JPH04311023A - アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法Info
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- JPH04311023A JPH04311023A JP3076157A JP7615791A JPH04311023A JP H04311023 A JPH04311023 A JP H04311023A JP 3076157 A JP3076157 A JP 3076157A JP 7615791 A JP7615791 A JP 7615791A JP H04311023 A JPH04311023 A JP H04311023A
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- foil
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルミ電解コンデンサ用
電極箔の製造方法に関し、特に中高圧用の陽極アルミニ
ウム箔のエッチング技術に関するものである。
電極箔の製造方法に関し、特に中高圧用の陽極アルミニ
ウム箔のエッチング技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、セットの小型化,高信頼性化に伴
い、アルミ電解コンデンサに対するユーザーからのニー
ズ(小型化,コストダウン)が急速に高まっているため
、アルミ電解コンデンサ用電極箔(以下電極箔と記す)
も従来以上に単位面積当りの容量を高める必要が生じて
いる。
い、アルミ電解コンデンサに対するユーザーからのニー
ズ(小型化,コストダウン)が急速に高まっているため
、アルミ電解コンデンサ用電極箔(以下電極箔と記す)
も従来以上に単位面積当りの容量を高める必要が生じて
いる。
【0003】以下に従来の電極箔の製造方法について説
明する。電極箔はアルミ電解コンデンサの小型化を図る
ために、アルミニウム箔を電気化学的、あるいは化学的
にエッチングして有効表面積を拡大したものが使用され
ている。この表面積を拡大するために種々のエッチング
方法が研究されているが、従来は図5に示すように、巻
出しローラー1に巻かれたアルミニウム生箔2を複数個
の槽上ローラー3と槽内ローラー4により数種類の異な
るエッチング処理槽5,6内に連続的に挿入し、そして
アルミニウム生箔2が1回目のエッチング処理槽5内に
入ると直ちにアルミニウム生箔2に電流印加用のローラ
ー7と電流印加用の極板8によって電流が印加されてア
ルミニウム生箔2の表面積を電気化学エッチングにより
拡大し、さらにこのエッチング処理されたアルミニウム
箔9が2回目のエッチング処理槽6内に入ると直ちに電
流印加用のローラー7aと電流印加用の極板8aによっ
てこのアルミニウム箔9に電流が印加されてアルミニウ
ム箔9の表面積は電気化学エッチングによりさらに拡大
され、その後、最終にアルミニウム箔9の洗浄を行うこ
とにより、電極エッチング箔を製造するようにしていた
。
明する。電極箔はアルミ電解コンデンサの小型化を図る
ために、アルミニウム箔を電気化学的、あるいは化学的
にエッチングして有効表面積を拡大したものが使用され
ている。この表面積を拡大するために種々のエッチング
方法が研究されているが、従来は図5に示すように、巻
出しローラー1に巻かれたアルミニウム生箔2を複数個
の槽上ローラー3と槽内ローラー4により数種類の異な
るエッチング処理槽5,6内に連続的に挿入し、そして
アルミニウム生箔2が1回目のエッチング処理槽5内に
入ると直ちにアルミニウム生箔2に電流印加用のローラ
ー7と電流印加用の極板8によって電流が印加されてア
ルミニウム生箔2の表面積を電気化学エッチングにより
拡大し、さらにこのエッチング処理されたアルミニウム
箔9が2回目のエッチング処理槽6内に入ると直ちに電
流印加用のローラー7aと電流印加用の極板8aによっ
てこのアルミニウム箔9に電流が印加されてアルミニウ
ム箔9の表面積は電気化学エッチングによりさらに拡大
され、その後、最終にアルミニウム箔9の洗浄を行うこ
とにより、電極エッチング箔を製造するようにしていた
。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の電極箔の製造方法においては、アルミニウム生
箔2が1回目のエッチング処理槽5内に入ると直ちにア
ルミニウム生箔2に電流印加用のローラー7と電流印加
用のローラー8によって電流が印加されるため、アルミ
ニウム生箔2の表面の不均一性の影響を受けやすくなっ
