JPH0429885Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、中央に円形開口を有する円板の表面
処理装置に関するものであり、特に円板の保持装
置に関するものである。

〔従来の技術〕

例えば磁気デイスク盤を製造する際、磁気デイ
スク盤表面に潤滑油被覆処理が行われるが、従来
はその作業は人手によつて行われていた。

〔考案の解決しようとする問題点〕 従つて、人手を要するほか、大量の磁気デイス
ク盤に均一の表面処理を迅速に行うことができず
問題点となつていた。

本考案は、上述の問題点を解決しようとするも
ので、人手を要さず、大量の円板に均一の表面処
理を迅速に行うことができる円板の表面処理装置
を提供することを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は、上記の問題点を解決するための手段
として、キヤリヤの中に、垂直に、互に平行に、
所定の等間隔で、上方に拘束のない状態で保持さ
れた、中心に円形開口を有する複数の円板の表面
処理装置において、前記複数の円板全部の前記円
形開口を貫通する長さを有し、その外径が前記円
形開口より小であり、かつ前記所定の等間隔と同
じ間隔に設けられ、前記円板の厚さより広い幅を
有する複数個の円周溝を有する支持軸と、該支持
軸を、水平に、回転可能に、かつ昇降及び支持軸
に直角方向の水平移動可能に保持する保持機構
と、所定の位置にある前記キヤリヤに収容された
前記円板の円形開口に対し、前記支持軸を相対的
に抜差し可能とする円板挿脱機構と、を備えたこ
とを特徴とする円板の表面処理装置を提供しよう
とするものである。

〔作用〕

本考案は、上述の構成要件を具備することによ
つて、一度に大量の円板を、キヤリヤから支持軸
に移して円板相互間に所定の等間隔をあけた状態
で支持軸に嵌挿保持せしめ、円板を保持した支持
軸を適宜移動させて円板に所期の表面処理を行い
表面処理終了後は再びキヤリヤに戻すことができ
る。従つて、大量の円板に均一の表面処理を迅速
に、人手を要さず、行うことができる。

〔実施例〕

本考案を、磁気デイスク盤に潤滑油を塗布する
表面処理装置に適用した実施例につき、図面を用
いて説明する。

第１図及び第２図において、円板としての磁気
デイスク盤３を複数嵌挿保持可能の支持軸１は、
保持機構としての昇降スライダ４と横行スライダ
５を介して、台盤７に突設した支柱６に設けられ
ている。

横行スライダ５は、支持軸１に直交する方向で
かつ水平方向に移動可能に、支柱６との間にガイ
ド部材１１を介在させて配備され、横行駆動部
（図示せず）を備えている。

昇降スライダ４は、軸心を中心として回転可能
の支持軸１を水平に備え、鉛直方向に移動可能に
横行スライダ５との間にガイド部材１２を介在さ
せて配備され、昇降駆動部（図示せず）を備えて
いる。

支持軸１の回転駆動部１３は昇降スライダ４に
搭載されており、駆動軸と支持軸１とは伝達部材
１４で接続されている。

台盤７には、支持軸１に相対的に磁気デイスク
盤３群を挿脱する円板挿脱機構としてのコンベヤ
１０と、潤滑液を貯留した処理液槽８が、横行ス
ライダ５の移動方向に並べて設けられており、前
記横行スライダ５は支持軸１をコンベヤ１０と処
理液槽８との間を移動可能としたものであり、昇
降スライダ４は支持軸１を、磁気デイスク盤３群
挿脱高さ、横行移動・乾燥高さ、潤滑液浸漬高さ
に、移動可能としたものである。

磁気デイスク盤３群のキヤリヤ９は、磁気デイ
スク盤３群を、鉛直に、互に平行に、同一中心軸
上に、所定の等間隔で、上方に拘束がなく、支持
軸１の、キヤリヤ９外から磁気デイスク盤３群の
円形開口への相対的挿脱の可能な状態として保持
するもので、支持軸１と磁気デイスク盤３群との
相対的挿脱が可能の向きと位置をもつて、支持軸
１と平行の方向を搬送方向としたコンベヤ１０上
に載置されるものである。

次に支持軸１について第３〜５図を用いて説明
する。

磁気デイスク盤３群の中心の円形開口に挿通し
て磁気デイスク盤３群を支持する支持軸１は、樹
脂製で、前記キヤリヤ９に保持された全部の磁気
デイスク盤３群の円形開口を貫通する長さと外径
を有し、外周には、磁気デイスク盤３を支持軸１
と直交状態に係止する円周方向の円周溝２が、キ
ヤリヤ９での磁気デイスク盤３群の所定の等間隔
と等しい間隔を軸方向にあけてキヤリヤ９に保持
された磁気デイスク盤３群と同じ数だけ設けられ
ている。

