JPH04309283A - セラミック配線基板の製造方法 - Google Patents

セラミック配線基板の製造方法

Info

Publication number
JPH04309283A
JPH04309283A JP7484991A JP7484991A JPH04309283A JP H04309283 A JPH04309283 A JP H04309283A JP 7484991 A JP7484991 A JP 7484991A JP 7484991 A JP7484991 A JP 7484991A JP H04309283 A JPH04309283 A JP H04309283A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
ceramic wiring
metal plate
ceramic
brazing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP7484991A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Hatori
泰郎 羽鳥
Yoshitaka Fukuoka
義孝 福岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7484991A priority Critical patent/JPH04309283A/ja
Publication of JPH04309283A publication Critical patent/JPH04309283A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミック配線基板の
製造方法に係り、特に放熱機能および機械的な固定可能
に金属板を備えたセラミック配線基板の製造方法に関す
る。
【0003】
【従来の技術】たとえば、電子機器類の小形化や回路機
能の向上などに対応して、電子部品を一主面に搭載・実
装するセラミック配線基板においては、機械的に精度よ
く所定位置に回固定し得るとともに、放熱性を考慮して
前記電子部品を搭載・実装しない他主面にたとえばCu
/W板を一体的にロー付けしたものが使用されている。   たとえば機械的な位置精度および固定性、耐震動性
など要求されるセラミックモジュールは、図1に概略構
成を平面的に、また図2に断面的に示すような構成を成
しており、次のようにして製造されている。先ず、一主
面に少なくとも所要の導体パターン1を有する大型で異
形なセラミック配線板2を用意し、部品を搭載しない他
主面(裏面)メタライズ層3を形成する。一方、前記異
形なセラミック配線板2の外形サイズより大きく、たと
えば四隅に固定用ボルトネジを挿入する固定用の透孔4
が設けられ、また機械加工公差に加工されNiめっき処
理の施されたCu/W系の金属板5を用意する。
【0004】しかる後、前記セラミック配線板2のメタ
ライズ層3が形成されている他主面(裏面)に、Cu/
W系の金属板5の一主面を位置合わせして配置し、周縁
部をたとえばAgロー付け(800℃程度)6すること
によって一体化し、所要のセラミック配線基板7を構成
する。次いで、この異形なセラミック配線基板7主面に
、所要の電子部品8を搭載・実装してから、前記セラミ
ック配線基板7の一主面に予め設けておいたウエルドリ
ング9に、メタルキャップ10の開口端縁部10a を
たとえばレーザービームによって溶接し、気密に封止す
ることによって、セラミックモジュールを製造している
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記構成のセラミック
モジュールの場合は、他主面(裏面)に一体的に配設し
たCu/W系の金属板5によって、機械的固定が可能に
なるとともに、放熱性機能も向上するので、電子部品8
として高速素子や高発熱性素子などを高密度に実装し得
ることになり、セラミックモジュールの大型化が可能に
なるという利点がある。しかし、一方では次のような問
題がある。すなわち、前記製造方法において、金属板5
としてたとえば厚さ1.5mm 程度のCu/W板を、
一般的な加工公差たとえば平面度0.1mm 程度に仕
上げたものを用いても、大型化したセラミック配線板2
にAgロー付け(800℃程度)6すると、セラミック
配線板2との熱膨張差などによって引っ張られ(反りや
ウネリを生じ)、平面度が0.2mm 以上になる。特
に、セラミックモジュールとしての実装スペースを最大
限に活用し得る図1に図示する異形で大型の場合は、前
記反りやウネリの生じに伴い平面度が0.3mm以上に
なる。
【0006】前記金属板5の平面度低下に伴い、構成し
たセラミックモジュールを取り付け面にネジ止めして固
定する場合、その固定作業中にセラミック配線板2にク
ラックが発生することがしばしばある。また、固定後に
おいても振動や衝撃試験で、セラミック配線板2にクラ
ックが発生し易い傾向が認められる。このようなセラミ
ックモジュールにおける不具合を解消するため、前記取
り付け面にネジ止めして固定する際、取り付け面との間
に適宜スペーサーを介挿させざるを得ないので、放熱性
が損なわれることになる。
【0007】本発明は上記事情に対処してなされたもの
で、セラミック配線板が異形で大型の場合でも、一体化
された金属板が良好な平面度を呈し、取り付け面にネジ
止めして固定する場合などもクラックを発生する恐れの
低減されたセラミック配線基板を容易に得ることのでき
る製造方法の提供を目的とする。
【0008】[発明の構成]
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係るセラミック
配線基板の製造方法は、少なくとも所要の回路パターン
を有するセラミック配線板の部品を搭載しない裏面に、
このセラミック配線板よりもサイズが大でかつ固定用の
透孔が端縁部に設けられた金属板をロー付け一体化する
工程と、前記ロー付け一体化した金属板の露出する主面
(裏面)を研磨加工して平面化する工程と、前記研磨加
工した金属面にNiめっきおよび金めっきを順次施す工
程とを具備することを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明に係るセラミック配線基板の製造方法に
おいては、セラミック配線板にロー付け一体化した金属
板の露出する主面(裏面)を研磨加工して平面化するし
、平面に研磨加工した金属面へさらにNiめっきおよび