てエッチピット分布が不均一になり、これにより隣接す
るピット同志がつぶしあって有効表面積が拡大されない
という問題点を有していた。
た従来の電極箔の製造方法においては、アルミニウム生
箔2が1回目のエッチング処理槽5内に入ると直ちにア
ルミニウム生箔2に電流印加用のローラー7と電流印加
用のローラー8によって電流が印加されるため、アルミ
ニウム生箔2の表面の不均一性の影響を受けやすくなっ
てエッチピット分布が不均一になり、これにより隣接す
るピット同志がつぶしあって有効表面積が拡大されない
という問題点を有していた。
【0005】本発明はこのような問題点を解決するもの
で、均一なエッチピット分布を有し、静電容量のアップ
がはかれるアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法を
提供することを目的とするものである。
で、均一なエッチピット分布を有し、静電容量のアップ
がはかれるアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法を
提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
は、アルミ電解コンデンサ用電極生箔に電気化学エッチ
ング処理を施すエッチング処理工程を少なくとも2回設
け、かつ1回目のエッチング処理工程の前に、1回目の
エッチング処理槽内に入っている酸性溶液と同一の酸性
溶液中にアルミ電解コンデンサ用電極生箔を浸漬させる
浸漬工程を設けたものである。
に、本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
は、アルミ電解コンデンサ用電極生箔に電気化学エッチ
ング処理を施すエッチング処理工程を少なくとも2回設
け、かつ1回目のエッチング処理工程の前に、1回目の
エッチング処理槽内に入っている酸性溶液と同一の酸性
溶液中にアルミ電解コンデンサ用電極生箔を浸漬させる
浸漬工程を設けたものである。
【0007】
【作用】上記手段によれば、1回目のエッチング処理工
程の前に、1回目のエッチング処理槽内に入っている酸
性溶液と同一の酸性溶液中にアルミ電解コンデンサ用電
極生箔を浸漬させる浸漬工程を設けているため、この浸
漬によりアルミ電解コンデンサ用電極生箔は酸性溶液で
洗浄されることになり、その結果、電極生箔の圧延オイ
ル,微小な圧延傷,不純物元素,自然酸化皮膜等による
不均一性の影響を受けにくくなるため、エッチピットは
電極生箔に均一に生成されることになり、これにより、
単位面積当りの静電容量の高いアルミ電解コンデンサ用
電極箔を製造することができる。
程の前に、1回目のエッチング処理槽内に入っている酸
性溶液と同一の酸性溶液中にアルミ電解コンデンサ用電
極生箔を浸漬させる浸漬工程を設けているため、この浸
漬によりアルミ電解コンデンサ用電極生箔は酸性溶液で
洗浄されることになり、その結果、電極生箔の圧延オイ
ル,微小な圧延傷,不純物元素,自然酸化皮膜等による
不均一性の影響を受けにくくなるため、エッチピットは
電極生箔に均一に生成されることになり、これにより、
単位面積当りの静電容量の高いアルミ電解コンデンサ用
電極箔を製造することができる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1は本
発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法の一実
施例を示す製造工程図で、巻取りローラー11に巻かれ
たアルミ電解コンデンサ用電極生箔12は、複数個の槽
上ローラー13と槽内ローラー14により数種類の異な
るエッチング処理槽15,16内に連続的に挿入される
が、本発明の一実施例においては、アルミ電解コンデン
サ用電極生箔12が1回目のエッチング処理槽15内で
エッチング処理される前に、1回目のエッチング処理槽
15内に入っている酸性溶液と同一の酸性溶液が入って
いる洗浄槽17を設け、この洗浄槽17内にアルミ電解
コンデンサ用電極生箔12を槽上ローラー13と槽内ロ
ーラー14によって挿入することにより、アルミ電解コ
ンデンサ用電極生箔12を酸性溶液中に浸漬させるよう
にしたものである。
発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法の一実
施例を示す製造工程図で、巻取りローラー11に巻かれ
たアルミ電解コンデンサ用電極生箔12は、複数個の槽
上ローラー13と槽内ローラー14により数種類の異な
るエッチング処理槽15,16内に連続的に挿入される
が、本発明の一実施例においては、アルミ電解コンデン
サ用電極生箔12が1回目のエッチング処理槽15内で
