JPH04298060A - ウエハの位置合わせ装置 - Google Patents
ウエハの位置合わせ装置Info
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- JPH04298060A JPH04298060A JP3087524A JP8752491A JPH04298060A JP H04298060 A JPH04298060 A JP H04298060A JP 3087524 A JP3087524 A JP 3087524A JP 8752491 A JP8752491 A JP 8752491A JP H04298060 A JPH04298060 A JP H04298060A
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- wafers
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- lock device
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0441—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10P72/06—Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
- H10P72/0606—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H10P72/0608—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
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- H10P72/3304—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterised by movements or sequence of movements of transfer devices
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- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はロードロック装置及びウ
エハの搬送システム並びにウエハの位置合わせ装置に関
する。
エハの搬送システム並びにウエハの位置合わせ装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハを、真空雰囲気で処理を行
うための処理槽内と外部(大気圧雰囲気)との間で受け
渡しする場合、真空排気の時間を短縮して作業効率を図
る点からロードロック装置が用いられている。このロー
ドロック装置によれば、例えば外部からウエハを処理槽
内に搬入する場合、ウエハを一旦ロードロック室内に入
れ、ここで所定の圧力まで真空排気した後ロードロック
室を処理槽内の雰囲気に開放し、次いでウエハを処理槽
内に搬入する。
うための処理槽内と外部(大気圧雰囲気)との間で受け
渡しする場合、真空排気の時間を短縮して作業効率を図
る点からロードロック装置が用いられている。このロー
ドロック装置によれば、例えば外部からウエハを処理槽
内に搬入する場合、ウエハを一旦ロードロック室内に入
れ、ここで所定の圧力まで真空排気した後ロードロック
室を処理槽内の雰囲気に開放し、次いでウエハを処理槽
内に搬入する。
【0003】ところでウエハには結晶の方向性があるた
めウエハを処理あるいは検査するときにウエハの中心位
置に加えてその向きについても位置合わせを必要とする
場合がある。
めウエハを処理あるいは検査するときにウエハの中心位
置に加えてその向きについても位置合わせを必要とする
場合がある。
【0004】例えばイオン注入装置では、図9に示すよ
うにターミナルユニットTのイオン発生器Iから発生し
たイオンを分析マグネットMで曲げて加速管Aを通じ、
処理槽1内のターンテーブル1a(イオン注入時には起
立している。)上のウエハWに対し順次イオン注入を行
っている。一方各ウエハは外部からターンテーブル1a
において正確に位置合わせした状態で載置されなければ
ならない。
うにターミナルユニットTのイオン発生器Iから発生し
たイオンを分析マグネットMで曲げて加速管Aを通じ、
処理槽1内のターンテーブル1a(イオン注入時には起
立している。)上のウエハWに対し順次イオン注入を行
っている。一方各ウエハは外部からターンテーブル1a
において正確に位置合わせした状態で載置されなければ
ならない。
【0005】そこで従来では例えば図10に示すように
処理槽1の外の所定位置に置かれたキャリア3からウエ
ハWを大気側の搬送ロボットR1により一枚づつ一旦位
置合わせ装置ODに移し、ここでウエハの向き及び中心
の位置ずれを検出して、そのずれ分について例えば方向
の修正及び中心の修正の2ステップを行って位置決めし
、次いで搬送ロボットR1により位置合わせ装置OD内
のウエハWをロードロック装置2内に移し、この中を真
空排気した後処理室1側の搬送ロボットR2によりウエ
ハWをロードロック装置2からターンテーブル1aに搬
送していた。
処理槽1の外の所定位置に置かれたキャリア3からウエ
ハWを大気側の搬送ロボットR1により一枚づつ一旦位
置合わせ装置ODに移し、ここでウエハの向き及び中心
の位置ずれを検出して、そのずれ分について例えば方向
の修正及び中心の修正の2ステップを行って位置決めし