金めっきを順次施している。つまり、Agロー付けなど
によって生じた反りやウネリに伴い低下した平面度は、
研磨加工やNiめっきおよび金めっき処理によって解消
され、再び所望のすぐれた平面度を呈するに至る。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【0012】先ず、金型あるいはNC加工によって所要
のビアホールなど形成された、前記図1などに示された
ような、異形のグリーンシートを用意する。次いでこの
クリーント面に、たとえば印刷法によって導電性ペース
トを印刷し、所定の導電パターン1を形成し乾燥させる
。しかる後、このグリーンシート複数枚を位置合わせし
て積層し、一体的焼結(焼成)して厚さ1.5 〜2.
0 mm程度の異形のセラミック配線板2を得た。
【0013】前記で得た異形のセラミック配線板2の裏
面、つまりIC素子などの電子部品8を搭載・実装する
面と反対の面をメタライズ3化し、さらにそのメタライ
ズ3化面にNiめっき層を被着形成した。さらに、電子
部品8を搭載・実装する面には、メタルキャップ10の
開口端縁部10a がロー付けされるウエルドリング9
を被着形成した。
【0014】一方、前記異形のセラミック配線板2より
も外形サイズがやや大きく、また四隅に機械加工によっ
て固定用の透孔4を穿設した、たとえば厚さ1.5mm
 程度のCu/W板5を用意した。このCu/W板5は
、平面度0.1mm に加工されており、また、少なく
とも裏面に、換言するとセラミック配線板2の裏面と対
接させない面に、Niめっき層が被着形成してある。
【0015】このようにして、一主面に少なくとも所要
の導体パターン1を有する大型で異形なセラミック配線
板2と、前記異形なセラミック配線板2の外形サイズよ
り大きく、たとえば四隅に固定用ボルトネジを挿入する
固定用の透孔4が設けられ、また機械加工公差に加工さ
れNiめっき処理の施されたCu/W系の金属板5とを
用意した後、これらセラミック配線板2およびCu/W
系の金属板5を位置合わせして、セラミック配線板2の
周縁部をCu/W系の金属板5面に、たとえばAgロー
付け(800 ℃)6して、両者を一体化した。この状
態では、前記一体化されたセラミック配線板−Cu/W
系の金属板の金属板5に反りやウネリなどが生じ、平面
度が0.25mm程度になっていた。
【0016】しかる後、前記一体化した異形なセラミッ
ク配線基板7のCu/W系の金属板5面を、たとえば回
転研磨機で研磨処理して平面化(平坦化)して、前記セ
ラミック配線板−Cu/W系の金属板5のロー付け6、
一体化で生じた反りやウネリを解消した。この研磨加工
後、その加工面にNiめっき処理およびAuめっき処理
を順次施して、耐蝕性などを付与した所望の異形なセラ
ミック配線基板7を得た。  このような構成を成す異
形なセラミック配線基板7は、高機能ないし大容量化を
要求されるセラミックモジュールの構成に適する。すな
わち、前記一体化した異形なセラミック配線基板7の主
面に、所要の電子部品8を高密度に搭載・実装し得るし
、またこの主面に予め設けておいたウエルドリング9に
、メタルキャップ10の開口端縁部10a をたとえば
レーザービームによって溶接し、気密に封止することに
よって、所望のセラミックモジュールを構成することが
できる。 しかも、前記セラミック配線基板7のCu/W系の金属
板5面は、放熱に大きく寄与するばかりでなく、平面度
も良好であるため、固定作業などにおいてセラミック配
線板2が破損するようなことも大幅に低減・解消する。
【0017】なお、上記では異形なセラミック配線基板
の製造例について説明したが、異形なセラミック配線基
板に限定されるものでなく、比較的大型な方形のセラミ
ック配線基板の製造にも適用し得る。さらに、一体化さ
れる金属板もCu/W系以外のものであってもよい。
【0018】
【発明の効果】上記のように、本発明に係るセラミック
配線基板の製造方法によれば、セラミック配線板の裏面
側に一体化された金属板の反りやウネリなどを除去ない
し解消し、最終的にその平面度が大幅に向上・改善され
る。したがって、取り付け・固定作業中もしくは固定後
において、振動や衝撃によってセラミック配線基板にク
ラックが生じる恐れも全面的に解消されるばかりでなく
、すぐれた放熱性などを保持・発揮する。かくして本発
明に係るセラミック配線基板の製造方法は、信頼性の高
いセラミックモジュールの構成に、大きく寄与するもの
といえる。
【図面の簡単な説明】
【図1】セラミックモジュールの構造例を示す平面図。
【図2】セラミックモジュールの構造例の要部を示す断
面図。
【符号の説明】
1…導電パターン    2…セラミック配線板   
 3…メタライズ層    4…固定用透孔    5
…金属板    6…ロー付け    7セラミック配
線基板    8…電子部品    9…ウエルドリン
グ    10…メタルキャップ    10a …メ
タルキャップの開口端縁部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  少なくとも所要の回路パターンを有す
    るセラミック配線板の部品を搭載しない裏面に、このセ
    ラミック配線板よりもサイズが大でかつ固定用の透孔が
    端縁部に設けられた金属板をロー付け一体化する工程と
    、前記ロー付け一体化した金属板の露出する主面(裏面
    )を研磨加工して平面化する工程と、前記研磨加工した
    金属面にNiめっきおよび金めっきを順次施す工程とを
    具備することを特徴とするセラミック配線基板の製造方
    法。
JP7484991A 1991-04-08 1991-04-08 セラミック配線基板の製造方法 Withdrawn JPH04309283A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7484991A JPH04309283A (ja) 1991-04-08 1991-04-08 セラミック配線基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7484991A JPH04309283A (ja) 1991-04-08 1991-04-08 セラミック配線基板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04309283A true JPH04309283A (ja) 1992-10-30

