JPH0429904Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 考案の分野 この考案は、例えばフロン溶剤としてR113（Ｒ
−113にエタノール等を混合した溶剤を含む）を
用い、半導体や電子機器その他のワークを洗浄す
るようなフロン洗浄装置に関する。

(ロ) 従来技術 従来、上述例の半導体や電子機器その他の各種
ワークの洗浄には、毒性が極めて少なく、化学的
にも安定していて、かつ洗浄物に損傷を与える心
配が全くないフロン溶剤、たとえば、R113が用
いられている。

しかし、フロンR113は、その沸騰点が47.6℃
と低いため、洗浄中にフロン蒸気が大気中に流出
することがある。

このようなフロン蒸気の流出を防止し、同フロ
ン蒸気中より発生したガスを回収するため、従来
においては活性炭（アクテイブカーボン）をハニ
カム状（ハチの巣状）に成形した吸着ロータを有
する活性炭吸着装置などの大型の回収装置が用い
られていたが、管理が煩雑なうえ、コスト高とな
り、加えてフロン洗浄装置とのユニツト化が困難
となる等の諸種の問題点を有していた。

(ハ) 考案の目的 この考案は、フロンガスを高濃度領域から強制
的に引込み、多孔質フイルタ内を通過させて微小
ガス泡と成し、液との接触面積の増大を図つて、
フロンガス回収効率と、回収したフロンガスの液
化効率の大幅な増大を図り、フロン溶剤の消費量
低減、ワークによるフロン持出し量の低減を図
り、加えて、洗浄機とのユニツト化が容易で、装
置コストの低減を図ることができるフロン洗浄装
置の提供を目的とする。

(ニ) 考案の構成 この考案は、フロン洗浄槽上方に冷却ジヤツケ
ツトを配設したフロン洗浄装置であつて、上記冷
却ジヤツケツトの近傍上部に高濃度フロンガスを
吸引する吸引口を設け、上記吸引口に接続した吸
引路をエアポンプに接続する一方、内部にフロン
ガス冷却液化用の蒸発器を配設した回収槽を設
け、該回収槽のフロン液中に多孔質フイルタを配
設すると共に、上記エアポンプの吐出側を上記多
孔質フイルタに連通させたフロン洗浄装置である
ことを特徴とする。

(ホ) 考案の作用 この考案によれば、被洗浄用ワークの移動によ
り、上方に流動して大気中に流出しようとするフ
ロン蒸気中より発生したガス（以下単にフロンガ
スと略記する）は、上述のエアポンプの駆動によ
り冷却ジヤケツトの近傍上部の吸引口から強制的
に吸引される。

しかも、この吸引部位はフロンガスの高濃度領
域から吸引され、上述の吸引口に吸引されたフロ
ンガスは吸引路、エアポンプを介して回収槽液中
の多孔質フイルタに導入される。

フロンガスを上述の多孔質フイルタ内を通過さ
せることで、該フロンガスは微小ガス泡となつて
回収槽のフロン液に接するので、気液接触面積が
大幅に増加する。

(ヘ) 考案の効果 この結果、フロンガス回収効率と、回収された
フロンガスの液化効率との大幅な増大を図ること
ができる効果があり、フロン溶剤の消費量低減お
よびワークによるフロン持出し量の低減を図るこ
とができる。

加えて、簡単な装置および配管を付加すること
で、フロン洗浄槽に容易に取付けることができる
ので、ユニツト化が可能となり、従来のように大
型の回収装置が不要となるので装置コストの低減
を図ることができる効果がある。

(ト) 考案の実施例 この考案の一実施例を以下図面に基づいて詳述
する。

図面はフロン洗浄装置を示し、図面において、
上面を広く開口したワーク出入口１を有するフロ
ン洗浄槽２を設けている。

このフロン洗浄槽２は、内部にヒータ３を配設
した煮沸槽４と、シヤワー槽または超音波槽など
の処理槽５と、水分離槽６とを備えている。

上述の各槽４，５，６をそれぞれ流下仕切板
７，８で仕切ると共に、これら各槽４，５，６内
には化学式CC₂Ｆ・CCF₂で示されるフロン
溶剤としてのR113（化学式１，１，２−トリクロ
ル−１，２，２−トリフルオルエタン）を貯溜し
ている。

また上述の水分離槽６の上部にフロンガス凝縮
用の冷却コイル９を配置すると共に、フロン洗浄
槽２の上部には、同槽２の略全長にわたつて冷却
ジヤケツト１０を水平に配設している。

この冷却ジヤケツト１０の冷却源としては冷媒
による冷凍装置やチラー（冷水発生装置）を用い
ることができる。つまり、冷却ジヤケツト１０の
表面温度を約12〜０℃に保温する構造であればよ
い。

ところで、前述のフロン洗浄槽２におけるフロ
ン蒸気層１１の側部、詳しくは前述の冷却ジヤケ
ツト１１配設位置の側部には、フロンガスを温度
差により吸引する略Ｌ字状の吸気ダクト１２の上
端開口部１３を臨ませている。

この吸気ダクト１２はその下端開口部１４を回
収槽１５内部の上域に連通させると共に、この回
収槽１５の内部には後述する冷凍機１６の蒸発器
１７いわゆるエバポレータを配設している。

ここで、上述の回収槽１５は水分離槽６下方の
余剰スペース部分に配置され、フロン洗浄槽２全
体の小型コンパクト化を図つている。

上述の冷凍機１６はフロンＲ−11、Ｒ−12、Ｒ
−22等の冷媒を用いる冷凍機で、この冷凍機１６
は圧縮機１８の吐出側に凝縮器１９、受液器２
０、液電磁弁２１、膨張機構としての膨張弁２２
を介して上述の蒸発器１７を接続し、この蒸発器
１７の後位をアキユームレータ２３を介して圧縮
機１８の吸引側に接続した冷凍サイクルである。