、次いで搬送ロボットR1により位置合わせ装置OD内
のウエハWをロードロック装置2内に移し、この中を真
空排気した後処理室1側の搬送ロボットR2によりウエ
ハWをロードロック装置2からターンテーブル1aに搬
送していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の方
法では、キャリアからウエハを一枚づつロードロック装
置内に搬入する際に、一旦位置合わせ装置を経由しなけ
ればならないため、ウエハのハンドリング回数が増え、
この結果ウエハのダメージ、パーティクルなどが増加し
やすくなって歩留まりの低下につながると共に、ハンド
リング回数の増加に伴って搬入時間が増加し、装置の処
理スループットを下げる要因になっていた。 しかも
真空度がある程度低くなってからウエハの処理槽内の真
空付近にまで近づけるにはかなり長い時間がかかり、こ
のような真空排気をロードロック装置にてウエハ一枚一
枚について行っているのでこの点からもスループットが
低かった。 更に位置合わせ装置に着目すると例えば
ウエハの中心位置の修正をするためにX方向、Y方向の
サーボ機構などが必要であり、このため装置が複雑でコ
スト的にも高価であるし、また装置の設置スペースが必
要になるという不利益があった。
法では、キャリアからウエハを一枚づつロードロック装
置内に搬入する際に、一旦位置合わせ装置を経由しなけ
ればならないため、ウエハのハンドリング回数が増え、
この結果ウエハのダメージ、パーティクルなどが増加し
やすくなって歩留まりの低下につながると共に、ハンド
リング回数の増加に伴って搬入時間が増加し、装置の処
理スループットを下げる要因になっていた。 しかも
真空度がある程度低くなってからウエハの処理槽内の真
空付近にまで近づけるにはかなり長い時間がかかり、こ
のような真空排気をロードロック装置にてウエハ一枚一
枚について行っているのでこの点からもスループットが
低かった。 更に位置合わせ装置に着目すると例えば
ウエハの中心位置の修正をするためにX方向、Y方向の
サーボ機構などが必要であり、このため装置が複雑でコ
スト的にも高価であるし、また装置の設置スペースが必
要になるという不利益があった。
【0007】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、スループットの向上、歩留
まりの向上及び装置の小形化を図ることができるロード
ロック装置を提供することにある。
たものであり、その目的は、スループットの向上、歩留
まりの向上及び装置の小形化を図ることができるロード
ロック装置を提供することにある。
【0008】本発明の他の目的は、このような目的に加
え、更にウエハの位置ずれの修正を効率よく行うことの
できるウエハの搬送システムを提供することにある。
え、更にウエハの位置ずれの修正を効率よく行うことの
できるウエハの搬送システムを提供することにある。
【0009】本発明の更に他の目的は、複数枚のウエハ
に対し、位置ずれの修正を効率よく行うことのできるウ
エハの位置合わせ装置を提供することを目的とする。
に対し、位置ずれの修正を効率よく行うことのできるウ
エハの位置合わせ装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、ウエ
ハを一の気体雰囲気から他の気体雰囲気に受け渡す時に
、一旦ウエハをロードロック室内に置いてこの気体雰囲
気を他の気体雰囲気と同じまたは近似した状態にした後
、他の気体雰囲気に開放するロードロック装置において
、複数枚のウエハを収納するようにロードロック室内に
配置されたウエハ収納部と、これに収納されたウエハを
保持するための保持部と、これに保持されたウエハをそ
の面に沿って回転させるための回転機構と、ウエハの回
転により得られた情報に基づいてウエハの中心のずれ及
び回転角のずれを検出する位置ずれ検出手段とを設けた
ことを特徴とする。
ハを一の気体雰囲気から他の気体雰囲気に受け渡す時に
、一旦ウエハをロードロック室内に置いてこの気体雰囲
気を他の気体雰囲気と同じまたは近似した状態にした後
、他の気体雰囲気に開放するロードロック装置において
、複数枚のウエハを収納するようにロードロック室内に
配置されたウエハ収納部と、これに収納されたウエハを
保持するための保持部と、これに保持されたウエハをそ
の面に沿って回転させるための回転機構と、ウエハの回
転により得られた情報に基づいてウエハの中心のずれ及
び回転角のずれを検出する位置ずれ検出手段とを設けた
ことを特徴とする。
【0011】請求項2の発明は、請求項1のロードロッ
ク装置と、このロードロック装置内のウエハを一枚ずつ
他の気体雰囲気中の所定位置に搬送する搬送機構と、ウ
エハの中心のずれ及び回転角のずれを修正した状態でウ
エハを前記所定位置に置くように、位置ずれ検出手段の
検出結果に基づいて前記搬送機構を制御する制御部とを
設けたことを特徴とする。
ク装置と、このロードロック装置内のウエハを一枚ずつ
他の気体雰囲気中の所定位置に搬送する搬送機構と、ウ
エハの中心のずれ及び回転角のずれを修正した状態でウ
エハを前記所定位置に置くように、位置ずれ検出手段の
検出結果に基づいて前記搬送機構を制御する制御部とを
設けたことを特徴とする。
【0012】請求項3の発明は、複数枚のウエハを互い
に間隔をおいて上下方向に重ねた状態で収納するウエハ
収納部と、これに収納された最上段または最下段に位置
するウエハを保持するための保持部と、この保持部に保
持されたウエハをその面に沿って回転させる回転機構と
ウエハの回転により得られた情報に基づいてウエハの中
