JPH04296433A - 電子衝撃型イオン源 - Google Patents
電子衝撃型イオン源Info
- Publication number
- JPH04296433A JPH04296433A JP3061796A JP6179691A JPH04296433A JP H04296433 A JPH04296433 A JP H04296433A JP 3061796 A JP3061796 A JP 3061796A JP 6179691 A JP6179691 A JP 6179691A JP H04296433 A JPH04296433 A JP H04296433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- sample
- sample gas
- axis
- filaments
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスクロマトグラフィ
質量分析計などに装備される電子衝撃型イオン源に関す
る。
質量分析計などに装備される電子衝撃型イオン源に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ガスクロマトグラフィ質量分析
計では、ガスクロマトグラフで成分分離された試料ガス
をイオン源でイオン化した後、質量分析部に導入してイ
オンを質量分離し、試料の定性、定量分析を行う。
計では、ガスクロマトグラフで成分分離された試料ガス
をイオン源でイオン化した後、質量分析部に導入してイ
オンを質量分離し、試料の定性、定量分析を行う。
【０００３】このような試料ガスのイオン化には、試料
ガスを電子ビームにより直接的に衝撃してイオン化する
電子衝撃イオン化法がある。
ガスを電子ビームにより直接的に衝撃してイオン化する
電子衝撃イオン化法がある。
【０００４】図４は、従来の電子衝撃イオン化法を採用
したイオン源の構成を示すもので、同図において、１は
真空室、２はイオン化室、４はイオン化室２を構成する
中空のイオン源ボックスである。
したイオン源の構成を示すもので、同図において、１は
真空室、２はイオン化室、４はイオン化室２を構成する
中空のイオン源ボックスである。
【０００５】このイオン源ボックス４には、試料ガスの
導入管６が挿通され、この導入管６の軸方向（図中、左
右方向）に沿う試料導入軸Ｌに直交する方向（図中、紙
面に垂直方向）にはイオン出射孔８が形成されており、
さらに、試料導入軸Ｌと直交する方向（図上、上下方向
）に電子ビームの入射孔１０と出射孔１２とがそれぞれ
形成されている。そして、このイオン源ボックス４の外
方には、入射孔１０と出射孔１２を結ぶ軸線上に熱電子
発生用のフィラメント１４と、イオン化に寄与する電子
電流をモニタするためのトラップ電極１６とが対向配置
されている。
導入管６が挿通され、この導入管６の軸方向（図中、左
右方向）に沿う試料導入軸Ｌに直交する方向（図中、紙
面に垂直方向）にはイオン出射孔８が形成されており、
さらに、試料導入軸Ｌと直交する方向（図上、上下方向
）に電子ビームの入射孔１０と出射孔１２とがそれぞれ
形成されている。そして、このイオン源ボックス４の外
方には、入射孔１０と出射孔１２を結ぶ軸線上に熱電子
発生用のフィラメント１４と、イオン化に寄与する電子
電流をモニタするためのトラップ電極１６とが対向配置
されている。
【０００６】上記構成において、導入管６からイオン化
室２内に試料ガスが導入されると、この試料ガスは、フ
ィラメント１４からの熱電子によって衝撃されてイオン
化される。そして、生成したイオンは、イオン出射孔８
を通ってイオン源ボックス４の外部に引き出され、収束
レンズによってイオンビームに収束されて質量分析部（
いずれも図示省略）に導かれてここで質量分離される。
室２内に試料ガスが導入されると、この試料ガスは、フ
ィラメント１４からの熱電子によって衝撃されてイオン
化される。そして、生成したイオンは、イオン出射孔８
を通ってイオン源ボックス４の外部に引き出され、収束
レンズによってイオンビームに収束されて質量分析部（
いずれも図示省略）に導かれてここで質量分離される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の上記
構成の電子衝撃型イオン源においては、試料ガスをイオ
ン化するためのフィラメント１４は一つしか設けられて
おらず、このため、試料ガスに対して電子ビームが照射
される箇所に偏りが生じ、イオン化が不十分であった。
構成の電子衝撃型イオン源においては、試料ガスをイオ
ン化するためのフィラメント１４は一つしか設けられて
おらず、このため、試料ガスに対して電子ビームが照射
される箇所に偏りが生じ、イオン化が不十分であった。
【０００８】すなわち、導入管６から出射された試料ガ
スに対しては、一方向（この例では上側）からのみ電子
ビームが照射されるので、試料導入軸Ｌを中心として上
側（フィラメント１４側）ではイオン化効率は良いが、
下側（トラップ１６側）でのイオン化効率は悪い。しか