エッチング処理される前に、1回目のエッチング処理槽
15内に入っている酸性溶液と同一の酸性溶液が入って
いる洗浄槽17を設け、この洗浄槽17内にアルミ電解
コンデンサ用電極生箔12を槽上ローラー13と槽内ロ
ーラー14によって挿入することにより、アルミ電解コ
ンデンサ用電極生箔12を酸性溶液中に浸漬させるよう
にしたものである。
【0009】このようにアルミ電解コンデンサ用電極生
箔12を洗浄槽17内の酸性溶液中に浸漬させることに
より、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12は酸性溶液
で洗浄されることになり、これにより、アルミ電解コン
デンサ用電極生箔12の圧延オイル,微小な圧延傷,不
純物元素,自然酸化皮膜等による不均一性の影響を受け
にくくなるため、このアルミ電解コンデンサ用電極生箔
12には、1回目のエッチング処理槽15においてエッ
チピットが均一に生成されるものである。この1回目の
エッチング処理槽15におけるエッチング処理は、アル
ミ電解コンデンサ用電極生箔12が1回目のエッチング
処理槽15内に入ると直ちにアルミ電解コンデンサ用電
極生箔12に電流印加用のローラー18と電流印加用の
極板19によって電流が印加されてアルミ電解コンデン
サ用電極生箔12の表面積を電気化学エッチングにより
拡大し、さらにこのエッチング処理されたアルミ電解コ
ンデンサ用電極箔20が2回目のエッチング処理槽16
内に入ると直ちに電流印加用のローラー18aと電流印
加用の極板19aによってこのアルミ電解コンデンサ用
電極箔20に電流が印加されてアルミ電解コンデンサ用
電極箔20の表面積は電気化学エッチングによりさらに
拡大され、その後、最終にアルミ電解コンデンサ用電極
箔20の洗浄を行うことにより、電極エッチング箔を製
造する。
箔12を洗浄槽17内の酸性溶液中に浸漬させることに
より、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12は酸性溶液
で洗浄されることになり、これにより、アルミ電解コン
デンサ用電極生箔12の圧延オイル,微小な圧延傷,不
純物元素,自然酸化皮膜等による不均一性の影響を受け
にくくなるため、このアルミ電解コンデンサ用電極生箔
12には、1回目のエッチング処理槽15においてエッ
チピットが均一に生成されるものである。この1回目の
エッチング処理槽15におけるエッチング処理は、アル
ミ電解コンデンサ用電極生箔12が1回目のエッチング
処理槽15内に入ると直ちにアルミ電解コンデンサ用電
極生箔12に電流印加用のローラー18と電流印加用の
極板19によって電流が印加されてアルミ電解コンデン
サ用電極生箔12の表面積を電気化学エッチングにより
拡大し、さらにこのエッチング処理されたアルミ電解コ
ンデンサ用電極箔20が2回目のエッチング処理槽16
内に入ると直ちに電流印加用のローラー18aと電流印
加用の極板19aによってこのアルミ電解コンデンサ用
電極箔20に電流が印加されてアルミ電解コンデンサ用
電極箔20の表面積は電気化学エッチングによりさらに
拡大され、その後、最終にアルミ電解コンデンサ用電極
箔20の洗浄を行うことにより、電極エッチング箔を製
造する。
【0010】(表1)はアルミ電解コンデンサ用電極生
箔12が1回目のエッチング処理槽15内でエッチング
処理される前に、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12
を、1回目のエッチング処理槽15内に入っている酸性
溶液と同一の酸性溶液が入っている洗浄槽17内に5分
間浸漬したものと、浸漬しないものとの比較において、
前記酸性溶液を種々変えて1回目のエッチング処理槽1
5内で電気化学エッチング処理を行い、その後、1回目
のエッチング処理槽15内に入っている酸性溶液とは別
の酸性溶液が入っている2回目のエッチング処理槽16
内で2回目の電気化学エッチング処理を行い、さらにそ
の後、600Vで化成したものの静電容量を示したもの
である。
箔12が1回目のエッチング処理槽15内でエッチング
処理される前に、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12
を、1回目のエッチング処理槽15内に入っている酸性
溶液と同一の酸性溶液が入っている洗浄槽17内に5分
間浸漬したものと、浸漬しないものとの比較において、
前記酸性溶液を種々変えて1回目のエッチング処理槽1
5内で電気化学エッチング処理を行い、その後、1回目
のエッチング処理槽15内に入っている酸性溶液とは別
の酸性溶液が入っている2回目のエッチング処理槽16