心のずれ及び回転角のずれを検出する位置ずれ検出手段
と、前記ウエハ収納部を保持部に対して相対的に昇降さ
せる昇降機構とを備え、前記保持部にウエハを保持した
状態でウエハの中心のずれおよび回転角のずれを検出し
た後、当該ウエハを取り除いて次のウエハを保持するこ
とを特徴とする。
に間隔をおいて上下方向に重ねた状態で収納するウエハ
収納部と、これに収納された最上段または最下段に位置
するウエハを保持するための保持部と、この保持部に保
持されたウエハをその面に沿って回転させる回転機構と
ウエハの回転により得られた情報に基づいてウエハの中
心のずれ及び回転角のずれを検出する位置ずれ検出手段
と、前記ウエハ収納部を保持部に対して相対的に昇降さ
せる昇降機構とを備え、前記保持部にウエハを保持した
状態でウエハの中心のずれおよび回転角のずれを検出し
た後、当該ウエハを取り除いて次のウエハを保持するこ
とを特徴とする。
【0013】
【作用】ウエハを例えば大気雰囲気からロードロック装
置内のキャリアに上の段から順に収納する。この収納操
作は例えばキャリアを間欠的に上昇させることにより行
われる。次いで例えば下の段のウエハから順に1回転さ
せて各回転位置における、回転中心からのウエハの中心
のずれ及び回転角のずれを求める。次いで例えば真空雰
囲気の搬送機構により前記位置ずれを修正するようにウ
エハを搬送して処置槽内の所定の位置に置く。
置内のキャリアに上の段から順に収納する。この収納操
作は例えばキャリアを間欠的に上昇させることにより行
われる。次いで例えば下の段のウエハから順に1回転さ
せて各回転位置における、回転中心からのウエハの中心
のずれ及び回転角のずれを求める。次いで例えば真空雰
囲気の搬送機構により前記位置ずれを修正するようにウ
エハを搬送して処置槽内の所定の位置に置く。
【0014】
【実施例】図1は、本発明の実施例に係るロードロック
装置のロードロックチャンバ4内を示す図である。この
実施例では、ウエハキャリア5は、ウエハWを例えば2
5枚(ただし図では便宜上6枚で示してある)互いに間
隔を置いて各ウエハを重ねた状態で収納するように構成
されており、その下面は、上下方向に伸縮可能な昇降機
構をなすベローズ6の上端部に取り付けられているこの
ウエハキャリア5は、弓形の受け板部材5cを備えた図
1の左側に位置する一方の受け部5aと、これに対向す
る舌状の受け板部材5dを備えた他方の受け部5bとに
よりウエハWの両縁を支持するように作られており、こ
れら一対の受け部5a、5bはその下部において、上下
動したときに後述するターンテーブルに衝突しないよう
に中央部を切欠した図示しない連結板により連結されて
いる。
装置のロードロックチャンバ4内を示す図である。この
実施例では、ウエハキャリア5は、ウエハWを例えば2
5枚(ただし図では便宜上6枚で示してある)互いに間
隔を置いて各ウエハを重ねた状態で収納するように構成
されており、その下面は、上下方向に伸縮可能な昇降機
構をなすベローズ6の上端部に取り付けられているこの
ウエハキャリア5は、弓形の受け板部材5cを備えた図
1の左側に位置する一方の受け部5aと、これに対向す
る舌状の受け板部材5dを備えた他方の受け部5bとに
よりウエハWの両縁を支持するように作られており、こ
れら一対の受け部5a、5bはその下部において、上下
動したときに後述するターンテーブルに衝突しないよう
に中央部を切欠した図示しない連結板により連結されて
いる。
【0015】ウエハキャリア5をこのような構造とした
理由はロードロックチャンバ4の両側から夫々図示しな
いゲートを介して大気中側アーム及び処理槽側アーム(
図中符号ARで示す)によりウエハをアクセスできるよ
うにするためである。
理由はロードロックチャンバ4の両側から夫々図示しな
いゲートを介して大気中側アーム及び処理槽側アーム(
図中符号ARで示す)によりウエハをアクセスできるよ
うにするためである。
【0016】前記ベローズ6の内側(大気側)には例え
ばボールネジを用いた図示しない移動機構が設けられて
おり、ネジ軸をモータで回転させることにより精度よく
ウエハキャリア5を昇降可能に構成されてる。従ってウ
エハキャリア5はこの図示しない移動機構により後述す
る各プロセスに対応して昇降する。
ばボールネジを用いた図示しない移動機構が設けられて
おり、ネジ軸をモータで回転させることにより精度よく
ウエハキャリア5を昇降可能に構成されてる。従ってウ
エハキャリア5はこの図示しない移動機構により後述す
る各プロセスに対応して昇降する。
【0017】前記ウエハキャリア5に収納されるウエハ
Wの下方側には、鉛直軸のまわりに沿って図示しないモ
ータにより回転される回転機構としての回転軸7がロー
ドロックチャンバ4の底面に取り付けられており、この
回転軸7の上端にはターンテーブル7aが設けられてい
る。このターンテーブル7aにはウエハWの裏面を静電
チャックするチャック手段が組み込まれており、この例
ではタンテーブル7aとチャック手段とによりウエハW
の保持部が構成されている。
Wの下方側には、鉛直軸のまわりに沿って図示しないモ
ータにより回転される回転機構としての回転軸7がロー
ドロックチャンバ4の底面に取り付けられており、この
回転軸7の上端にはターンテーブル7aが設けられてい
る。このターンテーブル7aにはウエハWの裏面を静電
チャックするチャック手段が組み込まれており、この例
ではタンテーブル7aとチャック手段とによりウエハW
の保持部が構成されている。
【0018】また前記ロードロックチャンバ4内には、
前記ターンテーブル7a上に保持されたウエハWについ
