JPH0431759A - 高周波誘導結合プラズマ分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ分析装置Info
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- JPH0431759A JPH0431759A JP2135296A JP13529690A JPH0431759A JP H0431759 A JPH0431759 A JP H0431759A JP 2135296 A JP2135296 A JP 2135296A JP 13529690 A JP13529690 A JP 13529690A JP H0431759 A JPH0431759 A JP H0431759A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギを供給し
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ該プラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分析
する高周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いて試料
中の被測定成分を分析する分析方法に関する。
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ該プラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分析
する高周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いて試料
中の被測定成分を分析する分析方法に関する。
〈従来の技術〉
第２図は、高周波誘導結合プラズマ分析装置（以下、ｒ
ＩＣＰ−ＭＳＪという）の−船釣な構成説明図である。
ＩＣＰ−ＭＳＪという）の−船釣な構成説明図である。
この図において、プラズマトチ１の外室１ｂと最外室Ｉ
Ｃにはガス調節器２を介してアルゴンガス供給源３から
アルゴンカスが供給され、内室１ａには試料導入装置４
内の固体試料がレーザ光源５から照射されたレーザ光に
よって気化されてのちキャリアガスであるアルゴンガス
によって搬入されるようになっている。尚、試料が液体
の場合は、第２図の試料導入装置４とレーザ光源５が除
去され、導入される液体試料を霧化してプラズマトーチ
１の内室１ａに供給するネプライザが装着される。また
、試料は固体であることよりも液体であることが多い。
Ｃにはガス調節器２を介してアルゴンガス供給源３から
アルゴンカスが供給され、内室１ａには試料導入装置４
内の固体試料がレーザ光源５から照射されたレーザ光に
よって気化されてのちキャリアガスであるアルゴンガス
によって搬入されるようになっている。尚、試料が液体
の場合は、第２図の試料導入装置４とレーザ光源５が除
去され、導入される液体試料を霧化してプラズマトーチ
１の内室１ａに供給するネプライザが装着される。また
、試料は固体であることよりも液体であることが多い。
更に、プラズマトーチ１に巻回された高周波誘導コイル
６には高周波電源１０によって高周波電流が流され、該
コイル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ７が生ずる
。
６には高周波電源１０によって高周波電流が流され、該
コイル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ７が生ずる
。
また、ノズル８とスキマー９に挟まれたフォアチャンバ
ー本体１１内は、真空ポンプ１２によって例えばＩ Ｔ
ｏ ｒ ｒ 、に吸引されている。更に、センターチ
ャンバー１３内にはイオンレンズ１４ａ、１４ｂが設け
られると共に、該センターチャンバー１３の内部は第１
油拡散ポンプ１５によって例えば１０−’Ｔｏｒｒ、に
吸引され、マスフィルタ（例えば四重極マスフィルタ）
１６を収容しているリアチャンバー１７内は第２油拡散
ポンプ１８によって例えば１０−’Ｔｏｒｒ、に吸引さ
れている。この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述
のようにして気化された試料が導入され、イオン化や発
光が行われる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８や
スキマー９を経由してのちイオンレンズ１４ａ、１４ｂ
（若しくはダブレット四重径レンズ）の間を通って収
束され、その後、マスフィルタ１６を通り二次電子増倍
管１９に導かれて検出される。この検出信号が信号処理
部２０に送出されて演算・処理されることによって、前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。
ー本体１１内は、真空ポンプ１２によって例えばＩ Ｔ
ｏ ｒ ｒ 、に吸引されている。更に、センターチ
ャンバー１３内にはイオンレンズ１４ａ、１４ｂが設け
られると共に、該センターチャンバー１３の内部は第１
油拡散ポンプ１５によって例えば１０−’Ｔｏｒｒ、に
吸引され、マスフィルタ（例えば四重極マスフィルタ）
１６を収容しているリアチャンバー１７内は第２油拡散
ポンプ１８によって例えば１０−’Ｔｏｒｒ、に吸引さ
れている。この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述
のようにして気化された試料が導入され、イオン化や発
光が行われる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８や
スキマー９を経由してのちイオンレンズ１４ａ、１４ｂ
（若しくはダブレット四重径レンズ）の間を通って収
束され、その後、マスフィルタ１６を通り二次電子増倍
管１９に導かれて検出される。この検出信号が信号処理