も、電子ビームの照射位置を一旦横切った試料ガスは、
そのままイオン源ボックス４の内壁に衝突した後にイオ
ン化室２の空間内に広く散逸してしまうので、このよう
に一旦散逸してしまった試料ガスを効率良くイオン化す
るのは一層困難になる。
スに対しては、一方向（この例では上側）からのみ電子
ビームが照射されるので、試料導入軸Ｌを中心として上
側（フィラメント１４側）ではイオン化効率は良いが、
下側（トラップ１６側）でのイオン化効率は悪い。しか
も、電子ビームの照射位置を一旦横切った試料ガスは、
そのままイオン源ボックス４の内壁に衝突した後にイオ
ン化室２の空間内に広く散逸してしまうので、このよう
に一旦散逸してしまった試料ガスを効率良くイオン化す
るのは一層困難になる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した課題
を解決するためになされたものであって、従来よりも一
層イオン化効率を高め、検出感度を向上させるものであ
る。
を解決するためになされたものであって、従来よりも一
層イオン化効率を高め、検出感度を向上させるものであ
る。
【００１０】そのため、本発明の電子衝撃型イオン源で
は、イオン化室２を構成する中空のイオン源ボックス４
を有し、このイオン源ボックス４には試料ガスの導入管
６が挿通されている電子衝撃型イオン源において、イオ
ン源ボックス４の外方に、導入管６の軸方向に沿う試料
導入軸Ｌを挟みかつ試料導入軸Ｌ方向に互いにずれた位
置にそれぞれ熱電子発生用のフィラメント１４ａ，１４
ｂを配置している。
は、イオン化室２を構成する中空のイオン源ボックス４
を有し、このイオン源ボックス４には試料ガスの導入管
６が挿通されている電子衝撃型イオン源において、イオ
ン源ボックス４の外方に、導入管６の軸方向に沿う試料
導入軸Ｌを挟みかつ試料導入軸Ｌ方向に互いにずれた位
置にそれぞれ熱電子発生用のフィラメント１４ａ，１４
ｂを配置している。
【００１１】
【作用】上記構成において、導入管６から出射された試
料ガスに対しては、試料導入軸Ｌを中心として、上下の
双方向から電子ビームが照射されるので、試料ガスは偏
りなくイオン化される。しかも、試料ガスは試料導入軸
Ｌの方向に沿って２段回にわたってイオン化される。そ
のため、試料ガスのイオン化効率が高くなる。
料ガスに対しては、試料導入軸Ｌを中心として、上下の
双方向から電子ビームが照射されるので、試料ガスは偏
りなくイオン化される。しかも、試料ガスは試料導入軸
Ｌの方向に沿って２段回にわたってイオン化される。そ
のため、試料ガスのイオン化効率が高くなる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る電子衝撃型イオ
ン源の要部の斜視図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面
図であり、図４に示した従来例に対応する部分には同一
の符号を付す。
ン源の要部の斜視図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面
図であり、図４に示した従来例に対応する部分には同一
の符号を付す。
【００１３】図１および図２において、１は真空室、２
はイオン化室、４はイオン化室２を構成する中空のイオ
ン源ボックス、６は導入管、８はイオン出射孔である。
はイオン化室、４はイオン化室２を構成する中空のイオ
ン源ボックス、６は導入管、８はイオン出射孔である。
【００１４】この実施例では、イオン源ボックス４の外
方において、導入管６の軸方向に沿う試料導入軸Ｌを挟
み、かつ試料導入軸Ｌ方向に互いにずれた位置にそれぞ
れ熱電子発生用のフィラメント１４ａ，１４ｂが配置さ
れており、各フィラメント１４ａ，１４ｂの対向位置に
はトラップ電極１６ａ，１６ｂがそれぞれ配置されてい
る。
方において、導入管６の軸方向に沿う試料導入軸Ｌを挟
み、かつ試料導入軸Ｌ方向に互いにずれた位置にそれぞ
れ熱電子発生用のフィラメント１４ａ，１４ｂが配置さ
れており、各フィラメント１４ａ，１４ｂの対向位置に
はトラップ電極１６ａ，１６ｂがそれぞれ配置されてい
る。
【００１５】さらに、イオン源ボックス４の各々のフィ
ラメント１４ａ，１４ｂとトラップ電極１６ａ，１６ｂ
とを結ぶ軸線上には、電子ビームの入射孔１０ａ，１０
ｂと出射孔１２ａ，１２ｂとがそれぞれ形成されている
。
ラメント１４ａ，１４ｂとトラップ電極１６ａ，１６ｂ
とを結ぶ軸線上には、電子ビームの入射孔１０ａ，１０
ｂと出射孔１２ａ，１２ｂとがそれぞれ形成されている
。
【００１６】上記構成において、導入管６から出射され
た試料ガスに対しては、図３に示すように、試料導入軸
Ｌを中心として、上下の双方向から電子ビームが照射さ
れるので、試料ガスは偏りなくイオン化されることにな
る。
た試料ガスに対しては、図３に示すように、試料導入軸
Ｌを中心として、上下の双方向から電子ビームが照射さ
れるので、試料ガスは偏りなくイオン化されることにな
る。
【００１７】しかも、試料ガスは、イオン源ボックス４
の内壁に衝突してイオン化室２の空間内に散逸する前に