て、回転中心からウエハの周縁までの距離を光学的に求
めるための光学ユニット8が設置されている。
前記ターンテーブル7a上に保持されたウエハWについ
て、回転中心からウエハの周縁までの距離を光学的に求
めるための光学ユニット8が設置されている。
【0019】この光学的ユニット8の構成に関して図2
、図3を参照しながら説明すると、筐体80内は大気圧
雰囲気に保たれており、レーザ光源8aと2個の円筒レ
ンズ8b、8cと、例えばガラスよりなる窓8dとを備
えている。この光学系においては、例えばレーザ光源8
aにより出射した光は円筒レンズ8a、8bにより成形
され、窓8dを介して例えばウエハWの半径方向に広が
る細長いスリット光SとなってウエハWの裏面に照射さ
れる。
、図3を参照しながら説明すると、筐体80内は大気圧
雰囲気に保たれており、レーザ光源8aと2個の円筒レ
ンズ8b、8cと、例えばガラスよりなる窓8dとを備
えている。この光学系においては、例えばレーザ光源8
aにより出射した光は円筒レンズ8a、8bにより成形
され、窓8dを介して例えばウエハWの半径方向に広が
る細長いスリット光SとなってウエハWの裏面に照射さ
れる。
【0020】そして前記スリット光Sについては、例え
ばウエハWの中心と回転中心とが一致した時にスリット
光Sの長さ方向の中点がウエハWの周縁(ただしオリフ
ラと呼ばれる直線部lを除いた周縁)に位置するように
設定されている。
ばウエハWの中心と回転中心とが一致した時にスリット
光Sの長さ方向の中点がウエハWの周縁(ただしオリフ
ラと呼ばれる直線部lを除いた周縁)に位置するように
設定されている。
【0021】ターンテーブル7a上のウエハWの表面側
(上方)には、前記レーザ光を受光するための受光部8
eが回動杆9aの先端に取り付けられている。
(上方)には、前記レーザ光を受光するための受光部8
eが回動杆9aの先端に取り付けられている。
【0022】また前記受光部8eには、ここからの受光
量に対応した電気信号に基づいてロードロックチャンバ
4内のウエハWの位置ずれ量、即ち中心位置及び方向(
回転角)のずれ量を演算する演算手段10がロードロッ
クチャンバ4の外部において接続されている。この回動
杆9aの基端は、駆動部9bにより鉛直軸のまわりに回
動する回動軸9cに固定されている。そして回動杆9a
はウエハの位置ずれを検出するときには、検出対象のウ
エハとその上方のウエハとの間(図3の実線で示す検出
位置)に挿入され、それ以外のときには矢印の如く回転
してウエハと平面的に干渉しない位置(図3の鎖線で示
す退避位置)に置かれるようになっており、これによっ
てウエハWの上下動を妨げないようにしている。
量に対応した電気信号に基づいてロードロックチャンバ
4内のウエハWの位置ずれ量、即ち中心位置及び方向(
回転角)のずれ量を演算する演算手段10がロードロッ
クチャンバ4の外部において接続されている。この回動
杆9aの基端は、駆動部9bにより鉛直軸のまわりに回
動する回動軸9cに固定されている。そして回動杆9a
はウエハの位置ずれを検出するときには、検出対象のウ
エハとその上方のウエハとの間(図3の実線で示す検出
位置)に挿入され、それ以外のときには矢印の如く回転
してウエハと平面的に干渉しない位置(図3の鎖線で示
す退避位置)に置かれるようになっており、これによっ
てウエハWの上下動を妨げないようにしている。
【0023】以上のように本発明実施例のロードロック
装置は構成されている。
装置は構成されている。
【0024】次に上述実施例の作用について図4、図5
を参照しながら述べる。今ロードロックチャンバ4内の
ウエハキャリア5が空であり、この中に外部(大気圧)
からウエハを収納する場合、先ず図4の左側に示すよう
にウエハキャリア5を、上から1段目L1がターンテー
ブル7aより若干上方に位置するところまで下降させて
おく。そしてゲートGを開き図示しない搬送アーム(図
1の符号ARに相当する)によりウエハWを入口Eから
ロードロックチャンバ4内に搬入し、前記1段目L1上
に載置する。次いで図4の右側に示すようにウエハキャ
リア5を上昇させて上から2段目L2がターンテーブル
7aより若干上方に位置する所に停止させ、同様にして
ウエハを入口Eから搬入して2段目L2上に載置する。
を参照しながら述べる。今ロードロックチャンバ4内の
ウエハキャリア5が空であり、この中に外部(大気圧)
からウエハを収納する場合、先ず図4の左側に示すよう
にウエハキャリア5を、上から1段目L1がターンテー
ブル7aより若干上方に位置するところまで下降させて
おく。そしてゲートGを開き図示しない搬送アーム(図
1の符号ARに相当する)によりウエハWを入口Eから
ロードロックチャンバ4内に搬入し、前記1段目L1上
に載置する。次いで図4の右側に示すようにウエハキャ
リア5を上昇させて上から2段目L2がターンテーブル
7aより若干上方に位置する所に停止させ、同様にして
ウエハを入口Eから搬入して2段目L2上に載置する。
【0025】このような操作を繰り返してウエハキャリ
ア5を上昇させていくことによって、図5の左側に示す
ように例えば25枚のウエハが収納される。その後ゲー
トGが閉じられてロードロックチャンバ4内が所定の真
空度まで排気される。そしてウエハキャリア5を、最下
段である25段目L25がターンテーブル7aの上面よ
り若干下方に位置するように下降させる。この結果25
段目L25に載っていたウエハWは、図5の右側に示す
ようにターンテーブル7a上に置かれて例えば静電チャ
ックされる。
ア5を上昇させていくことによって、図5の左側に示す