内で2回目の電気化学エッチング処理を行い、さらにそ
の後、600Vで化成したものの静電容量を示したもの
である。
【0011】
【表1】
【0012】(表1)から明らかなように、酸性溶液と
して用いた塩酸、塩酸と蓚酸の混合液、塩酸と硫酸の混
合液、塩酸と硫酸の混合液に添加剤であるリン酸を加え
たもの、塩酸と硫酸の混合液に添加剤である蓚酸を加え
たもの、塩酸と硫酸の混合液に添加剤であるリン酸と蓚
酸を加えたものは、5分間浸漬したものの方が、浸漬し
ないものに比べて静電容量アップがはかれるものである
。
して用いた塩酸、塩酸と蓚酸の混合液、塩酸と硫酸の混
合液、塩酸と硫酸の混合液に添加剤であるリン酸を加え
たもの、塩酸と硫酸の混合液に添加剤である蓚酸を加え
たもの、塩酸と硫酸の混合液に添加剤であるリン酸と蓚
酸を加えたものは、5分間浸漬したものの方が、浸漬し
ないものに比べて静電容量アップがはかれるものである
。
【0013】なお、(表1)に示したその他の酸性溶液
、すなわち硝酸,硫酸,硝酸と硫酸の混合液、塩酸とリ
ン酸の混合液を酸性溶液として用いた場合は、1回目の
エッチング処理槽15内でアルミ電解コンデンサ用電極
生箔12の電気化学エッチング処理を行うと、アルミ電
解コンデンサ用電極生箔12の表面に皮膜が付きすぎて
静電容量が出なくなってしまうものである。
、すなわち硝酸,硫酸,硝酸と硫酸の混合液、塩酸とリ
ン酸の混合液を酸性溶液として用いた場合は、1回目の
エッチング処理槽15内でアルミ電解コンデンサ用電極
生箔12の電気化学エッチング処理を行うと、アルミ電
解コンデンサ用電極生箔12の表面に皮膜が付きすぎて
静電容量が出なくなってしまうものである。
【0014】上記したように、1回目のエッチング処理
槽15内に入っている酸性溶液と同一の酸性溶液が入っ
ている洗浄槽17内でアルミ電解コンデンサ用電極生箔
12の浸漬処理を行うようにすれば、図1に示すように
現行の製造工程における1回目のエッチング処理槽15
の液がそのまま活用できるため、エッチング液の調合装
置,循環装置等を新たに設置する必要はなくなり、その
結果、製造設備の改造も容易に行えるため、生産コスト
的に非常に有利となるものである。
槽15内に入っている酸性溶液と同一の酸性溶液が入っ
ている洗浄槽17内でアルミ電解コンデンサ用電極生箔
12の浸漬処理を行うようにすれば、図1に示すように
現行の製造工程における1回目のエッチング処理槽15
の液がそのまま活用できるため、エッチング液の調合装
置,循環装置等を新たに設置する必要はなくなり、その
結果、製造設備の改造も容易に行えるため、生産コスト
的に非常に有利となるものである。
【0015】(表2)はアルミ電解コンデンサ用電極生
箔12が1回目のエッチング処理槽15内でエッチング
処理される前に、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12
を、1回目のエッチング処理槽15内に入っている酸性
溶液と同一の酸性溶液が入っている洗浄槽17内に浸漬
する場合の浸漬温度と浸漬時間を種々変えて製造した場
合の、アルミ電解コンデンサ用電極箔の静電容量を示し
たものである。
箔12が1回目のエッチング処理槽15内でエッチング
処理される前に、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12
を、1回目のエッチング処理槽15内に入っている酸性
溶液と同一の酸性溶液が入っている洗浄槽17内に浸漬
する場合の浸漬温度と浸漬時間を種々変えて製造した場
合の、アルミ電解コンデンサ用電極箔の静電容量を示し
たものである。
【0016】
【表2】
【0017】図2は(表2)における浸漬時間と静電容
量との関係をグラフ化したもので、この図2からも明ら
かなように、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12の酸
性溶液への浸漬時間が5分を越えると、処理時間が余計
にかかってアルミ電解コンデンサ用電極箔の生産性が悪
くなるだけでなく、電極箔の表面溶解が進行して電極箔
の厚みの減少が促進されることになって静電容量が低下
するものであり、したがって、アルミ電解コンデンサ用
電極生箔12の酸性溶液への好ましい浸漬時間は5分以
下である。
量との関係をグラフ化したもので、この図2からも明ら
かなように、アルミ電解コンデンサ用電極生箔12の酸
性溶液への浸漬時間が5分を越えると、処理時間が余計
にかかってアルミ電解コンデンサ用電極箔の生産性が悪
くなるだけでなく、電極箔の表面溶解が進行して電極箔
の厚みの減少が促進されることになって静電容量が低下