、試料導入軸Ｌの方向に沿って２段階にわたってイオン
化される。そのため、試料ガスのイオン化効率が高くな
る。
の内壁に衝突してイオン化室２の空間内に散逸する前に
、試料導入軸Ｌの方向に沿って２段階にわたってイオン
化される。そのため、試料ガスのイオン化効率が高くな
る。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、試料ガスに対して、偏
りなくかつ２段階にわたって電子ビームが照射されるの
で、従来よりも一層イオン化効率が高まり、検出感度が
向上する。
りなくかつ２段階にわたって電子ビームが照射されるの
で、従来よりも一層イオン化効率が高まり、検出感度が
向上する。
【図１】本発明の実施例に係る電子衝撃型イオン源の要
部の斜視図である。
部の斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】本発明の電子衝撃型イオン源の作用の説明図で
ある。
ある。
【図４】従来の電子衝撃型イオン源の断面図である。
１…真空室、２…イオン化室、４…イオン源ボックス、
６…導入孔、８…イオン出射孔、１４ａ，１４ｂ…フィ
ラメント、１６ａ，１６ｂ…トラップ電極、Ｌ…試料導
入軸。
６…導入孔、８…イオン出射孔、１４ａ，１４ｂ…フィ
ラメント、１６ａ，１６ｂ…トラップ電極、Ｌ…試料導
入軸。
Claims (1)
- 【請求項１】 イオン化室（２）を構成する中空のイ
オン源ボックス（４）を有し、このイオン源ボックス（
４）には試料ガスの導入管（６）が挿通されている電子
衝撃型イオン源において、前記イオン源ボックス（４）
の外方には、前記導入管（６）の軸方向に沿う試料導入
軸（Ｌ）を挟みかつ試料導入軸（Ｌ）方向に互いにずれ
た位置にそれぞれ熱電子発生用のフィラメント（１４ａ
），（１４ｂ）を配置したことを特徴とする電子衝撃型
イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3061796A JPH04296433A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 電子衝撃型イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3061796A JPH04296433A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 電子衝撃型イオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04296433A true JPH04296433A (ja) | 1992-10-20 |
Family
ID=13181427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3061796A Pending JPH04296433A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | 電子衝撃型イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04296433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007108410A1 (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Hamamatsu Photonics K.K. | イオン化装置 |
| WO2007108211A1 (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Rigaku Corporation | ガス分析装置 |
-
1991
- 1991-03-26 JP JP3061796A patent/JPH04296433A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007108410A1 (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Hamamatsu Photonics K.K. | イオン化装置 |
| WO2007108211A1 (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Rigaku Corporation | ガス分析装置 |
| US8044343B2 (en) | 2006-03-17 | 2011-10-25 | Rigaku Corporation | Gas analyzer |
| US8592779B2 (en) | 2006-03-17 | 2013-11-26 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ionizing device |
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