ように例えば25枚のウエハが収納される。その後ゲー
トGが閉じられてロードロックチャンバ4内が所定の真
空度まで排気される。そしてウエハキャリア5を、最下
段である25段目L25がターンテーブル7aの上面よ
り若干下方に位置するように下降させる。この結果25
段目L25に載っていたウエハWは、図5の右側に示す
ようにターンテーブル7a上に置かれて例えば静電チャ
ックされる。
【0026】続いて図3に示したように光学ユニット8
の回動杆9aを回動させて受光部9をウエハ間に挿入し
、スリット光Sを受光する位置に置く。そしてウエハW
を360度+α回転させる。ここで受光部9におけるレ
ーザ光の受光量は、スリット光域におけるウエハWの周
縁の位置に対応するので、受光部9の電気信号に基づい
て演算手段10により各回転位置における、回転中心か
らスリット光域内の周縁までの距離が求められる。そし
てウエハWには、向きを決めるためのオリフラlが形成
されているので、ウエハWの回転位置に対応させて前記
距離を求めることにより、当該ウエハWについて、その
中心が本来の位置からどれだけずれているか、及びその
向きが本来の向きからどれくらいずれているか(回転角
のずれ量)を同時に検出することができる。なおウエハ
Wの中心のずれとは、本来の中心位置からのずれ量では
なく、ある基準点からの距離であってもよく、また回転
角のずれとは、ある基準線に対するオリフラの角度であ
ってもよい。
の回動杆9aを回動させて受光部9をウエハ間に挿入し
、スリット光Sを受光する位置に置く。そしてウエハW
を360度+α回転させる。ここで受光部9におけるレ
ーザ光の受光量は、スリット光域におけるウエハWの周
縁の位置に対応するので、受光部9の電気信号に基づい
て演算手段10により各回転位置における、回転中心か
らスリット光域内の周縁までの距離が求められる。そし
てウエハWには、向きを決めるためのオリフラlが形成
されているので、ウエハWの回転位置に対応させて前記
距離を求めることにより、当該ウエハWについて、その
中心が本来の位置からどれだけずれているか、及びその
向きが本来の向きからどれくらいずれているか(回転角
のずれ量)を同時に検出することができる。なおウエハ
Wの中心のずれとは、本来の中心位置からのずれ量では
なく、ある基準点からの距離であってもよく、また回転
角のずれとは、ある基準線に対するオリフラの角度であ
ってもよい。
【0027】このようにしてウエハWの位置ずれが検出
されると、受光部9を前記退避位置まで移動すると共に
、静電チャックを解除した後ウエハキャリア5を上昇さ
せて、ターンテーブル7a上のウエハWを25段目L2
5により持ち上げ、所定の高さ位置にて停止させる。 即ちウエハキャリア5は図5の左側に示す位置に停止す
る。 しかる後、処理槽側のゲートを開いて図示しな
い搬送アームにより当該ウエハWは取出口(図示しない
が取出口Eと同じ高さレベルにある。)から処理槽内に
搬送される。そしてウエハキャリア5の下から2段目即
ち24段目のウエハについても、同様の操作により位置
ずれが検出され、こうしてウエハキャリア5のウエハW
は、下から順に位置ずれが検出され、処理槽内に取り出
されていく。
されると、受光部9を前記退避位置まで移動すると共に
、静電チャックを解除した後ウエハキャリア5を上昇さ
せて、ターンテーブル7a上のウエハWを25段目L2
5により持ち上げ、所定の高さ位置にて停止させる。 即ちウエハキャリア5は図5の左側に示す位置に停止す
る。 しかる後、処理槽側のゲートを開いて図示しな
い搬送アームにより当該ウエハWは取出口(図示しない
が取出口Eと同じ高さレベルにある。)から処理槽内に
搬送される。そしてウエハキャリア5の下から2段目即
ち24段目のウエハについても、同様の操作により位置
ずれが検出され、こうしてウエハキャリア5のウエハW
は、下から順に位置ずれが検出され、処理槽内に取り出
されていく。
【0028】ここでウエハキャリア内に収納されたウエ
ハを搬送アームによりアクセスするときに、ウエハと搬
送アームとが高さ的に干渉するとウエハをウエハキャリ
アから落としてしまう。そこで例えばウエハキャリアの
停止位置を制御するために例えば図6に示すような方法
を採用することができる。
ハを搬送アームによりアクセスするときに、ウエハと搬
送アームとが高さ的に干渉するとウエハをウエハキャリ
アから落としてしまう。そこで例えばウエハキャリアの
停止位置を制御するために例えば図6に示すような方法
を採用することができる。
【0029】この例ではウエハキャリア5の一方の受け
部5a(図1参照)において、ウエハを夫々載置する受
け板部材5cにシャッタの役目を果たす突起5dを設け
る一方、この突起5dの移動路を挟むように発光部及び
受光部を取り付けた光センサ11を設け、ウエハキャリ
ア5の上下動により突起5dが光センサの光路を遮った
時にこの光センサ11の検出信号によりウエハキャリア
5を停止するようにしている。
部5a(図1参照)において、ウエハを夫々載置する受
け板部材5cにシャッタの役目を果たす突起5dを設け
る一方、この突起5dの移動路を挟むように発光部及び
受光部を取り付けた光センサ11を設け、ウエハキャリ
ア5の上下動により突起5dが光センサの光路を遮った
時にこの光センサ11の検出信号によりウエハキャリア
5を停止するようにしている。
【0030】このような構成によれば、被検出体である
突起5dと受け板部材5cとが一体であるため、受け板
部材5cの位置を直接検出することになり、従って簡単
な構成で精度の高い位置検出が可能である。
突起5dと受け板部材5cとが一体であるため、受け板