するものであり、したがって、アルミ電解コンデンサ用
電極生箔12の酸性溶液への好ましい浸漬時間は5分以
下である。
【0018】図3は(表2)における浸漬温度と静電容
量との関係をグラフ化したもので、この図3からも明ら
かなように、浸漬温度が70℃以下では浸漬時間を延長
しても十分な洗浄効果が得られず、また90℃以上では
アルミ電解コンデンサ用電極生箔と酸性溶液とが過剰に
反応して電極生箔の表面溶解を起こすため、静電容量の
アップにつながらないもので、したがって、アルミ電解
コンデンサ用電極生箔12が浸漬される酸性溶液の浸漬
温度は70℃〜90℃の範囲に設定することにより、(
表2),図3からも明らかなように、電極箔の静電容量
を(表2)の比較例(浸漬しないもの)に比べてアップ
させることができるものである。
量との関係をグラフ化したもので、この図3からも明ら
かなように、浸漬温度が70℃以下では浸漬時間を延長
しても十分な洗浄効果が得られず、また90℃以上では
アルミ電解コンデンサ用電極生箔と酸性溶液とが過剰に
反応して電極生箔の表面溶解を起こすため、静電容量の
アップにつながらないもので、したがって、アルミ電解
コンデンサ用電極生箔12が浸漬される酸性溶液の浸漬
温度は70℃〜90℃の範囲に設定することにより、(
表2),図3からも明らかなように、電極箔の静電容量
を(表2)の比較例(浸漬しないもの)に比べてアップ
させることができるものである。
【0019】(実施例1)純度が99.99%,厚みが
100μmのアルミ電解コンデンサ用電極生箔(アルミ
生箔)12に1回目のエッチング処理槽15で直流電流
を印加する前に、電極生箔(アルミ生箔)12を洗浄槽
17内における80℃の酸性水溶液中に30秒間浸漬し
、その後、これと同じ80℃の酸性水溶液が入っている
1回目のエッチング処理槽15内で電極生箔(アルミ生
箔)12に電流密度20A/dm2の直流を200秒印
加して電気化学エッチング処理を行い、その後、このエ
ッチング処理された電極箔(アルミ箔)を1回目のエッ
チング処理槽15内に入っている酸性水溶液とは別の酸
性水溶液が入っている2回目のエッチング処理槽16内
で電極箔(アルミ箔)に電流密度20A/dm2の直流
を270秒印加して電気化学エッチング処理を行い、そ
の後、最終に電極箔(アルミ箔)の洗浄を行うことによ
り、電極エッチング箔を製造する。
100μmのアルミ電解コンデンサ用電極生箔(アルミ
生箔)12に1回目のエッチング処理槽15で直流電流
を印加する前に、電極生箔(アルミ生箔)12を洗浄槽
17内における80℃の酸性水溶液中に30秒間浸漬し
、その後、これと同じ80℃の酸性水溶液が入っている
1回目のエッチング処理槽15内で電極生箔(アルミ生
箔)12に電流密度20A/dm2の直流を200秒印
加して電気化学エッチング処理を行い、その後、このエ
ッチング処理された電極箔(アルミ箔)を1回目のエッ
チング処理槽15内に入っている酸性水溶液とは別の酸
性水溶液が入っている2回目のエッチング処理槽16内
で電極箔(アルミ箔)に電流密度20A/dm2の直流
を270秒印加して電気化学エッチング処理を行い、そ
の後、最終に電極箔(アルミ箔)の洗浄を行うことによ
り、電極エッチング箔を製造する。
【0020】(実施例2)実施例1と同一のアルミ電解
コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)12に1回目のエ
ッチング処理槽15で直流電流を印加する前に、電極生
箔(アルミ生箔)12を洗浄槽17内における80℃の
酸性水溶液中に3分間浸漬し、その後は実施例1と同じ
処理を施して電極エッチング箔を製造する。
コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)12に1回目のエ
ッチング処理槽15で直流電流を印加する前に、電極生
箔(アルミ生箔)12を洗浄槽17内における80℃の
酸性水溶液中に3分間浸漬し、その後は実施例1と同じ
処理を施して電極エッチング箔を製造する。
【0021】(実施例3)実施例1と同一のアルミ電解
コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)12に1回目のエ
ッチング処理槽15で直流電流を印加する前に、電極生
箔(アルミ生箔)12を洗浄槽17内における85℃の
酸性水溶液中に1分間浸漬し、その後は実施例1と同じ
処理を施して電極エッチング箔を製造する。
コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)12に1回目のエ
ッチング処理槽15で直流電流を印加する前に、電極生