部２０に送出されて演算・処理されることによって、前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。
一方、有機溶媒などの試料に含まれている金属不純物を
分析するのに従来は、原子吸光分析装置や高周波誘導プ
ラズマ発光分光分析装置が用いられていた。
分析するのに従来は、原子吸光分析装置や高周波誘導プ
ラズマ発光分光分析装置が用いられていた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
然しなから、原子吸光分析装置や高周波誘導プラズマ分
光分析装置はいずれも干渉成分の影響を回避できず再現
性や検出感度が低いという欠点があった。また、第２図
で詳述したようなＩＣＰ−ＭＳを用いて試料中の金属不
純物を分析することも試みられていたが、試料としては
粘度の低いものに限定されるうえ試料である有機溶媒の
種類によっては高周波誘導プラズマを維持できなくなる
という欠点があった。
光分析装置はいずれも干渉成分の影響を回避できず再現
性や検出感度が低いという欠点があった。また、第２図
で詳述したようなＩＣＰ−ＭＳを用いて試料中の金属不
純物を分析することも試みられていたが、試料としては
粘度の低いものに限定されるうえ試料である有機溶媒の
種類によっては高周波誘導プラズマを維持できなくなる
という欠点があった。
更に、高周波誘導プラズマ内に試料を仮に導入できたと
しても該試料に含まれている有機溶媒の組成元素である
炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計インターフ
ェイスの一部である細孔に析出し、最悪の場合、該細孔
を閉塞するとｔ）う欠点があった０、ｔな、試料が有機
溶媒たけである場合には、キャリアガス（Ａｒガス）の
中に酸素ガスを約５％混入させることにより、通常のネ
プライザを用いた試料導入方法でもＩＣＰ−ＭＳで試料
を分析できることが知られている。しかし、この場合に
は、有機溶媒に起因する大量の炭素の混入によってＩＣ
Ｐ−ＭＳの感度が大幅に低下するという欠点があった。
しても該試料に含まれている有機溶媒の組成元素である
炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計インターフ
ェイスの一部である細孔に析出し、最悪の場合、該細孔
を閉塞するとｔ）う欠点があった０、ｔな、試料が有機
溶媒たけである場合には、キャリアガス（Ａｒガス）の
中に酸素ガスを約５％混入させることにより、通常のネ
プライザを用いた試料導入方法でもＩＣＰ−ＭＳで試料
を分析できることが知られている。しかし、この場合に
は、有機溶媒に起因する大量の炭素の混入によってＩＣ
Ｐ−ＭＳの感度が大幅に低下するという欠点があった。
本発明は、かかる状況に鑑みてなされものであり、その
課題は、ＩＣＰ−ＭＳに通常のネプライザ導入方法では
導入できないような物質の中に含まれているような金属
不純物をも効率良く分析できるような分析方法を提供す
ることにある。
課題は、ＩＣＰ−ＭＳに通常のネプライザ導入方法では
導入できないような物質の中に含まれているような金属
不純物をも効率良く分析できるような分析方法を提供す
ることにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、ＩＣＰ−ＭＳを用いて試料中の被測定成分を
分析する分析方法において、前記試料を加熱して気化す
る加熱気化導入装置と前記ＩＣＰＭＳを結ぶキャリアカ
スラインに、混入ガス導入口から導入された混入カスを
、マスフローコントローラで流量調節して供給すること
によって、前記試料に含まれている有機溶媒の組成元素
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを防止するようにしたことに
ある。
分析する分析方法において、前記試料を加熱して気化す
る加熱気化導入装置と前記ＩＣＰＭＳを結ぶキャリアカ
スラインに、混入ガス導入口から導入された混入カスを
、マスフローコントローラで流量調節して供給すること
によって、前記試料に含まれている有機溶媒の組成元素
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを防止するようにしたことに
ある。
く作用〉
本発明は次のように作用する。
即ち、混入ガス導入口から導入された他のガス（例えば
、Ｈｅガス）が、開閉弁→マスフローコントローラー開
閉弁を通って、加熱気化導入装置とＩＣＰ−ＭＳの間に
設けられているキャリアガスラインに供給される。この
ため、ＩＣＰ−ＭＳに混入ガス導入口から導入された他
のガスが供給され、その結果、ＩＣＰ−ＭＳインターフ
ェイス部細孔の閉塞を防止できるようになる。
、Ｈｅガス）が、開閉弁→マスフローコントローラー開
閉弁を通って、加熱気化導入装置とＩＣＰ−ＭＳの間に
設けられているキャリアガスラインに供給される。この
ため、ＩＣＰ−ＭＳに混入ガス導入口から導入された他
のガスが供給され、その結果、ＩＣＰ−ＭＳインターフ
ェイス部細孔の閉塞を防止できるようになる。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第２
図と同一記号は同一意味を持たせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、２１は第２図を用いて詳述した
ＩＣＰ−ＭＳ、２２は加熱気化導入装置、２３はマスフ
ローコントロラ、２４ａ、２４ｂは開閉弁、２５ａはキ
ャリアガス導入口、２５ｂは混入ガス導入口である。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第２
図と同一記号は同一意味を持たせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、２１は第２図を用いて詳述した
ＩＣＰ−ＭＳ、２２は加熱気化導入装置、２３はマスフ
ローコントロラ、２４ａ、２４ｂは開閉弁、２５ａはキ