部材5cの位置を直接検出することになり、従って簡単
な構成で精度の高い位置検出が可能である。
【0031】また上述実施例のように、ウエハキャリア
5とターンテーブル7aとを互いに平面的に干渉しない
ように構成し、ウエハキャリア5を昇降させてウエハの
受け渡しを行い、ウエハの搬入、搬出レベルを一定にす
れば、上下動の自由度を持たない搬送機構を用いること
ができる。
5とターンテーブル7aとを互いに平面的に干渉しない
ように構成し、ウエハキャリア5を昇降させてウエハの
受け渡しを行い、ウエハの搬入、搬出レベルを一定にす
れば、上下動の自由度を持たない搬送機構を用いること
ができる。
【0032】以上のようにしてウエハの中心のずれと回
転角のずれとをロードロック装置内で検出できるが、こ
の実施例では、例えばロードロック装置内に位置合わせ
機構(図示せず)を組み込んでその位置ずれ量を修正し
てしもよいし、あるいは次に述べる例のようにウエハを
ロードロック装置から処理室内に搬送するときに位置合
わせを行うようにしてもよい。
転角のずれとをロードロック装置内で検出できるが、こ
の実施例では、例えばロードロック装置内に位置合わせ
機構(図示せず)を組み込んでその位置ずれ量を修正し
てしもよいし、あるいは次に述べる例のようにウエハを
ロードロック装置から処理室内に搬送するときに位置合
わせを行うようにしてもよい。
【0033】図7は、イオン注入装置の処理槽1内のタ
ーンテーブル1aに外部(大気圧)からウエハを搬送す
る搬送システムの一部を示し、このシステムにおいては
、図1に示したと同様の構成のロードロック装置12が
設置されている。
ーンテーブル1aに外部(大気圧)からウエハを搬送す
る搬送システムの一部を示し、このシステムにおいては
、図1に示したと同様の構成のロードロック装置12が
設置されている。
【0034】そして処理槽1内には、例えば多関節ロボ
ットよりなる搬送機構12aが設置されていると共に演
算手段10の出力側には、演算結果に基づいて前記搬送
機構12aを制御する制御部13が接続されている。1
4は大気側の搬送機構、15は所定位置に置かれたウエ
ハのキャリアである。
ットよりなる搬送機構12aが設置されていると共に演
算手段10の出力側には、演算結果に基づいて前記搬送
機構12aを制御する制御部13が接続されている。1
4は大気側の搬送機構、15は所定位置に置かれたウエ
ハのキャリアである。
【0035】次にこのシステムの作用について述べる。
先ず大気中のキャリア15にバッファリングされている
処理前のウエハWを搬送機構14によって大気側ゲート
G1を介してロードロック装置12内に例えば25枚の
ウエハWを搬入した後ゲートG1を閉じ、次いでロード
ロック装置12内を真空排気する。そして処理槽1側の
ゲートG1を開いた後に既述したようにウエハWを回転
させ、光学ユニット8よりの電気信号に基づいて演算手
段10によりウエハWの位置ずれを求め、各ウエハWを
順次に搬送機構12aによりターンテーブル1a上の所
定位置に搬送する。この時制御部13は演算手段10よ
りの演算結果(ウエハの位置ずれ量)に基づき、ウエハ
Wが前記所定位置に置かれた時に、ロードロック装置1
2内に発生している中心のずれ及び回転角のずれが修正
されているように、搬送機構12aに対して制御信号を
与える。なおこの例では、光学ユニット8及び演算手段
10により位置ずれ検出手段100が構成される。
処理前のウエハWを搬送機構14によって大気側ゲート
G1を介してロードロック装置12内に例えば25枚の
ウエハWを搬入した後ゲートG1を閉じ、次いでロード
ロック装置12内を真空排気する。そして処理槽1側の
ゲートG1を開いた後に既述したようにウエハWを回転
させ、光学ユニット8よりの電気信号に基づいて演算手
段10によりウエハWの位置ずれを求め、各ウエハWを
順次に搬送機構12aによりターンテーブル1a上の所
定位置に搬送する。この時制御部13は演算手段10よ
りの演算結果(ウエハの位置ずれ量)に基づき、ウエハ
Wが前記所定位置に置かれた時に、ロードロック装置1
2内に発生している中心のずれ及び回転角のずれが修正
されているように、搬送機構12aに対して制御信号を
与える。なおこの例では、光学ユニット8及び演算手段
10により位置ずれ検出手段100が構成される。
【0036】ここで搬送機構12aの制御方法としては
、搬送機構12aがロードロック装置12内のウエハW
を受け取りにいくときに、あるいはターンテーブル1a
上に置きに行くときに位置ずれ量を修正するように操作
してもよいし、ウエハWを受け取ってから置きに行く間
の工程で修正操作を行なわせるようにしてもよいまたロ
ードロック装置内で検出した位置ずれを修正する方法と
しては、ウエハの回転角のずれについてはロードロック
装置内の回転軸4bにより修正し、中心のずれについて
のみ搬送機構12により修正するようにしてもよい。
、搬送機構12aがロードロック装置12内のウエハW
を受け取りにいくときに、あるいはターンテーブル1a
上に置きに行くときに位置ずれ量を修正するように操作
してもよいし、ウエハWを受け取ってから置きに行く間
の工程で修正操作を行なわせるようにしてもよいまたロ
ードロック装置内で検出した位置ずれを修正する方法と
しては、ウエハの回転角のずれについてはロードロック
装置内の回転軸4bにより修正し、中心のずれについて
のみ搬送機構12により修正するようにしてもよい。
【0037】なおロードロック装置12のゲートG1に
関しては、図8に示すようにウエハの取入口を垂直軸に
対して例えば45度傾いた傾斜面16に形成すると共に