箔(アルミ生箔)12を洗浄槽17内における85℃の
酸性水溶液中に1分間浸漬し、その後は実施例1と同じ
処理を施して電極エッチング箔を製造する。
【0022】(比較例)実施例1と同一のアルミ電解コ
ンデンサ用電極生箔(アルミ箔)を実施例1,2,3の
ように洗浄槽内の酸性水溶液に浸漬することなく、すぐ
に1回目のエッチング処理槽内で電極生箔(アルミ生箔
)に電流密度20A/dm2の直流を200秒印加して
電気化学エッチング処理を行い、その後、このエッチン
グ処理された電極箔(アルミ箔)を1回目のエッチング
処理槽内に入っている酸性水溶液とは別の酸性水溶液が
入っている2回目のエッチング処理槽内で電極箔(アル
ミ箔)に電流密度20A/dm2の直流を270秒印加
して電気化学エッチング処理を行い、その後、最終に電
極箔(アルミ箔)の洗浄を行うことにより、電極エッチ
ング箔を製造する。
ンデンサ用電極生箔(アルミ箔)を実施例1,2,3の
ように洗浄槽内の酸性水溶液に浸漬することなく、すぐ
に1回目のエッチング処理槽内で電極生箔(アルミ生箔
)に電流密度20A/dm2の直流を200秒印加して
電気化学エッチング処理を行い、その後、このエッチン
グ処理された電極箔(アルミ箔)を1回目のエッチング
処理槽内に入っている酸性水溶液とは別の酸性水溶液が
入っている2回目のエッチング処理槽内で電極箔(アル
ミ箔)に電流密度20A/dm2の直流を270秒印加
して電気化学エッチング処理を行い、その後、最終に電
極箔(アルミ箔)の洗浄を行うことにより、電極エッチ
ング箔を製造する。
【0023】上記本発明の実施例1,2,3および比較
例で製造した電極エッチング箔をそれぞれ硼酸水溶液中
で600V化成して電極箔を製造し、そしてこれらの試
料について静電容量と折曲げ強度(1.0mmR、10
0g荷重、折曲げ角90度の条件下1往復で1回とする
)を測定した。その結果を(表3)に示す。
例で製造した電極エッチング箔をそれぞれ硼酸水溶液中
で600V化成して電極箔を製造し、そしてこれらの試
料について静電容量と折曲げ強度(1.0mmR、10
0g荷重、折曲げ角90度の条件下1往復で1回とする
)を測定した。その結果を(表3)に示す。
【0024】
【表3】
【0025】この(表3)から明らかなように、アルミ
電解コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)を浸漬処理し
た本発明の実施例1,2,3は浸漬処理をしていない比
較例に比べて静電容量が約10%アップするものである
。
電解コンデンサ用電極生箔(アルミ生箔)を浸漬処理し
た本発明の実施例1,2,3は浸漬処理をしていない比
較例に比べて静電容量が約10%アップするものである
。
【0026】また電気化学エッチング処理を施した電極
エッチング箔についてその表面をSEMで観察したとこ
ろ、本発明の実施例の方がエッチピット密度が飛躍的に
増大していた。その一例として、比較例と実施例2のS
EM観察図を図4(a),(b)に示す。
エッチング箔についてその表面をSEMで観察したとこ
ろ、本発明の実施例の方がエッチピット密度が飛躍的に
増大していた。その一例として、比較例と実施例2のS
EM観察図を図4(a),(b)に示す。
【0027】さらに本発明の実施例を製造工程に導入し
た後の静電容量の実績値と従来工程品の静電容量の実績
値の比較を(表4)に示す。
た後の静電容量の実績値と従来工程品の静電容量の実績
値の比較を(表4)に示す。
【0028】
【表4】
【0029】この(表4)からも明らかなように、本発
明は浸漬処理を施しているため、静電容量のアップ効果
だけでなく、電極箔のロット間の容量ばらつきも改善さ
れるものである。
明は浸漬処理を施しているため、静電容量のアップ効果
だけでなく、電極箔のロット間の容量ばらつきも改善さ
れるものである。
【0030】
【発明の効果】以上のように本発明のアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法によれば、1回目のエッチング
処理工程の前に、1回目のエッチング処理槽内に入って
いる酸性溶液と同一の酸性溶液中にアルミ電解コンデン
サ用電極生箔を浸漬させる浸漬工程を設けているため、
この浸漬によりアルミ電解コンデンサ用電極生箔は酸性
溶液で洗浄されることになり、その結果、電極生箔の圧
延オイル,微小な圧延傷,不純物元素,自然酸化皮膜等
による不均一性の影響を受けにくくなるため、エッチピ
ットは電極生箔に均一に生成されることになり、これに
より、単位面積当りの静電容量の高いアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔を製造することができるものである。