そして、上述の冷凍機１６は周知の如く、圧縮
機１８の駆動により、同圧縮機１８で圧縮され高
圧となつた冷媒が、凝縮器１９に送られ、ここで
液化して受液器２０に至つた後に、この高圧冷媒
液は液電磁弁２１を介して膨張弁２２に導びか
れ、この弁２２で絞り膨張されて低圧となつた冷
媒は蒸発器１７内に入り、周囲より熱を奪つて蒸
発して蒸発ガスとなり、アキユムレータ２３を介
して再び圧縮機１８に吸い込まれる。

上述の冷凍機１６は回収槽１５に配設した温度
センサ（図示せず）により駆動制御され、この冷
凍機１６のうち、被冷却体より熱を奪い取る蒸発
器１７の作用で、回収槽１５内のフロン液の液温
を常にマイナス10℃以下に保持すべく構成してい
る。

ところで、前述の冷却ジヤケツト１０の近傍上
部には、高濃度フロンガスを吸引する吸引口２
４，２４を開口している。

上述の吸引口２４，２４はフロン洗浄槽２を形
成するハウジングの正面側および背面側に設けら
れ、これらの各吸引口２４，２４は吸引路２５，
２５を介してエアポンプ２６の吸引ポートに接続
されている。

また、上述のエアポンプ２６の吐出ポートには
回収路２７を接続し、この回収路２７の先端を、
回収槽１５内におけるフロン液中に浸漬させた焼
結金属製の多孔質フイルタ２８に連通させてい
る。

さらに、上述の多孔質フイルタ２８と前述の蒸
発器１７との間には断面略Ｖ字状のパツフルプレ
ート２９を介設している。

さらにまた、上述の回収槽１５と水分離槽６と
の間には液体ポンプ３０を介設したリータン路３
１を接続して、回収したフロン液を再利用すべく
構成している。

図示実施例は上記の如く構成するものにして、
以下作用を説明する。

いま前述の煮沸槽４に介設したヒータ３に通電
すると、R113が加熱され、液面と冷却ジヤケツ
ト１０との間には前述のフロン蒸気層１１が形成
される。

そこで、前述のワーク出入口１からフロン蒸気
層１１を介して被洗浄物としてのワークを各層
４，５に順次浸漬操作すると、このワークのフロ
ン洗浄が行なわれ、かつワークを取出すとき、同
ワークはフロン蒸気層１１のフロン蒸気により蒸
気洗浄および加熱されて乾燥時間の短縮を図る。

ところで、上述のワークの上方へ移動時にフロ
ン蒸気中より発生したガスは上方へ流動して大気
中に流出しようとするが、このフロン蒸気中より
発生したガスは＋47.6℃と−10℃以下との温度差
に起因し、凝縮液化による体積縮小によつて吸気
ダクト１２の上端開口部１３から回収槽１５内へ
吸込まれ、この回収槽１５内へ流下したフロン蒸
気は、蒸発器１７の作用によつて冷却液化され
る。

しかも、上述のエアポンプ２６の駆動により冷
却ジヤケツト１０の近傍上部の吸引口２４，２４
から高濃度のフロンガスを強制的に吸引すること
ができ、上述の吸引口２４，２４から吸引された
高濃度フロンガスは吸引路２５、エアポンプ２
６、回収路２７を介して、上述の回収槽１５液中
の多孔質フイルタ２８に導入される。

フロンガスを上述の多孔質フイルタ２８内を通
過させることで、該フロンガスは微小ガス泡とな
つて回収槽１５の−10℃以下のフロン液に接する
ので、上述のフロンガスは全て凝縮液化される。

また、上述の多孔質フイルタ２８と蒸発器１７
との間にはバツフルプレート２９を介設している
ので、フロンガスの微小ガス泡とフロン液との気
液接触効率をより一層高めることができる。

この結果、フロンガス回収効率と、回収された
フロンガスの液化効率との大幅な増大を図ること
ができる効果があり、フロン溶剤の消費量低減お
よびワークによるフロン持出し量の低減を図るこ
とができる。

上述のフロンガス回収の全量に対して吸気ダク
ト１２からの回収量は約1/3、エアポンプ系路か
らの回収量は約2/3となる。また上述の如くして
回収冷却液化されたフロン液は、液体ポンプ３０
の駆動によりリターン路３１を介して水分離槽６
上部に還流し、再利用に供される。

なお、上記実施例においてはフロン溶剤として
フロンR113を例示したが、上述のフロンＲ−113
にエタノールを４重量％混合した混合溶剤やフロ
ンＲ−113にエチレンクロライドを50重量％混合
した混合溶剤等を洗浄用途に応じて用いることは
勿論である。つまりフロンＲ−113をベースにし
たその他のフロン溶剤であってもよいことは云う
までもない。

【図面の簡単な説明】

図面はこの考案の一実施例を示すフロン超音波
洗浄装置の系統図である。 ２……フロン洗浄槽、１０……冷却ジヤケツ
ト、１５……回収槽、１７……蒸発器、２４……
吸引口、２５……吸引路、２６……エアポンプ、
２８……多孔質フイルタ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 フロン洗浄槽上方に冷却ジヤケツトを配設した
   フロン洗浄装置であつて、 上記冷却ジヤケツトの近傍上部に高濃度フロン
   ガスを吸引する吸引口を設け、 上記吸引口に接続した吸引路をエアポンプに接
   続する一方、内部にフロンガス冷却液化用の蒸発
   器を配設した回収槽を設け、 該回収槽のフロン液中に多孔質フイルタを配設
   すると共に、 上記エアポンプの吐出側を上記多孔質フイルタ
   に連通させた フロン洗浄装置。