、この取入口を開閉するためのゲートG1を、水平な軸
Pのまわりを回動する回動部材17を取り付けた構成と
すれば、ゲートG1の移動路が横方向に広がらず、また
その移動距離も小さくて済むので、設置スペースを小さ
くできるという利点がある。この場合ゲートG1を回動
させる代わりに上下方向に直線的に移動するようにして
もよいし、更にこうした構成を処理槽側のゲートに適応
してもよい。
関しては、図8に示すようにウエハの取入口を垂直軸に
対して例えば45度傾いた傾斜面16に形成すると共に
、この取入口を開閉するためのゲートG1を、水平な軸
Pのまわりを回動する回動部材17を取り付けた構成と
すれば、ゲートG1の移動路が横方向に広がらず、また
その移動距離も小さくて済むので、設置スペースを小さ
くできるという利点がある。この場合ゲートG1を回動
させる代わりに上下方向に直線的に移動するようにして
もよいし、更にこうした構成を処理槽側のゲートに適応
してもよい。
【0038】以上においてウエハの位置ずれを検出する
ためには、上述実施例の手法に限定されるものではなく
、例えばウエハの周縁部からの光の反射を利用するなど
の方法を採用してもよいまた本発明では、互いに異なる
気体雰囲気間のみならず、互いに気体の種類の異なる気
体雰囲気間におけるウエハの受け渡しを行なう場合につ
いても適応できる。
ためには、上述実施例の手法に限定されるものではなく
、例えばウエハの周縁部からの光の反射を利用するなど
の方法を採用してもよいまた本発明では、互いに異なる
気体雰囲気間のみならず、互いに気体の種類の異なる気
体雰囲気間におけるウエハの受け渡しを行なう場合につ
いても適応できる。
【0039】さらに本発明では、図1に示したロードロ
ックチャンバ4内の装置をロードロック装置の外に設置
してウエハの位置検出装置として用いてもよい。
ックチャンバ4内の装置をロードロック装置の外に設置
してウエハの位置検出装置として用いてもよい。
【0040】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、ロードロック
装置内でウエハの位置ずれを検出するようにしているた
め、従来のようにウエハを一旦位置合わせ装置に置くと
いうハンドリングが不要になり、この結果ウエハのダメ
ージ及びパーティクルを低減することができ、歩留まり
の向上を図ることができる。しかも搬入に要する時間を
短縮できるし、また複数枚のウエハを収納した状態でロ
ードロック装置内の排気を行うので全体の処理からみれ
ば、ロードロック装置の排気に要する時間を枚葉式の場
合に比べて短縮でき、従ってスループットの向上を図る
ことができる上、位置合わせ装置が不要になることから
その分装置全体の小形化を図ることができる。しかもウ
エハの回転によって得られた情報に基づいて位置ずれを
検出しているので、TVカメラなどの大掛かりな装置を
用いなくて済み、ロードロック装置の大型化を抑えるこ
とができる。
装置内でウエハの位置ずれを検出するようにしているた
め、従来のようにウエハを一旦位置合わせ装置に置くと
いうハンドリングが不要になり、この結果ウエハのダメ
ージ及びパーティクルを低減することができ、歩留まり
の向上を図ることができる。しかも搬入に要する時間を
短縮できるし、また複数枚のウエハを収納した状態でロ
ードロック装置内の排気を行うので全体の処理からみれ
ば、ロードロック装置の排気に要する時間を枚葉式の場
合に比べて短縮でき、従ってスループットの向上を図る
ことができる上、位置合わせ装置が不要になることから
その分装置全体の小形化を図ることができる。しかもウ
エハの回転によって得られた情報に基づいて位置ずれを
検出しているので、TVカメラなどの大掛かりな装置を
用いなくて済み、ロードロック装置の大型化を抑えるこ
とができる。
【0041】また請求項2の発明によれば、ロードロッ
ク装置で検出したウエハの位置ずれを、例えば真空雰囲
気の処理槽内の搬送機構により修正しているため、搬送
と位置ずれの修正とを同時に行うことができ、スループ
ットを一層向上することができると共に、ウエハが置か
れている最終位置例えば先述したターンテーブルに近い
ところで位置ずれを修正しているので、精度の高い位置
合わせを実行できる。
ク装置で検出したウエハの位置ずれを、例えば真空雰囲
気の処理槽内の搬送機構により修正しているため、搬送
と位置ずれの修正とを同時に行うことができ、スループ
ットを一層向上することができると共に、ウエハが置か
れている最終位置例えば先述したターンテーブルに近い
ところで位置ずれを修正しているので、精度の高い位置
合わせを実行できる。
【0042】請求項3の発明によれば、複数枚のウエハ
をキャリアに収納した状態で位置ずれを検出できるので
、キャリアから別途設けた位置合わせ装置に搬送する場
合に比べて搬送工程を少なくすることができ、従ってウ
エハのダメージなどの低減やスループットの向上などを
図ることができる。
をキャリアに収納した状態で位置ずれを検出できるので
、キャリアから別途設けた位置合わせ装置に搬送する場
合に比べて搬送工程を少なくすることができ、従ってウ
エハのダメージなどの低減やスループットの向上などを
図ることができる。
【図1】本発明の実施例に係るロードロック装置内の斜
視図である。
視図である。
【図2】図1に示した光学ユニットの構成の説明図であ
る。
る。
【図3】図2に示した受光部とウエハとの位置関係の説
明図である。
明図である。
【図4】図1に示したロードロック装置の作用説明図で
ある。
ある。
【図5】図1に示したロードロック装置の作用説明図で
ある。
