JPH04314737A - ホスファゼン重合体の製造方法 - Google Patents
ホスファゼン重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPH04314737A JPH04314737A JP3106751A JP10675191A JPH04314737A JP H04314737 A JPH04314737 A JP H04314737A JP 3106751 A JP3106751 A JP 3106751A JP 10675191 A JP10675191 A JP 10675191A JP H04314737 A JPH04314737 A JP H04314737A
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- JP
- Japan
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- polymer
- group
- reaction
- phosphazene
- alkali metal
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業の利用分野】本発明は、耐熱性、耐寒性及び耐油
性などの性能に優れる弾性体等として有用なホスファゼ
ン重合体の新規な製造方法に関する。
性などの性能に優れる弾性体等として有用なホスファゼ
ン重合体の新規な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ホスフ
アゼン重合体は、P=N骨格を有する高分子化合物であ
り、優れた難然性、低発煙性を有すると共に、燐原子に
結合する有機基の種類によって様々な特性を付与するこ
とができ、高機能材料として注目されている。
アゼン重合体は、P=N骨格を有する高分子化合物であ
り、優れた難然性、低発煙性を有すると共に、燐原子に
結合する有機基の種類によって様々な特性を付与するこ
とができ、高機能材料として注目されている。
【0003】従来、このホスファゼン重合体を製造する
方法としては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンを
開環重合させてジクロロホスファゼンとした後、この化
合物中の塩素原子を種々の有機基で置換する方法が知ら
れている(米国特許第3,370,020号)。また、
重縮合反応によるホスファゼン重合体の製造方法として
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法も提案されている(特表昭62−50
1144号公報)。
方法としては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンを
開環重合させてジクロロホスファゼンとした後、この化
合物中の塩素原子を種々の有機基で置換する方法が知ら
れている(米国特許第3,370,020号)。また、
重縮合反応によるホスファゼン重合体の製造方法として
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法も提案されている(特表昭62−50
1144号公報)。
【0004】しかし、ヘキサクロロシクロトリホスファ
ゼンを開環重合させる方法においては、ポリマー収率が
60%前後になると架橋反応が起こってゲル化してしま
うため、重合反応をポリマー収率が50%程度となった
時点で停止させなければならず、また重合後ポリマー中
の塩素原子を種々の有機基で置換するのに手間がかかり
、得られたポリマーが極めて高価なものになってしまう
。更に、上記置換反応においても塩素原子を完全に置換
するのは困難であり、微量の残存塩素がポリマーの性能
に影響を与える場合があるという問題点を有する。また
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法においては、ポリマー収率に関しては
改善されるものの、残存塩素に関する問題は解消されて
いない。
ゼンを開環重合させる方法においては、ポリマー収率が
60%前後になると架橋反応が起こってゲル化してしま
うため、重合反応をポリマー収率が50%程度となった
時点で停止させなければならず、また重合後ポリマー中
の塩素原子を種々の有機基で置換するのに手間がかかり
、得られたポリマーが極めて高価なものになってしまう
。更に、上記置換反応においても塩素原子を完全に置換
するのは困難であり、微量の残存塩素がポリマーの性能
に影響を与える場合があるという問題点を有する。また
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法においては、ポリマー収率に関しては
改善されるものの、残存塩素に関する問題は解消されて
いない。
【0005】このため、残存塩素の問題を生じることの
ないホスファゼン重合体の製造方法として、オルガノホ
スファゼン単量体であるN−トリメチルシリルホスファ
ゼンを重縮合させる方法も提案されている(米国特許第
4,412,053号)。
ないホスファゼン重合体の製造方法として、オルガノホ
スファゼン単量体であるN−トリメチルシリルホスファ
ゼンを重縮合させる方法も提案されている(米国特許第
4,412,053号)。
【0006】しかし、この製造方法においては、ポリマ
ー収率及び残存塩素の問題は改善されるものの、反応温
度が190℃以上と高く、しかも反応時間が40時間以
上も必要であるという問題点を有している。
ー収率及び残存塩素の問題は改善されるものの、反応温
度が190℃以上と高く、しかも反応時間が40時間以
上も必要であるという問題点を有している。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
、残存塩素の問題を生じることなく、比較的穏和な反応
条件で短時間に、しかも高収率にホスファゼン重合体を
製造することができる新規なホスファゼン重合体の製造
方法を提供することを目的とする。