ャリアガス導入口、２５ｂは混入ガス導入口である。
尚、２５ｂから導入される混入ガスとしては、分析対象
となる試料が有機溶媒（例えば、オイルやレジストなど
）である場合には、酸素とＡｒ（アルゴン）の混合ガス
が用いられ、試料がシリコン系溶液である場合には、酸
素と四フッ化炭素の混合ガス、三フッ化窒化ガス、酸素
と四フッ化炭素とＡｒの混合ガス、又は三フッ化窒化ガ
スとＡｒの混合ガスが用いられる。
となる試料が有機溶媒（例えば、オイルやレジストなど
）である場合には、酸素とＡｒ（アルゴン）の混合ガス
が用いられ、試料がシリコン系溶液である場合には、酸
素と四フッ化炭素の混合ガス、三フッ化窒化ガス、酸素
と四フッ化炭素とＡｒの混合ガス、又は三フッ化窒化ガ
スとＡｒの混合ガスが用いられる。
このような構成からなる本発明の実施例において、分析
対象である試料が２５〜２００μ！だけ加熱気化導入装
置２２の炉に導入され、その後、徐々に炉の温度が上昇
させられると、試料中の溶液成分や金属不純物は蒸発さ
せられる。このようにして蒸発してきた溶液成分や金属
不純物は、キャリアガスで運ばれてＩＣＰ−ＭＳ２１に
導入され、第２図を用いて前述したようにして分析され
る。このとき、第２図の高周波誘導プラズマ７の中で分
解された溶液主成分は、ＩＣＰ−ＭＳのインターフェイ
ス部細孔で析出して該細孔を塞ぐことがある。
対象である試料が２５〜２００μ！だけ加熱気化導入装
置２２の炉に導入され、その後、徐々に炉の温度が上昇
させられると、試料中の溶液成分や金属不純物は蒸発さ
せられる。このようにして蒸発してきた溶液成分や金属
不純物は、キャリアガスで運ばれてＩＣＰ−ＭＳ２１に
導入され、第２図を用いて前述したようにして分析され
る。このとき、第２図の高周波誘導プラズマ７の中で分
解された溶液主成分は、ＩＣＰ−ＭＳのインターフェイ
ス部細孔で析出して該細孔を塞ぐことがある。
このようなインターフェイス部細孔の閉塞を防止するた
め、第１図の加熱気化導入装置２２とＩＣＰ−ＭＳ２１
の間に設けられているキャリアガスラインに他のガスが
加えらる。即ち、第１図の混入ガス導入口２５ｂから導
入された他のガス（例えば、Ｈｅガス）が、開閉弁２４
ｂ→マス７０−コントローラ２３→開閉弁２４ａを週っ
て、加熱気化導入装！２２とＩＣＰ−ＭＳ２１の間に設
けられているキャリアガスラインに供給される。
め、第１図の加熱気化導入装置２２とＩＣＰ−ＭＳ２１
の間に設けられているキャリアガスラインに他のガスが
加えらる。即ち、第１図の混入ガス導入口２５ｂから導
入された他のガス（例えば、Ｈｅガス）が、開閉弁２４
ｂ→マス７０−コントローラ２３→開閉弁２４ａを週っ
て、加熱気化導入装！２２とＩＣＰ−ＭＳ２１の間に設
けられているキャリアガスラインに供給される。
このなめ、ＩＣＰ−ＭＳに混入ガス導入口がら導入され
た他のガスが供給され、その結果、インターフェイス部
細孔の閉塞が未然に防止できるようになる。また、加熱
気化導入装置２２で気化されて供給される試料の溶液主
成分と金属不純物の温度によって、加熱気化導入装置２
２とＩＣＰ−ＭＳ２１の間に設けられているキャリアガ
スラインへのガス供給（混入）が連続的ないし断続的に
行われるようになっている。
た他のガスが供給され、その結果、インターフェイス部
細孔の閉塞が未然に防止できるようになる。また、加熱
気化導入装置２２で気化されて供給される試料の溶液主
成分と金属不純物の温度によって、加熱気化導入装置２
２とＩＣＰ−ＭＳ２１の間に設けられているキャリアガ
スラインへのガス供給（混入）が連続的ないし断続的に
行われるようになっている。
尚、本発明は上述の実施例に限定されることなく種々の
変形が可能である。
変形が可能である。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したように、本発明は、高周波誘導コイ
ルに高周波エネルギーを供給し高周波磁界を形成して高
周波誘導結合プラズマを生じさせ該プラズマを利用して
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析装置を用いて試料中の被測定成分を分析す
る分析方法において、前記試料を加熱して気化する加熱
気化導入装置と前記高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置を結ぶキャリアガスラインに、混入ガス導入口から導
入された混入ガスを、マスフローコントローラで流量調
節して供給するように構成した。
ルに高周波エネルギーを供給し高周波磁界を形成して高
周波誘導結合プラズマを生じさせ該プラズマを利用して
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析装置を用いて試料中の被測定成分を分析す
る分析方法において、前記試料を加熱して気化する加熱
気化導入装置と前記高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置を結ぶキャリアガスラインに、混入ガス導入口から導
入された混入ガスを、マスフローコントローラで流量調
節して供給するように構成した。
このため、前記試料に含まれている有機溶媒の組成元素
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを回避できようになる。従っ
て、ＩＣＰ−ＭＳに通常のネプライザ導入方法では導入
できないような試料の中に含まれている金属不純物をも
ＩＣＰ−ＭＳで効率良く分析できるようになる。４、図
面の簡単な説明 第１図は本発明実施例の構成説明図、第２図は高周波誘
導プラズマ質量分析装置のに一般的な構成説明図である
。
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを回避できようになる。従っ
て、ＩＣＰ−ＭＳに通常のネプライザ導入方法では導入
できないような試料の中に含まれている金属不純物をも
ＩＣＰ−ＭＳで効率良く分析できるようになる。４、図