ある。
【図6】ウエハキャリアの停止位置制御方法の一例の斜
視図である。
視図である。
【図7】本発明の実施例に係る搬送システムを示す説明
図である。
図である。
【図8】図7に示したロードロック装置の一部の構成例
を示す側面図である。
を示す側面図である。
【図9】イオン注入装置の全体構成を示す説明図である
。
。
【図10】イオン注入装置におけるウエハの搬送システ
ムの従来例を示す説明図である。
ムの従来例を示す説明図である。
4 ロードロックチャンバ
5 ウエハキャリア
6 回転軸
7 光学ユニット
8a レーザ光源
9 受光部
10 演算手段
Claims (3)
- 【請求項1】 ウエハを一の気体雰囲気から他の気体
雰囲気に受け渡す時に、一旦ウエハをロードロック室内
に置いてこの気体雰囲気を他の気体雰囲気と同じまたは
近似した状態にした後他の気体雰囲気に開放するロード
ロック装置において、複数枚のウエハを収納するように
ロードロック室内に配置されたウエハ収納部と、これに
収納されたウエハを保持するための保持部と、これに保
持されたウエハをその面に沿って回転させるための回転
機構と、ウエハの回転により得られた情報に基づいてウ
エハの中心のずれ及び回転角のずれを検出する位置ずれ
検出手段とを設けたことを特徴とするロードロック装置
。 - 【請求項2】 請求項1のロードロック装置と、この
ロードロック装置内のウエハを一枚ずつ他の気体雰囲気
中の所定位置に搬送する搬送機構と、ウエハの中心のず
れ及び回転角のずれを修正した状態でウエハを前記所定
位置に置くように、位置ずれ検出手段の検出結果に基づ
いて前記搬送機構を制御する制御部とを設けたことを特
徴とするウエハの搬送システム。 - 【請求項3】 複数枚のウエハを互いに間隔をおいて
上下方向に重ねた状態で収納するウエハ収納部と、これ
に収納された最上段または最下段に位置するウエハを保
持するための保持部と、この保持部に保持されたウエハ
をその面に沿って回転させる回転機構と、ウエハの回転
により得られた情報に基づいてウエハの中心のずれ及び
回転角のずれを検出する位置ずれ検出手段と、前記ウエ
ハ収納部を保持部に対して相対的に昇降させる昇降機構
とを備え、前記保持部にウエハを保持した状態でウエハ
の中心のずれおよび回転角のずれを検出した後、当該ウ
エハを取り除いて次ぎのウエハを保持することを特徴と
するウエハの位置検出方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087524A JPH04298060A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | ウエハの位置合わせ装置 |
| US07/857,831 US5405230A (en) | 1991-03-26 | 1992-03-26 | Load-lock unit and wafer transfer system |
| DE69206294T DE69206294T2 (de) | 1991-03-26 | 1992-03-26 | Ladungsschleuse und Wafertransportsysteme. |
| KR1019920004984A KR0165555B1 (ko) | 1991-03-26 | 1992-03-26 | 로드록장치 및 웨이퍼의 반송시스템 및 웨이퍼의 위치 검출장치 |
| EP92105207A EP0506044B1 (en) | 1991-03-26 | 1992-03-26 | Load-lock unit and wafer transfer system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087524A JPH04298060A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | ウエハの位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04298060A true JPH04298060A (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=13917386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3087524A Pending JPH04298060A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | ウエハの位置合わせ装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5405230A (ja) |
| EP (1) | EP0506044B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04298060A (ja) |
| KR (1) | KR0165555B1 (ja) |
| DE (1) | DE69206294T2 (ja) |
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| JP2014204017A (ja) * | 2013-04-08 | 2014-10-27 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 被処理体の受容装置 |
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