、残存塩素の問題を生じることなく、比較的穏和な反応
条件で短時間に、しかも高収率にホスファゼン重合体を
製造することができる新規なホスファゼン重合体の製造
方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を行なった結果、下記一
般式(1)で表されるN−シリルホスファゼン化合物を
加熱することにより重縮合させて、ホスファゼンポリマ
ーを得る場合に、重縮合触媒として一般式R7OM(但
し、R7は置換又は無置換の一価脂肪族炭化水素基を示
し、Mはアルカリ金属を示す)で表されるアルカリ金属
アルコキサイド化合物を使用することにより、重縮合反
応を効率よく促進し、50〜180℃といった比較的低
い温度で3〜30時間といった短時間に収率よく下記一
般式(2)で示されるホスファゼン重合体を製造するこ
とができること、しかもこの場合出発原料にも触媒にも
塩素原子を含んでいないため、上記残存塩素の問題を生
じることなく重合体を製造し得ることを見出し、本発明
を完成したものである。
記目的を達成するため鋭意検討を行なった結果、下記一
般式(1)で表されるN−シリルホスファゼン化合物を
加熱することにより重縮合させて、ホスファゼンポリマ
ーを得る場合に、重縮合触媒として一般式R7OM(但
し、R7は置換又は無置換の一価脂肪族炭化水素基を示
し、Mはアルカリ金属を示す)で表されるアルカリ金属
アルコキサイド化合物を使用することにより、重縮合反
応を効率よく促進し、50〜180℃といった比較的低
い温度で3〜30時間といった短時間に収率よく下記一
般式(2)で示されるホスファゼン重合体を製造するこ
とができること、しかもこの場合出発原料にも触媒にも
塩素原子を含んでいないため、上記残存塩素の問題を生
じることなく重合体を製造し得ることを見出し、本発明
を完成したものである。
【0009】
【化2】
【0010】従って、本発明は、一般式(1)で表され
るN−シリルホスファゼン化合物を重縮合触媒として一
般式R7OM(但し、R7は置換又は無置換の一価脂肪
族炭化水素基を示し、Mはアルカリ金属を示す)で表さ
れるアルカリ金属アルコキサイド化合物を用いて重縮合
することを特徴とする一般式(2)で示されるホスファ
ゼン重合体の製造方法を提供するものである。
るN−シリルホスファゼン化合物を重縮合触媒として一
般式R7OM(但し、R7は置換又は無置換の一価脂肪
族炭化水素基を示し、Mはアルカリ金属を示す)で表さ
れるアルカリ金属アルコキサイド化合物を用いて重縮合
することを特徴とする一般式(2)で示されるホスファ
ゼン重合体の製造方法を提供するものである。
【0011】以下、本発明につき、更に詳しく説明する
と、本発明の製造方法において、その出発原料であるN
−シリルホスフアゼン化合物は、上述したように下記一
般式(1)で表されるホスファゼン単量体である。
と、本発明の製造方法において、その出発原料であるN
−シリルホスフアゼン化合物は、上述したように下記一
般式(1)で表されるホスファゼン単量体である。
【0012】
【化3】
【0013】ここで、上記式(1)中R1は、アルキル
基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基等
の一価脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜10、
より好ましくは炭素数1〜5の一価脂肪族炭化水素基の
水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換したもので
あり、具体的にはトリフルオロメチル基、2,2,2−
トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフ
ルオロプロピル基、2,2,2,3,3,3−ヘキサフ
ルオロイソプロピル基等が挙げられる。また、R2,R
3,R4,R5,R6は、互いに同一或いは異種の無置
換又は置換一価炭化水素基で、好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜6のものであり、具体的
にはメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,イソブチル基等のアルキル基、ビ
ニル基,イソプロペニル基,アリル基等のアルケニル基
、シクロペンチル基,シクロヘキシル基等のシクロアル
キル基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基,ト
ルイル基,ナフチル基等のアリール基などが例示される
。
基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基等
の一価脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜10、
より好ましくは炭素数1〜5の一価脂肪族炭化水素基の
水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換したもので
あり、具体的にはトリフルオロメチル基、2,2,2−
トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフ
ルオロプロピル基、2,2,2,3,3,3−ヘキサフ
ルオロイソプロピル基等が挙げられる。また、R2,R
3,R4,R5,R6は、互いに同一或いは異種の無置
換又は置換一価炭化水素基で、好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜6のものであり、具体的
にはメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,イソブチル基等のアルキル基、ビ
ニル基,イソプロペニル基,アリル基等のアルケニル基
、シクロペンチル基,シクロヘキシル基等のシクロアル
キル基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基,ト
ルイル基,ナフチル基等のアリール基などが例示される
。
【0014】一方、本発明の製造方法に重縮合触媒とし
て用いられるアルカリ金属アルコキサイド化合物は、一
般式R7OMで示されるもので、この一般式中のR7は
置換又は非置換の一価脂肪族炭化水素基であり、好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜6のも
のである。このR7として具体的には、メチル基,エチ
ル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基
,イソブチル基等のアルキル基、シクロペンチル基,シ
クロヘキシル基等のシクロアルキル基、ベンジル基等の
アラルキル基等を挙げることができる。またMはアルカ
リ金属であり、具体的にはリチウム、ナトリウム、カリ
ウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。このアルカ
リ金属アルコキサイド化合物として具体的には、リチウ
ムメトキサイド、リチウムエトキサイド、リチウム2,
2,2−トリフルオロエトキサイド、リチウムn−プロ
ポキサイド、リチウムイソプロポキサイド、リチウムn
−ブトキサイド、リチウムt−ブトキサイド、ナトリウ
ムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、ナトリウム
2,2,2−トリフルオロエトキサイド、ナトリウムn
−プロポキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド、ナ
トリウムn−ブトキサイド、ナトリウムt−ブトキサイ
ド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイド、カ
リウム2,2,2−トリフルオロエトキサイド、カリウ
ムn−プロポキサイド、カリウムイソプロポキサイド、
カリウムn−ブトキサイド、カリウムt−ブトキサイド
、ルビジウムメトキサイド、ルビジウムエトキサイド、
ルビジウム2,2,2−トリフルオロエトキサイド、セ
シウムメトキサイド、セシウムエトキサイド、セシウム
2,2,2−トリフルオロエトキサイドなどを例示する
ことができ、これらの中では特にナトリウムエトキサイ
ド、カリウムメトキサイド、カリウム−t−ブトキサイ
ド等が好適に用いられる。
て用いられるアルカリ金属アルコキサイド化合物は、一
般式R7OMで示されるもので、この一般式中のR7は
置換又は非置換の一価脂肪族炭化水素基であり、好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜6のも
のである。このR7として具体的には、メチル基,エチ
ル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基
,イソブチル基等のアルキル基、シクロペンチル基,シ
クロヘキシル基等のシクロアルキル基、ベンジル基等の
アラルキル基等を挙げることができる。またMはアルカ
リ金属であり、具体的にはリチウム、ナトリウム、カリ
ウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。このアルカ
リ金属アルコキサイド化合物として具体的には、リチウ
ムメトキサイド、リチウムエトキサイド、リチウム2,
2,2−トリフルオロエトキサイド、リチウムn−プロ
ポキサイド、リチウムイソプロポキサイド、リチウムn
−ブトキサイド、リチウムt−ブトキサイド、ナトリウ
ムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、ナトリウム
2,2,2−トリフルオロエトキサイド、ナトリウムn
−プロポキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド、ナ
トリウムn−ブトキサイド、ナトリウムt−ブトキサイ
ド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイド、カ
リウム2,2,2−トリフルオロエトキサイド、カリウ
ムn−プロポキサイド、カリウムイソプロポキサイド、
カリウムn−ブトキサイド、カリウムt−ブトキサイド
、ルビジウムメトキサイド、ルビジウムエトキサイド、
ルビジウム2,2,2−トリフルオロエトキサイド、セ
シウムメトキサイド、セシウムエトキサイド、セシウム
2,2,2−トリフルオロエトキサイドなどを例示する
ことができ、これらの中では特にナトリウムエトキサイ
ド、カリウムメトキサイド、カリウム−t−ブトキサイ
ド等が好適に用いられる。
【0015】本発明の製造方法は、上記出発原料の(1
)式で表されるホスファゼン単量体を上記アルカリ金属
アルコキサイド化合物を重縮合触媒として用いて加熱し
、重縮合させるものであるが、この場合アルカリ金属ア
ルコキサイド化合物の使用量は、触媒量とすることがで
き、通常出発原料のホスファゼン単量体に対してモル比
で1/10〜1/106程度とされる。また、アルカリ
金属アルコキサイド化合物の添加方法は、これをそのま
ま反応系に添加しても、適宜な溶媒に溶解して添加して
もよい。なお、この場合の溶媒としては、N,N−ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン等を用いること
ができる。
)式で表されるホスファゼン単量体を上記アルカリ金属
アルコキサイド化合物を重縮合触媒として用いて加熱し
、重縮合させるものであるが、この場合アルカリ金属ア
ルコキサイド化合物の使用量は、触媒量とすることがで
き、通常出発原料のホスファゼン単量体に対してモル比
で1/10〜1/106程度とされる。また、アルカリ
金属アルコキサイド化合物の添加方法は、これをそのま
ま反応系に添加しても、適宜な溶媒に溶解して添加して
もよい。なお、この場合の溶媒としては、N,N−ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン等を用いること
ができる。
【0016】この重縮合反応は、下記反応式(A)に従
って式中(2)で示したホスファゼン重合体が生成する
ものであり、この場合反応は無溶媒で行なっても、適当
な有機溶媒中で行なってもよく、この場合反応溶媒とし
ては、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、N
,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリ
ドン、ヘキサメチルホスフォルアミドなどから適宜選択
して用いることができる。また、この重縮合反応は、窒
素ガス,アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行なう
ことが好ましい。更に、反応条件は50〜180℃、特
に80〜130℃の反応温度で、3時間以上、特に5〜
20時間反応させることが好ましく、反応系内から揮発
性の縮合物を溜去しながら反応を行なうことが好適であ
る。なお、生成したホスファゼン重合体は、塊状重合の
場合はそのまま次ぎの加工工程に供することができ、ま
た溶媒を用いた溶液重合の場合は、通常の分離手段、例
えばメタノール等の非溶媒を用いて再沈殿させるなどの
方法により容易に分離,精製することができる。
って式中(2)で示したホスファゼン重合体が生成する
ものであり、この場合反応は無溶媒で行なっても、適当
な有機溶媒中で行なってもよく、この場合反応溶媒とし
ては、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、N
,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリ
ドン、ヘキサメチルホスフォルアミドなどから適宜選択
して用いることができる。また、この重縮合反応は、窒
素ガス,アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行なう
ことが好ましい。更に、反応条件は50〜180℃、特
に80〜130℃の反応温度で、3時間以上、特に5〜
20時間反応させることが好ましく、反応系内から揮発
性の縮合物を溜去しながら反応を行なうことが好適であ
る。なお、生成したホスファゼン重合体は、塊状重合の
場合はそのまま次ぎの加工工程に供することができ、ま
た溶媒を用いた溶液重合の場合は、通常の分離手段、例
えばメタノール等の非溶媒を用いて再沈殿させるなどの
方法により容易に分離,精製することができる。
【0017】
【化4】
【0018】本発明の製造方法においては、上記重縮合
反応は殆ど定量的に進行してホスファゼン重合体を極め
て高い収率で製造することができ、更に反応系の温度を
室温に戻して反応を一端停止させた後に、出発原料のホ
スファゼン単量体を追加して加熱し、反応系を重合条件
の温度に戻すことにより、重合反応を再開することが可
能であり、この操作により得られる重合体の重合度を増
大させることができる。
反応は殆ど定量的に進行してホスファゼン重合体を極め
て高い収率で製造することができ、更に反応系の温度を
室温に戻して反応を一端停止させた後に、出発原料のホ
スファゼン単量体を追加して加熱し、反応系を重合条件
の温度に戻すことにより、重合反応を再開することが可
能であり、この操作により得られる重合体の重合度を増
大させることができる。
【0019】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。なお、下記例において、重合体の分子量はGPC分子
量測定装置(トーソー製HLC−8020)で測定した
ものである。
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。なお、下記例において、重合体の分子量はGPC分子
量測定装置(トーソー製HLC−8020)で測定した
ものである。
【0020】[実施例1]十分に乾燥させた内容量20
0mlの4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素通気用
コック及び受容器を連結したリービッヒ冷却管を装着し
、このフラスコ内にP−トリス(2,2,2−トリフル
オロエトキシ)−N−トリメチルシリルホスファゼン2
0.8gとナトリウムエトキサイドの50mMジメチル
ホルムアミド溶液1.0mlとジメチルホルムアミド1
5mlとを充填し、内部を乾燥窒素で置換した。内部に
乾燥窒素を通気しながらこのフラスコをシリコーンオイ
ルバスに浸漬し、撹拌しながら120℃で20時間加熱
して重縮合反応を行ない、受容器に2,2,2−トリフ
ルオロエチルトリメチルシリルエーテルからなる揮発性
縮合物7.5gを回収すると共に、フラスコ内の反応混
合物を100mlのメタノール中に注いでホスファゼン
重合体を沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥
してポリビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホ
スファゼン11.6gを得た。
0mlの4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素通気用
コック及び受容器を連結したリービッヒ冷却管を装着し
、このフラスコ内にP−トリス(2,2,2−トリフル
オロエトキシ)−N−トリメチルシリルホスファゼン2
0.8gとナトリウムエトキサイドの50mMジメチル
ホルムアミド溶液1.0mlとジメチルホルムアミド1
5mlとを充填し、内部を乾燥窒素で置換した。内部に
乾燥窒素を通気しながらこのフラスコをシリコーンオイ
ルバスに浸漬し、撹拌しながら120℃で20時間加熱
して重縮合反応を行ない、受容器に2,2,2−トリフ
ルオロエチルトリメチルシリルエーテルからなる揮発性
縮合物7.5gを回収すると共に、フラスコ内の反応混
合物を100mlのメタノール中に注いでホスファゼン
重合体を沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥
してポリビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホ
スファゼン11.6gを得た。
【0021】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は15.7万、重量平均分子量は17.4万であった
。また、この重合体は、アセトン、テトラヒドロフラン
、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル等に可溶
性であり、一方メタノール、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、ジクロロメタン、クロロホルム等には
不溶性であった。
量は15.7万、重量平均分子量は17.4万であった
。また、この重合体は、アセトン、テトラヒドロフラン
、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル等に可溶
性であり、一方メタノール、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、ジクロロメタン、クロロホルム等には
不溶性であった。
【0022】[実施例2]重縮合触媒としてナトリウム
メトキサイドの代わりにカリウムメトキサイドを用い、
反応溶媒としてジメチルホルムアミドの代わりにジグラ
イムを用いた以外は実施例1と同様にして重縮合反応を
行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエチルトリ
メチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物7.3gを
回収すると共に、フラスコ内の反応混合物の一部をサン
プリングし、このサンプルからホスファゼン重合体を分
離した。このホスファゼン重合体は、数平均分子量15
.0万、重量平均分子量16.7万であった。
メトキサイドの代わりにカリウムメトキサイドを用い、
反応溶媒としてジメチルホルムアミドの代わりにジグラ
イムを用いた以外は実施例1と同様にして重縮合反応を
行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエチルトリ
メチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物7.3gを
回収すると共に、フラスコ内の反応混合物の一部をサン
プリングし、このサンプルからホスファゼン重合体を分
離した。このホスファゼン重合体は、数平均分子量15
.0万、重量平均分子量16.7万であった。
【0023】次に、このフラスコ内の反応混合物にP−
トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−N−ト
リメチルシリルホスファゼン10.4g及びジグライム
10mlを添加して撹拌しながら120℃で6時間重縮
合反応を行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエ
チルトリメチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物3
.7gを回収すると共に、フラスコ内の反応混合物を1
50mlのメタノール中に注いでホスファゼン重合体を
沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥してポリ
ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスファゼ
ン17.2gを得た。このホスファゼン重合体は、数平
均分子量21.4万、重量平均分子量23.1万であっ
た。このことから、一度停止させた反応を単量体を追加
して再び加熱することにより再開させることができると
共に、この場合得られる重合体の分子量が増大すること
が確認された。
トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−N−ト
リメチルシリルホスファゼン10.4g及びジグライム
10mlを添加して撹拌しながら120℃で6時間重縮
合反応を行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエ
チルトリメチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物3
.7gを回収すると共に、フラスコ内の反応混合物を1
50mlのメタノール中に注いでホスファゼン重合体を
沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥してポリ
ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスファゼ
ン17.2gを得た。このホスファゼン重合体は、数平
均分子量21.4万、重量平均分子量23.1万であっ
た。このことから、一度停止させた反応を単量体を追加
して再び加熱することにより再開させることができると
共に、この場合得られる重合体の分子量が増大すること
が確認された。
【0024】[実施例3]重縮合触媒としてナトリウム
メトキサイドの代わりに等モルの2,2,2−トリフル
オロエタノールとn−ブチルリチウムの15%n−ヘキ
サン溶液とから調製したリチウム2,2,2−トリフル
オロエトキサイドの50mMテトラヒドロフラン溶液1
.0mlを用いた以外は実施例1と同様にして重縮合反
応を行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエチル
トリメチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物7.3
gを回収すると共に、フラスコ内の反応混合物を100
mlのメタノール中に注いでホスファゼン重合体を沈殿
物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥してポリビス
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスファゼン1