ンサ用電極箔の製造方法によれば、1回目のエッチング
処理工程の前に、1回目のエッチング処理槽内に入って
いる酸性溶液と同一の酸性溶液中にアルミ電解コンデン
サ用電極生箔を浸漬させる浸漬工程を設けているため、
この浸漬によりアルミ電解コンデンサ用電極生箔は酸性
溶液で洗浄されることになり、その結果、電極生箔の圧
延オイル,微小な圧延傷,不純物元素,自然酸化皮膜等
による不均一性の影響を受けにくくなるため、エッチピ
ットは電極生箔に均一に生成されることになり、これに
より、単位面積当りの静電容量の高いアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔を製造することができるものである。
【図1】本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造
方法の一実施例を示す製造工程図
方法の一実施例を示す製造工程図
【図2】アルミ電解コンデンサ用電極生箔の酸性溶液へ
の浸漬時間と静電容量の関係を示すグラフ
の浸漬時間と静電容量の関係を示すグラフ
【図3】アル
ミ電解コンデンサ用電極生箔が浸漬される酸性溶液の浸
漬温度と静電容量の関係を示すグラフ
ミ電解コンデンサ用電極生箔が浸漬される酸性溶液の浸
漬温度と静電容量の関係を示すグラフ
【図4】(a)比
較例における電極エッチング箔の表面をSEMで観察し
た結果を示す観察図 (b)本発明の実施例2における電極エッチング箔の表
面をSEMで観察した結果を示す観察図
較例における電極エッチング箔の表面をSEMで観察し
た結果を示す観察図 (b)本発明の実施例2における電極エッチング箔の表
面をSEMで観察した結果を示す観察図
【図5】従来の
アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法の一例を示す
製造工程図
アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法の一例を示す
製造工程図
12 アルミ電解コンデンサ用電極生箔15 1回
目のエッチング処理槽 16 2回目のエッチング処理槽 17 洗浄槽
目のエッチング処理槽 16 2回目のエッチング処理槽 17 洗浄槽
Claims (4)
- 【請求項1】アルミ電解コンデンサ用電極生箔に電気化
学エッチング処理を施すエッチング処理工程を少なくと
も2回設け、かつ1回目のエッチング処理工程の前に、
1回目のエッチング処理槽内に入っている酸性溶液と同
一の酸性溶液中にアルミ電解コンデンサ用電極生箔を浸
漬させる浸漬工程を設けたことを特徴とするアルミ電解
コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 【請求項2】酸性溶液は塩酸、塩酸と蓚酸の混合液、塩
酸と硫酸の混合液、塩酸と硫酸の混合液に蓚酸,リン酸
のいずれか一方または両方の添加剤を加えたものから選
ばれたものである請求項1記載のアルミ電解コンデンサ
用電極箔の製造方法。 - 【請求項3】酸性溶液中にアルミ電解コンデンサ用電極
生箔を浸漬させる浸漬時間を5分以下とした請求項1記
載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 【請求項4】アルミ電解コンデンサ用電極生箔を浸漬さ
せる酸性溶液の液温が70℃〜90℃である請求項1記
載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3076157A JPH04311023A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3076157A JPH04311023A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04311023A true JPH04311023A (ja) | 1992-11-02 |
Family
ID=13597216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3076157A Pending JPH04311023A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04311023A (ja) |
-
1991
- 1991-04-09 JP JP3076157A patent/JPH04311023A/ja active Pending
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