面の簡単な説明 第１図は本発明実施例の構成説明図、第２図は高周波誘
導プラズマ質量分析装置のに一般的な構成説明図である
。
１・・・・・・プラズマトーチ、２・・・・・・流量制
御部、３・・・・・・アルゴンガス供給源、４・・・・
・・試料セル、６・・・・・・高周波誘導コイル、 ７・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、８・・・・・
・ノズル、９・・・・・・スキマー、１６・・・・・・
マスフィルタ、１７・・・・・・リアチャンバー ２０
・・・・・・信号処理部、２１・・・ＩＣＰ−ＭＳ、２
２・・・加熱気化導入波！、２３・・・マスフローコン
トローラ、 ２４ａ、２４ｂ−開閉弁、 ２５ａ・・・キャリアガス導入口、 ２５ｂ・・・混入ガス導入口
御部、３・・・・・・アルゴンガス供給源、４・・・・
・・試料セル、６・・・・・・高周波誘導コイル、 ７・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、８・・・・・
・ノズル、９・・・・・・スキマー、１６・・・・・・
マスフィルタ、１７・・・・・・リアチャンバー ２０
・・・・・・信号処理部、２１・・・ＩＣＰ−ＭＳ、２
２・・・加熱気化導入波！、２３・・・マスフローコン
トローラ、 ２４ａ、２４ｂ−開閉弁、 ２５ａ・・・キャリアガス導入口、 ２５ｂ・・・混入ガス導入口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給し高周波
磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさせ該プ
ラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分析する高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いて試料中の被
測定成分を分析する分析方法において、 前記試料を加熱して気化する加熱気化導入装置と前記高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置を結ぶキャリアガス
ラインに、混入ガス導入口から導入された混入ガスを、
マスフローコントローラで流量調節して供給することを
特徴とする 分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135296A JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135296A JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431759A true JPH0431759A (ja) | 1992-02-03 |
| JP2836190B2 JP2836190B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=15148387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2135296A Expired - Fee Related JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2836190B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007024787A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Ajinomoto Co Inc | 誘導結合プラズマ分析法およびそのための装置 |
| JP2008064488A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 |
| JP2008089576A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-04-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 |
| CN102395398A (zh) * | 2009-02-23 | 2012-03-28 | 日本烟草产业株式会社 | 非加热型烟草香味吸取器 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP2135296A patent/JP2836190B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007024787A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Ajinomoto Co Inc | 誘導結合プラズマ分析法およびそのための装置 |
| JP2008064488A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 |
| JP2008089576A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-04-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 |
| CN102395398A (zh) * | 2009-02-23 | 2012-03-28 | 日本烟草产业株式会社 | 非加热型烟草香味吸取器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2836190B2 (ja) | 1998-12-14 |
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Legal Events
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