Family

ID=13559177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7484991A Withdrawn JPH04309283A (ja) 1991-04-08 1991-04-08 セラミック配線基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04309283A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107211531A (zh) * 2015-02-10 2017-09-26 大陆泰密克微电子有限责任公司 电子部件以及用于生产电子部件的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107211531A (zh) * 2015-02-10 2017-09-26 大陆泰密克微电子有限责任公司 电子部件以及用于生产电子部件的方法
JP2018512724A (ja) * 2015-02-10 2018-05-17 コンティ テミック マイクロエレクトロニック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングConti Temic microelectronic GmbH 電子コンポーネントおよびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3934074A (en) Ceramic circuit board mounted in housing and method of fabrication thereof
EP1453089B1 (en) Semiconductor substrates of high reliability
US4681656A (en) IC carrier system
US6284985B1 (en) Ceramic circuit board with a metal plate projected to prevent solder-flow
US7820916B2 (en) Composite ceramic substrate
JPH10190176A (ja) 回路基板
KR102335531B1 (ko) 세라믹 기판 제조 방법
JPS615596A (ja) 回路基板の製造方法およびこれに使用する回路パタ−ンフレ−ム
US5669136A (en) Method of making high input/output density MLC flat pack
JPH04309283A (ja) セラミック配線基板の製造方法
JPH0582929A (ja) セラミツクス・樹脂複合配線基板
JP2002093931A (ja) 高周波用セラミックパッケージ
JP2737712B2 (ja) チップキャリアとその製造方法および素子のマウント方法
JPH0787223B2 (ja) プリント基板及びその製造方法
CN116544337B (zh) 一种金属化陶瓷封装基板及其制作方法
JP3248294B2 (ja) チップインダクタ及びその製造方法
JP2004207592A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2001230350A (ja) 放熱用金属板の製造方法
JP4557786B2 (ja) 多数個取り配線基板
JPH0629108A (ja) 超小形チップ部品用絶縁基板
JPH08203773A (ja) チップ型積層セラミックコンデンサの製造方法
JP2000077583A (ja) 電子部品用パッケージおよびその製造方法
JP4115377B2 (ja) 配線基板の製造方法
JP4303539B2 (ja) 多数個取り配線基板
JPH11297909A (ja) 放熱用金属板およびそれを用いた電子部品用パッケージ

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19980711