円周溝２は、磁気デイスク盤３の厚さより若干
広い幅の溝底部等幅部と、溝の開口に向かつて溝
幅が漸増するように溝両側壁をテーパー面として
形成した溝入口部テーパー部とからなるテーパー
溝で、磁気デイスク盤３が円周溝２に嵌入し易い
ようにしてある。

例えば直径3.75″の磁気デイスク盤３を処理す
るときは、円形開口の内径は25mmであるから、支
持軸１の外径は20mmが適当である。そして、円周
溝２の外径は14mmとするのがよい。このような寸
法を選択すると、支持軸１を水平に設置して軸を
水平に磁気デイスク盤３に挿通したとき、支持軸
１は磁気デイスク盤３の円形開口に容易に挿通さ
れ、支持軸１を持ち上げたとき磁気デイスク盤３
は円周溝２によつて第５図のように吊下され所定
の間隔で垂直に保持される。

そして、円周溝２の形状を上記のような形状、
寸法とすることにより、150〜200rpm程度の早さ
で支持軸１を回転させてもデイスク盤３は相互に
接触せず、キズを付けずに処理することができ
る。

しかして、例えば50枚の磁気デイスク盤をセツ
トされたキヤリヤ９は図面左端の取り入れ位置か
ら、コンベヤ１０により、支持軸１に向かつて前
進する。キヤリヤ９が支持軸１の位置に達する
と、支持軸１は磁気デイスク盤３の円形開口に挿
通し、磁気デイスク盤３は串差しとなりコンベヤ
１０は停止する。

そこで昇降スライダ４が上昇し始めると、50枚
の磁気デイスク盤３は支持軸１の円周溝２に吊下
される形でセツトされる。昇降スライダ４は、横
行スライダ５の上端に達し、ついで横行スライダ
５は横に移動して処理液槽８の上方に達する。

ついで横行スライダ５は下降を開始し、磁気デ
イスク盤３の下端が処理液内に半分浸漬した位置
（第２図Ａ位置）で停止する。そして、支持軸１
が回転駆動部１３により回転すると磁気デイスク
盤３も回転し、表面に処理液を被覆することがで
きる。

一定の処理時間が経過すると昇降スライダ４が
上昇を始め、磁気デイスク盤３は回転しながら、
液中から離れ、空中での液切り乾燥作業へと移行
する（第２図Ｂ位置）。このとき支持軸１を適当
な回転速度で回転させることにより磁気デイスク
盤３も同じ速度で回転し、磁気デイスク盤３の表
面を処理液によつて均一に被覆することができ
る。

乾燥時間が経過すると、横行スライダ５をコン
ベヤ１０の上方に移動させた後昇降スライダ４は
下降して元の位置へ戻り、待機していたキヤリヤ
９へ磁気デイスク盤50枚を戻す。そこで、コンベ
ヤ１０が逆転してキヤリヤ９を取出位置へ戻す。

以上の実施例においては、円板挿脱機構として
コンベヤ１０を用いてキヤリヤ９を移動させた
が、キヤリヤ９を固定として支持軸１を軸方向移
動可能としてもよい。例えば、支持軸１が昇降ス
ライダ４に対して軸方向に移動可能なように、シ
リンダ等の駆動部を円板挿脱機構として支持軸１
に連絡配備することができる。

〔考案の効果〕

本考案により、一度に多数の円板の均一な表面
処理を人手を要さず迅速に行うことができる円板
の表面処理装置を提供することができ、実用上、
顕著な効果を奏することができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の実施例を示し、第１図は第２図
−線矢視側面図、第２図は正面図、第３図は
支持軸の縦断面図、第４図は円周溝の拡大側面
図、第５図は磁気デイスク盤を保持した状態の支
持軸の縦断面図である。 １……支持軸、２……円周溝、３……磁気デイ
スク盤、４……昇降スライダ、５……横行スライ
ダ、６……支柱、７……台盤、８……処理液槽、
９……キヤリヤ、１０……コンベヤ、１１……ガ
イド部材、１２……ガイド部材、１３……回転駆
動部、１４……伝達部材。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 キヤリヤの中に、垂直に、互に平行に、所定の
   等間隔で、上方に拘束のない状態で保持された、
   中心に円形開口を有する複数の円板の表面処理装
   置において、 前記複数の円板全部の前記円形開口を貫通する
   長さを有し、その外径が前記円形開口より小であ
   り、かつ前記所定の等間隔と同じ間隔に設けら
   れ、前記円板の厚さより広い幅を有する複数個の
   円周溝を有する支持軸と、 該支持軸を、水平に、回転可能に、かつ昇降及
   び支持軸に直角方向の水平移動可能に保持する保
   持機構と、 所定の位置にある前記キヤリヤに収容された前
   記円板の円形開口に対し、前記支持軸を相対的に
   抜差し可能とする円板挿脱機構と、 を備えたことを特徴とする円板の表面処理装置。