〜90％であり、シヤドウ部の再現性が不
良であつた。一方、感光層の膜厚が30μの比較例
３では、３％〜95％まで再現していたが、２万部
刷る時点で感光層のひび割れに添つて、シリコー
ンゴム層に亀裂が入り、地汚れを生じた。
性が３％〜90％であり、シヤドウ部の再現性が不
良であつた。一方、感光層の膜厚が30μの比較例
３では、３％〜95％まで再現していたが、２万部
刷る時点で感光層のひび割れに添つて、シリコー
ンゴム層に亀裂が入り、地汚れを生じた。
本発明になる水なし平版印刷版によれば、次の
ような効果が達成される。
ような効果が達成される。
(1) 感光層の膜厚を、従来よりも薄くしても良好
な画像再現性が得られる。
な画像再現性が得られる。
(2) 感光層の膜厚が薄くできるので、微小網点の
素抜けがなくなる。
素抜けがなくなる。
(3) 感光層の膜厚が薄くできるので、印刷時の衝
撃によつて生じる感光層のひび割れ、クラツク
が軽減し、耐刷性が向上する。
撃によつて生じる感光層のひび割れ、クラツク
が軽減し、耐刷性が向上する。
Claims (1)
- １ 支持体、キノンジアジド化合物を含有する感
光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層して
なる水なし平版印刷版において、該感光層にサル
チル酸エステル系、ベンゾフエノン系およびベン
ゾトリアゾール系の光吸収剤の群から選ばれる少
くとも１種が含まれていることを特徴とする水な
し平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61241759A JPS61241759A (ja) | 1986-10-28 |
| JPH042942B2 true JPH042942B2 (ja) | 1992-01-21 |
Family
ID=13796065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8321485A Granted JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61241759A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3736758A1 (de) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch, enthaltend einen farbstoff, und daraus hergestelltes positiv arbeitendes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| JP3024694B2 (ja) * | 1993-11-29 | 2000-03-21 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JP3192548B2 (ja) * | 1994-04-22 | 2001-07-30 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680046A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Toray Ind Inc | Lithographic plate requiring no dampening water and its manufacture |
| JPS59142538A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS6011845A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-22 | Toray Ind Inc | 湿し水不要印刷原版 |
-
1985
- 1985-04-18 JP JP8321485A patent/JPS61241759A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61241759A (ja) | 1986-10-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |