JPH04315109A - 光接続器及びその加工方法 - Google Patents
光接続器及びその加工方法Info
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- JPH04315109A JPH04315109A JP10879291A JP10879291A JPH04315109A JP H04315109 A JPH04315109 A JP H04315109A JP 10879291 A JP10879291 A JP 10879291A JP 10879291 A JP10879291 A JP 10879291A JP H04315109 A JPH04315109 A JP H04315109A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はニオブ酸リチウム結晶を
はじめとする基板に形成された光導波路と光ファイバと
を効率的に接続する光接続器及び加工方法に関する。
はじめとする基板に形成された光導波路と光ファイバと
を効率的に接続する光接続器及び加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光通信技術の発展に伴って、さらに大容
量や多機能を持つ高度のシステムが求められており、よ
り高度の光信号の発生や光伝送路の切り替え,交換など
の新たな機能の付加が必要とされている。例えば、光伝
送路の切り替えやネットワークの交換機能を得るために
は、高機能な光スイッチ等の光制御デバイスが必要とな
る。
量や多機能を持つ高度のシステムが求められており、よ
り高度の光信号の発生や光伝送路の切り替え,交換など
の新たな機能の付加が必要とされている。例えば、光伝
送路の切り替えやネットワークの交換機能を得るために
は、高機能な光スイッチ等の光制御デバイスが必要とな
る。
【0003】現在実用されている光制御デバイスは主と
して、プリズム,レンズ,ミラー,ファイバなどを使っ
たバルク形のものであり、低速であること、信頼性が不
十分、形状が大きくマトリクス化に不適当である等の欠
点がある。これを解決する手段として開発が進められて
いるものは、光導波路を用いた導波形の光制御デバイス
であり、高速,多素子の集積化が可能、高信頼等の特長
がある。特にニオブ酸リチウム(LiNbO3)結晶等
の強誘電体材料を用いたものは、光吸収が小さく低損失
であること、大きな電気光学効果を有しているため、高
効率である等の特長があり、従来からも方向性結合器型
光変調器や光スイッチ、全反射型光スイッチ又はマッハ
ツエンダ型光変調器等の種々の方式の光制御デバイスが
報告されている。
して、プリズム,レンズ,ミラー,ファイバなどを使っ
たバルク形のものであり、低速であること、信頼性が不
十分、形状が大きくマトリクス化に不適当である等の欠
点がある。これを解決する手段として開発が進められて
いるものは、光導波路を用いた導波形の光制御デバイス
であり、高速,多素子の集積化が可能、高信頼等の特長
がある。特にニオブ酸リチウム(LiNbO3)結晶等
の強誘電体材料を用いたものは、光吸収が小さく低損失
であること、大きな電気光学効果を有しているため、高
効率である等の特長があり、従来からも方向性結合器型
光変調器や光スイッチ、全反射型光スイッチ又はマッハ
ツエンダ型光変調器等の種々の方式の光制御デバイスが
報告されている。
【0004】このような導波形の光制御デバイスを実際
の光通信システムに適用する場合、各デバイスの入出力
部にあたる光導波路の接続端面を光ファイバを介して相
互に接続することが実用上不可欠である。接続部におい
て光学的な結合を低損失に達成するためには、基板上に
形成された光導波路及び光ファイバの接続端面を高精度
な面に加工し、かつ光導波路と光ファイバの光透過方向
の中心軸を高精度に合致させて接続する必要がある。
の光通信システムに適用する場合、各デバイスの入出力
部にあたる光導波路の接続端面を光ファイバを介して相
互に接続することが実用上不可欠である。接続部におい
て光学的な結合を低損失に達成するためには、基板上に
形成された光導波路及び光ファイバの接続端面を高精度
な面に加工し、かつ光導波路と光ファイバの光透過方向
の中心軸を高精度に合致させて接続する必要がある。
【0005】従来、光導波路及び光ファイバの接続は、
砥石を用いた機械的切断加工と遊離砥粒を用いた研磨に
より光ファイバと光導波路の接続端面を高精度に鏡面加
工した後、光透過方向の中心軸が合致するように精密な
位置調整を行って、接着剤等で固着する方法がとられて
いる(例えば、女鹿田ほか89年電子情報通信学会春大
会論文集4−278)。
砥石を用いた機械的切断加工と遊離砥粒を用いた研磨に
より光ファイバと光導波路の接続端面を高精度に鏡面加
工した後、光透過方向の中心軸が合致するように精密な
位置調整を行って、接着剤等で固着する方法がとられて
いる(例えば、女鹿田ほか89年電子情報通信学会春大
会論文集4−278)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】特にシングルモードの
光導波路と光ファイバを接続する場合、光導波路や光フ
ァイバの光フィールド分布の広がりは10μm以下であ
ることが多い。このため、低損失な光接続を達成するに
は、両者の光透過方向の中心軸は1μm以下程度の精度
で一致するように位置調整を行う必要がある。
光導波路と光ファイバを接続する場合、光導波路や光フ
ァイバの光フィールド分布の広がりは10μm以下であ
ることが多い。このため、低損失な光接続を達成するに
は、両者の光透過方向の中心軸は1μm以下程度の精度
で一致するように位置調整を行う必要がある。
【0007】従来の技術によれば、上述のように高精度
な光接続を達成するには、多くの調整工数と長い調整時
間を要するという課題があった。また位置調整の後、光
導波路と光ファイバの接続端面を完全に固着するまでの
間に中心軸の位置ずれが生じやすく、接続損失の増加が
発生しやすいという課題があった。
な光接続を達成するには、多くの調整工数と長い調整時
間を要するという課題があった。また位置調整の後、光
導波路と光ファイバの接続端面を完全に固着するまでの
間に中心軸の位置ずれが生じやすく、接続損失の増加が
発生しやすいという課題があった。
【0008】本発明の目的は、上述の従来の光導波路と
光ファイバの光接続の課題を解決し、ニオブ酸リチウム
結晶をはじめとする基板に形成された光導波路と光ファ
イバの光接続を容易に、また短時間で効率的に行えるよ
うにし、さらに接続損失の低減に適した光接続器とその
加工方法を提供することにある。
光ファイバの光接続の課題を解決し、ニオブ酸リチウム
結晶をはじめとする基板に形成された光導波路と光ファ
イバの光接続を容易に、また短時間で効率的に行えるよ
うにし、さらに接続損失の低減に適した光接続器とその
加工方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明に係る光接続器においては、基板上に形成され
た光導波路と光ファイバを光学的に結合する光接続器で
あって、前記基板上に前記光導波路の光透過方向の中心
軸が一致して前記光ファイバの半径と等しい深さを有し
、かつ断面形状が半円形の光ファイバの案内溝を設け、
該案内溝に光ファイバを配置,加圧,固着して前記光導
波路の光接続端面と光ファイバの光接続端面を接続する
ものである。
、本発明に係る光接続器においては、基板上に形成され
た光導波路と光ファイバを光学的に結合する光接続器で
あって、前記基板上に前記光導波路の光透過方向の中心
軸が一致して前記光ファイバの半径と等しい深さを有し
、かつ断面形状が半円形の光ファイバの案内溝を設け、
該案内溝に光ファイバを配置,加圧,固着して前記光導
波路の光接続端面と光ファイバの光接続端面を接続する
ものである。
【0010】前記光接続器は、基板上に形成された光導
波路と光ファイバを光学的に結合する光接続器の加工方
法であって、円板状の回転砥石の外周面を用いた研削加
工法により、前記基板上の光ファイバ設置位置を断面形
状が半円形状となるように研削加工し、基板の光ファイ
バ設置位置に、光導波路の光透過方向の中心軸が一致し
光ファイバの半径と等しい深さをもつ光ファイバの案内
溝を形成することにより製造されるものである。
波路と光ファイバを光学的に結合する光接続器の加工方
法であって、円板状の回転砥石の外周面を用いた研削加
工法により、前記基板上の光ファイバ設置位置を断面形
状が半円形状となるように研削加工し、基板の光ファイ
バ設置位置に、光導波路の光透過方向の中心軸が一致し
光ファイバの半径と等しい深さをもつ光ファイバの案内
溝を形成することにより製造されるものである。
【0011】また、前記光ファイバの案内溝は、少なく
とも該案内溝の一端にテーパ部を有するものであり、該
テーパ部は、光ファイバを案内溝に誘導案内する作用を
するものであり、また、前記光ファイバの案内溝は、該
案内溝の長さ方向の中央部に該案内溝より深い逃げ部を
有するものである。
とも該案内溝の一端にテーパ部を有するものであり、該
テーパ部は、光ファイバを案内溝に誘導案内する作用を
するものであり、また、前記光ファイバの案内溝は、該
案内溝の長さ方向の中央部に該案内溝より深い逃げ部を
有するものである。
【0012】また、本発明に係る光接続器においては、
基板と、板状体と、案内溝とを有し、光導波路と光ファ
イバを光学的に結合する光接続器であって、基板は、光
導波路が形成されたものであり、板状体は、基板より対
加工特性が良好な異種材料からなり、基板の光導波路の
光接続端面に隣接して配置されたものであり、案内溝は
、板状体に形成され、基板の光導波路の光透過方向の中
心軸が一致し光ファイバの半径と等しい深さをもち、断
面形状が半円形状のものであり、光ファイバを光導波路
に対向させて保持するものである。
基板と、板状体と、案内溝とを有し、光導波路と光ファ
イバを光学的に結合する光接続器であって、基板は、光
導波路が形成されたものであり、板状体は、基板より対
加工特性が良好な異種材料からなり、基板の光導波路の
光接続端面に隣接して配置されたものであり、案内溝は
、板状体に形成され、基板の光導波路の光透過方向の中
心軸が一致し光ファイバの半径と等しい深さをもち、断
面形状が半円形状のものであり、光ファイバを光導波路
に対向させて保持するものである。
【0013】前記光接続器は、基板上に形成された光導
波路と板状体に保持された光ファイバとを光学的に結合
する光接続器の加工方法であって、光導波路が形状され
た基板より対加工性が良好な異種材料からなる板状体を
、前記基板上の光導波路の光接続端面に隣接して固定し
、該板状体に、前記光導波路の接続端面を目印として光
ファイバを挿入保持する案内孔を機械的ドリル加工法に
よって形成することにより製造されるものである。
波路と板状体に保持された光ファイバとを光学的に結合
する光接続器の加工方法であって、光導波路が形状され
た基板より対加工性が良好な異種材料からなる板状体を
、前記基板上の光導波路の光接続端面に隣接して固定し
、該板状体に、前記光導波路の接続端面を目印として光
ファイバを挿入保持する案内孔を機械的ドリル加工法に
よって形成することにより製造されるものである。
【0014】
【作用】第1の発明の光接続器では図1(a)に示すよ
うに、光導波路12及び13の接続端面24が形成され
たニオブ酸リチウム結晶基板11と同一基板上に、光導
波路12及び13の光透過方向と中心軸が一致し、かつ
基板11に対する深さが光ファイバ17の半径と等しい
案内溝14が形成されている。このため、光ファイバ1
7を案内溝14に配置して、光ファイバの接続端面25
が予め形成した光導波路の接続端面24に接するまで光
ファイバ17をスライドさせることで、容易に光接続で
きる。
うに、光導波路12及び13の接続端面24が形成され
たニオブ酸リチウム結晶基板11と同一基板上に、光導
波路12及び13の光透過方向と中心軸が一致し、かつ
基板11に対する深さが光ファイバ17の半径と等しい
案内溝14が形成されている。このため、光ファイバ1
7を案内溝14に配置して、光ファイバの接続端面25
が予め形成した光導波路の接続端面24に接するまで光
ファイバ17をスライドさせることで、容易に光接続で
きる。
【0015】ここで、案内溝14の断面形状は図1(b
)に示すように半円形であり、曲率半径は光ファイバ1
7の半径以上としている。この形状には、光ファイバ1
7を固着するために塗布する接着剤15が硬化するまで
の間に、接着剤15の表面張力によって光ファイバ17
の位置が、自動的に案内溝14の中心に調整される作用
がある。接着剤15が硬化するまでの間、光ファイバ1
7を適切な荷重Pで加圧すれば、光ファイバ17と光導
波路12及び13の接続端面の光軸を高精度に一致させ
て接続できる。
)に示すように半円形であり、曲率半径は光ファイバ1
7の半径以上としている。この形状には、光ファイバ1
7を固着するために塗布する接着剤15が硬化するまで
の間に、接着剤15の表面張力によって光ファイバ17
の位置が、自動的に案内溝14の中心に調整される作用
がある。接着剤15が硬化するまでの間、光ファイバ1
7を適切な荷重Pで加圧すれば、光ファイバ17と光導
波路12及び13の接続端面の光軸を高精度に一致させ
て接続できる。
【0016】さらに半円形の案内溝14は、接着剤15
を介して光ファイバ17の位置を拘束するため、硬化に
伴う接着剤15の体積変化による光ファイバ17の位置
ずれは生じにくい。よって、接続損失の増加が生じるこ
とはない。第2の発明の光接続器の加工方法では、図2
(a),(b)に示すように、円柱状の回転砥石16の
外周部全面あるいは砥石16を傾斜させて先端部の外周
面を用いて案内溝14を形成する。光導波路12及び1
3が形成されたニオブ酸リチウム結晶基板11は、難エ
ッチング材料であり、ドライエッチングやウェットエッ
チングによって案内溝14を形成することは困難である
。微小径の回転砥石16を用いた機械的研削加工手段に
よってのみ、半円形の断面形状を有する案内溝14を効
率的に形成できる。
を介して光ファイバ17の位置を拘束するため、硬化に
伴う接着剤15の体積変化による光ファイバ17の位置
ずれは生じにくい。よって、接続損失の増加が生じるこ
とはない。第2の発明の光接続器の加工方法では、図2
(a),(b)に示すように、円柱状の回転砥石16の
外周部全面あるいは砥石16を傾斜させて先端部の外周
面を用いて案内溝14を形成する。光導波路12及び1
3が形成されたニオブ酸リチウム結晶基板11は、難エ
ッチング材料であり、ドライエッチングやウェットエッ
チングによって案内溝14を形成することは困難である
。微小径の回転砥石16を用いた機械的研削加工手段に
よってのみ、半円形の断面形状を有する案内溝14を効
率的に形成できる。
【0017】また案内溝14を研削加工するには、図2
(b)に示すように光導波路12及び13に沿って砥石
16を移動すればよい。こうすることで、光導波路12
及び13の光透過方向と中心軸の一致した案内溝14が
容易に形成できる作用もある。第2の発明において案内
溝14を形成する際、図2(b)に示すように、距離セ
ンサ18によって基板11の表面との距離dを計測して
、基板11の表面に対する砥石16の切込み深さを算出
しながら研削加工する方法をとれば研削加工時の抵抗で
砥石16に弾性変形が発生して、実際の切込み量が設定
した切込み量より小さくなることを防止できる。
(b)に示すように光導波路12及び13に沿って砥石
16を移動すればよい。こうすることで、光導波路12
及び13の光透過方向と中心軸の一致した案内溝14が
容易に形成できる作用もある。第2の発明において案内
溝14を形成する際、図2(b)に示すように、距離セ
ンサ18によって基板11の表面との距離dを計測して
、基板11の表面に対する砥石16の切込み深さを算出
しながら研削加工する方法をとれば研削加工時の抵抗で
砥石16に弾性変形が発生して、実際の切込み量が設定
した切込み量より小さくなることを防止できる。
【0018】距離センサ18で計測した砥石16の切込
み量を基に砥石16を保持するz軸テーブル19の移動
量を制御することで、案内溝14の深さを光ファイバ1
7の半径と等しく形成することが可能となる。
み量を基に砥石16を保持するz軸テーブル19の移動
量を制御することで、案内溝14の深さを光ファイバ1
7の半径と等しく形成することが可能となる。
【0019】次に、第3及び第4の発明の作用について
図3を参照して説明する。第1の発明において形成した
半円形の案内溝14に光ファイバ17を配置する工程は
、シングルモード光ファイバ17の径が高々0.13m
mであることから、従来は困難な作業であった。そこで
、第3の発明では案内溝14の少なくとも一方の端をテ
ーパ状に形成している。この発明には、テーパ部21に
光ファイバ17を沿わせることで、光ファイバ17を案
内溝14に簡略に配置することができる作用がある。
図3を参照して説明する。第1の発明において形成した
半円形の案内溝14に光ファイバ17を配置する工程は
、シングルモード光ファイバ17の径が高々0.13m
mであることから、従来は困難な作業であった。そこで
、第3の発明では案内溝14の少なくとも一方の端をテ
ーパ状に形成している。この発明には、テーパ部21に
光ファイバ17を沿わせることで、光ファイバ17を案
内溝14に簡略に配置することができる作用がある。
【0020】また、第4の発明では、案内溝14の中央
部に案内溝14より深い逃げ部22を設けている。この
逃げ部22は通常の粗研削による溝入れ加工で容易に形
成することが可能であり、案内溝14の生産性を向上す
る作用がある。すなわち、案内溝14は光ファイバ17
の正確な位置調整と確実な固着のためにある一定以上の
長さを必要とするが、案内溝14の両端部分が高精度に
形成されていれば中央部は必ずしも必要でない。よって
、予め逃げ部22を設けることで、案内溝14の研削加
工に要する時間を大幅に低減することができる。
部に案内溝14より深い逃げ部22を設けている。この
逃げ部22は通常の粗研削による溝入れ加工で容易に形
成することが可能であり、案内溝14の生産性を向上す
る作用がある。すなわち、案内溝14は光ファイバ17
の正確な位置調整と確実な固着のためにある一定以上の
長さを必要とするが、案内溝14の両端部分が高精度に
形成されていれば中央部は必ずしも必要でない。よって
、予め逃げ部22を設けることで、案内溝14の研削加
工に要する時間を大幅に低減することができる。
【0021】第5の発明の光接続器では図4に示すよう
に、光導波路の接続端面24にニオブ酸リチウム結晶基
板11より対エッチング加工特性や対機械的研削加工特
性が良好な板状の材料23を、基板11が固定されてい
る固定用基板26に固定する。その上で、この板状の材
料23に光ファイバ17を配置、固着するための案内溝
14を設ける。その際、板状の材料23を固定するため
の工程・時間が新たに必要となる。しかし、図4に示す
ように、例えば案内溝14を円柱状の回転砥石16を用
いた研削加工によって形成する場合、板状の材料23の
対研削加工特性が良好であるため、加工速度は向上し、
案内溝14の形成に要する時間は短縮することができる
。
に、光導波路の接続端面24にニオブ酸リチウム結晶基
板11より対エッチング加工特性や対機械的研削加工特
性が良好な板状の材料23を、基板11が固定されてい
る固定用基板26に固定する。その上で、この板状の材
料23に光ファイバ17を配置、固着するための案内溝
14を設ける。その際、板状の材料23を固定するため
の工程・時間が新たに必要となる。しかし、図4に示す
ように、例えば案内溝14を円柱状の回転砥石16を用
いた研削加工によって形成する場合、板状の材料23の
対研削加工特性が良好であるため、加工速度は向上し、
案内溝14の形成に要する時間は短縮することができる
。
【0022】第6の発明の光接続器の加工方法では、図
5に示すように透明なガラス27を固定用基板26に固
定し、光フアイバ17を挿入するための案内孔30をド
リル28を用いた機械的な孔加工法によって形成する。 ここで案内孔30は、ガラス27を通して見える光導波
路の接続端面24を目印にして加工することで、容易に
光導波路12及び13と案内孔30の光透過方向の中心
軸を一致させることができる。
5に示すように透明なガラス27を固定用基板26に固
定し、光フアイバ17を挿入するための案内孔30をド
リル28を用いた機械的な孔加工法によって形成する。 ここで案内孔30は、ガラス27を通して見える光導波
路の接続端面24を目印にして加工することで、容易に
光導波路12及び13と案内孔30の光透過方向の中心
軸を一致させることができる。
【0023】また光ファイバ17を案内孔30に挿入,
固着する際、硬化前の接着剤の表面張力によって、光フ
ァイバ17は自動的に案内孔30の中心軸に調整できる
作用もある。
固着する際、硬化前の接着剤の表面張力によって、光フ
ァイバ17は自動的に案内孔30の中心軸に調整できる
作用もある。
【0024】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【0025】(実施例1)図1(a)及び(b)は、本
発明による光接続器及び加工方法の実施例1を示す図で
あり、(a)は案内溝14に光ファイバ17を配置した
状態の斜視図を示し、(b)は案内溝14の断面図を示
す。
発明による光接続器及び加工方法の実施例1を示す図で
あり、(a)は案内溝14に光ファイバ17を配置した
状態の斜視図を示し、(b)は案内溝14の断面図を示
す。
【0026】図において、ニオブ酸リチウム結晶基板1
1の−z面上に、チタン拡散による光導波路12及び1
3が形成されている。光導波路の幅及び深さは共に8μ
m程である。光導波路12及び13の上面には光導波路
の接続端面24を機械的な研削溝入れ加工によって高精
度に鏡面加工する際、発生するチッピングが光導波路の
接続端面24を損傷することを抑制するため、図1(b
)に示すように、予め1μm厚程のSiO2蒸着膜32
による保護膜が設けられている。保護膜はSiO2蒸着
膜32のほかにスパッタ膜やAl2O3の蒸着膜,スパ
ッタ膜でも同様の効果が得られる。
1の−z面上に、チタン拡散による光導波路12及び1
3が形成されている。光導波路の幅及び深さは共に8μ
m程である。光導波路12及び13の上面には光導波路
の接続端面24を機械的な研削溝入れ加工によって高精
度に鏡面加工する際、発生するチッピングが光導波路の
接続端面24を損傷することを抑制するため、図1(b
)に示すように、予め1μm厚程のSiO2蒸着膜32
による保護膜が設けられている。保護膜はSiO2蒸着
膜32のほかにスパッタ膜やAl2O3の蒸着膜,スパ
ッタ膜でも同様の効果が得られる。
【0027】まず光導波路12及び13の接続端面24
を、研削溝入れ加工法によって形成した。加工は、ダイ
ヤモンド砥粒径約3μm,外径76mm,幅0.5mm
の砥石を用いて行った。切込み約1mm,送り速度は6
mm/minとし、光導波路12及び13が形成された
−z面を上面としてダウンカット研削法でニオブ酸リチ
ウム結晶基板11の結晶軸の−yから+y方向に溝入れ
加工した。
を、研削溝入れ加工法によって形成した。加工は、ダイ
ヤモンド砥粒径約3μm,外径76mm,幅0.5mm
の砥石を用いて行った。切込み約1mm,送り速度は6
mm/minとし、光導波路12及び13が形成された
−z面を上面としてダウンカット研削法でニオブ酸リチ
ウム結晶基板11の結晶軸の−yから+y方向に溝入れ
加工した。
【0028】次に砥粒径約6μm,砥石径150μmの
円柱状の回転砥石16を用いて案内溝14を研削加工し
た。本実施例では第2の発明の光接続器の加工方法に従
い、図2(b)に示すように回転砥石16を傾斜させ、
送りテーブル20によって光導波路12及び13の光中
心軸方向に2mm/minの速度で基板11を移動させ
て、案内溝14を形成した。
円柱状の回転砥石16を用いて案内溝14を研削加工し
た。本実施例では第2の発明の光接続器の加工方法に従
い、図2(b)に示すように回転砥石16を傾斜させ、
送りテーブル20によって光導波路12及び13の光中
心軸方向に2mm/minの速度で基板11を移動させ
て、案内溝14を形成した。
【0029】ここで、砥石16の切込み量は、図2(b
)に示すように距離センサ18を用いて基板11の表面
に対する砥石16の切込み深さを計測しながら研削加工
した。すなわち光学的な距離センサ18を用いて、0.
1μm以下の精度で計測した距離dを基に、砥石16の
弾性変形量を差し引いた砥石16の実際の切込みを算出
し、インプロセスで砥石16を保持するz軸テーブル1
9の移動量を制御することで、案内溝14の深さを一定
に形成できた。
)に示すように距離センサ18を用いて基板11の表面
に対する砥石16の切込み深さを計測しながら研削加工
した。すなわち光学的な距離センサ18を用いて、0.
1μm以下の精度で計測した距離dを基に、砥石16の
弾性変形量を差し引いた砥石16の実際の切込みを算出
し、インプロセスで砥石16を保持するz軸テーブル1
9の移動量を制御することで、案内溝14の深さを一定
に形成できた。
【0030】以上の実施例によってニオブ酸リチウム結
晶基板11に、基板11に対する深さ63μm,幅13
6μm,長さ4mmの半円形の断面形状を有する案内溝
14を2本形成した。案内溝14の加工に要した時間は
4分程であった。例えば従来のエッチング技術では、案
内溝14を半円形に形成することは極めて困難である。 なお、案内溝14は図2(a)に示すように、円柱状の
砥石16を外周面全面を用いても上記の実施例と同様に
、加工時間4分程度で形成することが可能であった。 以上の後、図1(a)に示すように、案内溝14の中に
直径126μmのシングルモード光ファイバ17を配置
し、光ファイバの接続端面25が光導波路の接続端面2
4に接するまでスライドさせて、接着剤15を塗布した
。そして接着剤15が固着するまでの間、1gの荷重P
で光ファイバ17を加圧し、案内溝14に固着した。
晶基板11に、基板11に対する深さ63μm,幅13
6μm,長さ4mmの半円形の断面形状を有する案内溝
14を2本形成した。案内溝14の加工に要した時間は
4分程であった。例えば従来のエッチング技術では、案
内溝14を半円形に形成することは極めて困難である。 なお、案内溝14は図2(a)に示すように、円柱状の
砥石16を外周面全面を用いても上記の実施例と同様に
、加工時間4分程度で形成することが可能であった。 以上の後、図1(a)に示すように、案内溝14の中に
直径126μmのシングルモード光ファイバ17を配置
し、光ファイバの接続端面25が光導波路の接続端面2
4に接するまでスライドさせて、接着剤15を塗布した
。そして接着剤15が固着するまでの間、1gの荷重P
で光ファイバ17を加圧し、案内溝14に固着した。
【0031】案内溝14は、光ファイバ17と光導波路
12,13の光透過方向の中心軸が一致するように形成
されている。このため従来の技術では必要であった光フ
アイバ17の位置調整が不用となり、光接続に要する時
間を大幅に低減できた。また、光ファイバ17を接着剤
で固着する際、従来の技術ではたびたび発生していた光
ファイバ17の位置ずれを防止でき、位置ずれによって
発生する接続損失も低減できた。
12,13の光透過方向の中心軸が一致するように形成
されている。このため従来の技術では必要であった光フ
アイバ17の位置調整が不用となり、光接続に要する時
間を大幅に低減できた。また、光ファイバ17を接着剤
で固着する際、従来の技術ではたびたび発生していた光
ファイバ17の位置ずれを防止でき、位置ずれによって
発生する接続損失も低減できた。
【0032】(実施例2)図3は、本発明の実施例2を
示す図である。本実施例では、実施例1と同様のニオブ
酸リチウム基板11に、両端にテーパ部21を有する案
内溝14を、実施例1と同様に円柱状の回転砥石を用い
た研削加工によって形成した。また案内溝14を形成す
る前に、予め砥石厚さ2mmの粗砥粒砥石を用いた研削
溝入れ加工の手段によって、深さ1mm程の逃げ部22
を形成した。
示す図である。本実施例では、実施例1と同様のニオブ
酸リチウム基板11に、両端にテーパ部21を有する案
内溝14を、実施例1と同様に円柱状の回転砥石を用い
た研削加工によって形成した。また案内溝14を形成す
る前に、予め砥石厚さ2mmの粗砥粒砥石を用いた研削
溝入れ加工の手段によって、深さ1mm程の逃げ部22
を形成した。
【0033】テーパ部21は、案内溝14の両端部を加
工する際、円柱状の回転砥石を意図的に光透過方向の中
心軸からずらして、基板11を研削加工することで容易
に形成することができた。以上の実施例の後、実施例1
と同様に案内溝14の中に直径126μmのシングルモ
ード光ファイバ17を配置,加圧,固着し、光導波路の
接続端面24と光ファイバの接続端面25を接続した。 その結果、従来必要であった光軸調整は不用になり、光
ファイバ17の位置ずれによる接続損失も防止すること
ができた。なお本実施例において、従来は困難であった
案内溝14に光ファイバ17を配置する作業は、テーパ
部21に光フアイバ17を沿わせて配置することで、極
めて簡略に達成できるようになった。また、4mmの案
内溝14の長さに対して約2mm幅の逃げ部22を設け
ることにより、案内溝14の研削加工に要する時間を半
減することができた。
工する際、円柱状の回転砥石を意図的に光透過方向の中
心軸からずらして、基板11を研削加工することで容易
に形成することができた。以上の実施例の後、実施例1
と同様に案内溝14の中に直径126μmのシングルモ
ード光ファイバ17を配置,加圧,固着し、光導波路の
接続端面24と光ファイバの接続端面25を接続した。 その結果、従来必要であった光軸調整は不用になり、光
ファイバ17の位置ずれによる接続損失も防止すること
ができた。なお本実施例において、従来は困難であった
案内溝14に光ファイバ17を配置する作業は、テーパ
部21に光フアイバ17を沿わせて配置することで、極
めて簡略に達成できるようになった。また、4mmの案
内溝14の長さに対して約2mm幅の逃げ部22を設け
ることにより、案内溝14の研削加工に要する時間を半
減することができた。
【0034】(実施例3)図4,図5は、本発明の実施
例3を示す図である。本実施例では、実施例1と同様の
ニオブ酸リチウム基板11を用い、光導波路12及び1
3の接続端面24を、研削切断加工法によって形成した
。そして接続端面24が形成された基板11を固定用基
板26に固定し、さらに基板11より対研削加工特性が
良好な板状のガラス材料23を、接着剤を用いて固定用
基板26に接続端面24に隣接して固定した。
例3を示す図である。本実施例では、実施例1と同様の
ニオブ酸リチウム基板11を用い、光導波路12及び1
3の接続端面24を、研削切断加工法によって形成した
。そして接続端面24が形成された基板11を固定用基
板26に固定し、さらに基板11より対研削加工特性が
良好な板状のガラス材料23を、接着剤を用いて固定用
基板26に接続端面24に隣接して固定した。
【0035】しかる後に、砥粒径約6μm,砥石径15
0μmの円柱状の砥石16を用いて板状の材料23に光
ファイバの案内溝14を研削加工した。本実施例では実
施例1と同様に円柱状の砥石16を傾斜させ、送りテー
ブル20によって光導波路12及び13の光軸方向に4
mm/minの速度で基板11を移動させて、断面形状
が半円形の案内溝14を形成した。その際、砥石16を
板状の材料23に切り込む位置は、基板11の光導波路
12及び13の延長上として、案内溝14と光導波路1
2及び13の光透過方向の中心軸が一致するようにした
。
0μmの円柱状の砥石16を用いて板状の材料23に光
ファイバの案内溝14を研削加工した。本実施例では実
施例1と同様に円柱状の砥石16を傾斜させ、送りテー
ブル20によって光導波路12及び13の光軸方向に4
mm/minの速度で基板11を移動させて、断面形状
が半円形の案内溝14を形成した。その際、砥石16を
板状の材料23に切り込む位置は、基板11の光導波路
12及び13の延長上として、案内溝14と光導波路1
2及び13の光透過方向の中心軸が一致するようにした
。
【0036】その結果、板状の材料23を固定するため
の工程・時間が増加したものの、板状の材料23の対研
削加工特性が良好であるため、送りテーブル20の速度
は向上でき、案内溝14の形成に要する時間は短縮する
ことができた。
の工程・時間が増加したものの、板状の材料23の対研
削加工特性が良好であるため、送りテーブル20の速度
は向上でき、案内溝14の形成に要する時間は短縮する
ことができた。
【0037】なお板状の材料23として、例えば対エッ
チング加工特性がニオブ酸リチウム基板11よりも良好
な基板等を使用し、フォトリソグラフィー法やレーザエ
ッチング法によって、光ファイバ17の案内を形成する
ことも可能である。
チング加工特性がニオブ酸リチウム基板11よりも良好
な基板等を使用し、フォトリソグラフィー法やレーザエ
ッチング法によって、光ファイバ17の案内を形成する
ことも可能である。
【0038】また本実施例では、対ドリル加工特性が良
好で、かつ透明な板状のガラス27を固定用基板26に
固定した後、光導波路12及び13の反対側の接続端面
24から可視光源31を用いて光を入射させた。そして
ガラス27を通して見える光導波路の接続端面24を目
印にして、直径が130μmのドリル28を用いて、光
透過方向の中心軸が一致した案内孔30を加工した。
好で、かつ透明な板状のガラス27を固定用基板26に
固定した後、光導波路12及び13の反対側の接続端面
24から可視光源31を用いて光を入射させた。そして
ガラス27を通して見える光導波路の接続端面24を目
印にして、直径が130μmのドリル28を用いて、光
透過方向の中心軸が一致した案内孔30を加工した。
【0039】以上の後、案内孔30に光ファイバ17を
挿入し、光導波路の接続端面24と光ファイバの接続端
面25を接続し、接着剤を用いて光ファイバ17を案内
孔30に固定した。光ファイバ17は接着剤の表面張力
によって、案内孔30の中心軸に自動的に調整され、固
定された。従来必要であった光軸調整は実施例1と同様
に不用となり、光ファイバ17の位置ずれによる接続損
失も防止することができた。
挿入し、光導波路の接続端面24と光ファイバの接続端
面25を接続し、接着剤を用いて光ファイバ17を案内
孔30に固定した。光ファイバ17は接着剤の表面張力
によって、案内孔30の中心軸に自動的に調整され、固
定された。従来必要であった光軸調整は実施例1と同様
に不用となり、光ファイバ17の位置ずれによる接続損
失も防止することができた。
【0040】以上の実施例においては、光導波路が形成
された基板としてニオブ酸リチウム基板を用いたが、ガ
ラス基板や半導体基板などの他の基板を使用しても本発
明を適用できる。
された基板としてニオブ酸リチウム基板を用いたが、ガ
ラス基板や半導体基板などの他の基板を使用しても本発
明を適用できる。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の光接続器及
び加工方法によれば、ニオブ酸リチウム結晶をはじめと
する基板に形成された光導波路と光ファイバの光接続端
面の接続が従来より容易に短時間で行え、かつ接続損失
を低減できる効果がある。
び加工方法によれば、ニオブ酸リチウム結晶をはじめと
する基板に形成された光導波路と光ファイバの光接続端
面の接続が従来より容易に短時間で行え、かつ接続損失