0.8gを得た。
メトキサイドの代わりに等モルの2,2,2−トリフル
オロエタノールとn−ブチルリチウムの15%n−ヘキ
サン溶液とから調製したリチウム2,2,2−トリフル
オロエトキサイドの50mMテトラヒドロフラン溶液1
.0mlを用いた以外は実施例1と同様にして重縮合反
応を行ない、受容器に2,2,2−トリフルオロエチル
トリメチルシリルエーテルからなる揮発性縮合物7.3
gを回収すると共に、フラスコ内の反応混合物を100
mlのメタノール中に注いでホスファゼン重合体を沈殿
物として分離回収し、真空乾燥機中で乾燥してポリビス
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスファゼン1
0.8gを得た。
【0025】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は16.8万、重量平均分子量は17.7万であった
。
量は16.8万、重量平均分子量は17.7万であった
。
【0026】[実施例4]原料の単量体としてP−トリ
ス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−N−トリメ
チルシリルホスファゼンの代わりにP−ジフェノキシ−
2,2,2−トリフルオロエトキシ−N−トリメチルシ
リルホスファゼン20.3gを用いた以外は実施例1と
同様にして重縮合反応を行ない、受容器に2,2,2−
トリフルオロエチルトリメチルシリルエーテルからなる
揮発性縮合物7.4gを回収すると共に、フラスコ内の
反応混合物を100mlのメタノール中に注いでホスフ
ァゼン重合体を沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中
で乾燥してポリジフェノキシホスファゼン9.0gを得
た。
ス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−N−トリメ
チルシリルホスファゼンの代わりにP−ジフェノキシ−
2,2,2−トリフルオロエトキシ−N−トリメチルシ
リルホスファゼン20.3gを用いた以外は実施例1と
同様にして重縮合反応を行ない、受容器に2,2,2−
トリフルオロエチルトリメチルシリルエーテルからなる
揮発性縮合物7.4gを回収すると共に、フラスコ内の
反応混合物を100mlのメタノール中に注いでホスフ
ァゼン重合体を沈殿物として分離回収し、真空乾燥機中
で乾燥してポリジフェノキシホスファゼン9.0gを得
た。
【0027】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は17.3万、重量平均分子量は18.7万であった
。また、この重合体はアセトン、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、トルエン
、キシレン等に可溶性であり、一方メタノール、エタノ
ール、ヘキサン、ヘプタン等には不溶性であった。
量は17.3万、重量平均分子量は18.7万であった
。また、この重合体はアセトン、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、トルエン
、キシレン等に可溶性であり、一方メタノール、エタノ
ール、ヘキサン、ヘプタン等には不溶性であった。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のホスファ
ゼン重合体の製造方法によれば、重合温度50〜180
℃、反応時間3時間以上という比較的穏和な反応条件で
容易かつ高収率に塩素原子をまったく含まないホスファ
ゼン重合体を製造することができ、このため従来の製造
方法において必須であった未反応単量体の分離工程や置
換反応工程等の後処理工程を省略することが可能であり
、ホスファゼン重合体を工業的に極めて有利に製造する
ことができる。
ゼン重合体の製造方法によれば、重合温度50〜180
℃、反応時間3時間以上という比較的穏和な反応条件で
容易かつ高収率に塩素原子をまったく含まないホスファ
ゼン重合体を製造することができ、このため従来の製造
方法において必須であった未反応単量体の分離工程や置
換反応工程等の後処理工程を省略することが可能であり
、ホスファゼン重合体を工業的に極めて有利に製造する
ことができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるN−シリ
ルホスファゼン化合物を重縮合触媒として一般式R7O
M(但し、R7は置換又は無置換の一価脂肪族炭化水素
基を示し、Mはアルカリ金属を示す)で表されるアルカ
リ金属アルコキサイド化合物を用いて重縮合することを
特徴とする下記式(2)で表されるホスファゼン重合体
の製造方法。 【化1】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106751A JPH04314737A (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106751A JPH04314737A (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04314737A true JPH04314737A (ja) | 1992-11-05 |
Family
ID=14441621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3106751A Pending JPH04314737A (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04314737A (ja) |
-
1991
- 1991-04-11 JP JP3106751A patent/JPH04314737A/ja active Pending
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