を低減できる効果がある。
【図1】(a)及び(b)は、本発明の実施例1を示す
図であり、(a)は光接続方法を示す斜視図、(b)は
、同案内溝の断面図である。
図であり、(a)は光接続方法を示す斜視図、(b)は
、同案内溝の断面図である。
【図2】(a)は、本発明の実施例1における案内溝の
加工部を示す断面図、(b)は、同加工部の斜視図であ
る。
加工部を示す断面図、(b)は、同加工部の斜視図であ
る。
【図3】本発明の実施例2に係る光接続器による案内溝
の形状を示す斜視図である。
の形状を示す斜視図である。
【図4】本発明の実施例3に係る案内溝加工部を示す断
面図である。
面図である。
【図5】本発明の実施例3に係る案内溝の加工方法を示
す断面図である。
す断面図である。
11 基板
12,13 光導波路
14 案内溝
15 接着剤
16 砥石
17 光ファイバ
18 距離センサ
19 z軸テーブル
20 送りテーブル
21 テーパ部
22 逃げ部
23 板状の材料
24 光導波路の接続端面
25 光ファイバの接続端面
26 固定用基板
27 ガラス
28 ドリル
29 案内溝の端面
30 案内孔
31 光源
32 保護膜
Claims (6)
- 【請求項1】 基板上に形成された光導波路と光ファ
イバを光学的に結合する光接続器であって、前記基板上
に前記光導波路の光透過方向の中心軸が一致して前記光
ファイバの半径と等しい深さを有し、かつ断面形状が半
円形の光ファイバの案内溝を設け、該案内溝に光ファイ
バを配置,加圧,固着して前記光導波路の光接続端面と
光ファイバの光接続端面を接続することを特徴とする光
接続器。 - 【請求項2】 基板上に形成された光導波路と光ファ
イバを光学的に結合する光接続器の加工方法であって、
円板状の回転砥石の外周面を用いた研削加工法により、
前記基板上の光ファイバ設置位置を断面形状が半円形状
となるように研削加工し、基板の光ファイバ設置位置に
、光導波路の光透過方向の中心軸が一致し光ファイバの
半径と等しい深さをもつ光ファイバの案内溝を形成する
ことを特徴とする光接続器の加工方法。 - 【請求項3】 前記光ファイバの案内溝は、少なくと
も該案内溝の一端にテーパ部を有するものであり、該テ
ーパ部は、光ファイバを案内溝に誘導案内する作用をす
るものであることを特徴とする請求項1に記載の光接続
器。 - 【請求項4】 前記光ファイバの案内溝は、該案内溝
の長さ方向の中央部に該案内溝より深い逃げ部を有する
ものであることを特徴とする請求項1に記載の光接続器
。 - 【請求項5】 基板と、板状体と、案内溝とを有し、
光導波路と光ファイバを光学的に結合する光接続器であ
って、基板は、光導波路が形成されたものであり、板状
体は、基板より対加工特性が良好な異種材料からなり、
基板の光導波路の光接続端面に隣接して配置されたもの
であり、案内溝は、板状体に形成され、基板の光導波路
の光透過方向の中心軸が一致し光ファイバの半径と等し
い深さをもち、断面形状が半円形状のものであり、光フ
ァイバを光導波路に対向させて保持するものであること
を特徴とする光接続器。 - 【請求項6】 基板上に形成された光導波路と板状体
に保持された光ファイバとを光学的に結合する光接続器
の加工方法であって、光導波路が形状された基板より対
加工性が良好な異種材料からなる板状体を、前記基板上
の光導波路の光接続端面に隣接して固定し、該板状体に
、前記光導波路の接続端面を目印として光ファイバを挿
入保持する案内孔を機械的ドリル加工法によって形成す
ることを特徴とする光接続器の加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10879291A JPH04315109A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 光接続器及びその加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10879291A JPH04315109A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 光接続器及びその加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04315109A true JPH04315109A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=14493599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10879291A Pending JPH04315109A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 光接続器及びその加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04315109A (ja) |
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1991
- 1991-04-12 JP JP10879291A patent/JPH04315109A/ja active Pending
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