JPH0431859B2 - - Google Patents

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JPH0431859B2
JPH0431859B2 JP57125113A JP12511382A JPH0431859B2 JP H0431859 B2 JPH0431859 B2 JP H0431859B2 JP 57125113 A JP57125113 A JP 57125113A JP 12511382 A JP12511382 A JP 12511382A JP H0431859 B2 JPH0431859 B2 JP H0431859B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可視光線を透過し、赤外線を反射する
光透過性シートに関する。更に詳しくは可視光線
を透過し近赤外光から赤外線までを透過しない選
択光透過性積層体に関する。本発明の積層体は建
物や車輌の窓ガラスに貼ることができ、また合せ
ガラスとして使用できる中間体であり、シーート
(膜)状であることから、以下積層中間膜と称す
ることがある。
一般に金,銀,銅およびそれらを主成分とする
各種合金等の導電性薄膜を、透明高屈折率誘電体
層ではさんだ積層体において、各構成薄膜層の膜
厚を適宜コントロールする事により、特定波長域
の光線を選択的に透過するものが得られる事が知
られている。
特に可視部に透明で近赤外部から赤外線までを
選択的に反射する積層体は、熱線反射フイルムと
してビル,住宅,乗物等の省エネルギー等の点か
ら有効である。しかし、ビル,住宅等の建物,及
び乗物の省エネルギーの分野において更に利用効
率を向上させるためには、太陽光線のエネルギー
分布の中で人間の目には感じないが、太陽照射エ
ネルギーの約50%が存在する近赤外部の透過特性
をより低下させ可視光線部の透過特性をより向上
させる事が断熱には更に有効である。これらの特
性を改善させる事によつて高温作業における防熱
性向上,建物,容器,乗物の窓から入射する太陽
エネルギーの遮断性向上による冷暖房効果の更な
る向上、冷凍冷蔵シヨーケースにおける保冷効果
の更なる向上が期待される。
本発明の目的は、かかる向上した光選択透過性
を有する構成体としてフアブリ・ペロー・フイル
ターを応用し、かかる構成体を熱可塑性樹脂層と
接させる事により窓部等への貼付及び応用に簡便
とした積層中間膜を提供する事にある。
従来選択光透過性を有する光学干渉フイルター
としては、フアブリ・ペロー・フイルターがよく
知られている。
これは相対する半透性鏡の間に特定の光学膜厚
を有する透明誘電体をはさみ、特定波長の光だけ
を透過する干渉フイルターとして知られている。
このフアブリ・ペロー・フイルターを応用する
と、可視部の透過特性が高く近赤外部の反射特性
の高い選択光透過性シートが得られる事が米国特
許第3682528号明細書に示されている。
それによれば、例えば 基板/金属層/誘電体/金属層/誘電体の構成
としてガラス/Ni/Ag/Al2O3/Ni/Ag/
Al2O3という構成体で400nmから700nmの透過率
が70%以上でありかつ反射率が約10%、700nmか
ら2500nmでの透過率が10%以下であり、かつ反
射率が約90%以上の選択光透過性積層体が得られ
るという。
フアブリ・ペロー・フイルターにおいては、半
透過性反射鏡である金属膜厚を薄くすれば透過波
長幅が拡大し、かつ透過率が向上する事又誘電体
の屈折率を低くすれば透過波長幅が狭くなる事が
理論的に知られている。
計算により例えば500nmに透過ピークが得られ
る様に誘電体の屈折率と厚さを選び金属膜厚を充
分薄くすれば可視部の透過特性が高く、近赤外部
の遮断特性の良いフイルターを構成する事ができ
る。従来フイルターの用途としては精密光学用途
が主であり、その点から光学定数の安定した吸収
の少い酸化物等の金属化合物が透明誘電体として
用いられていた。しかし省エネルギー用途で、建
物窓等に用いる場合は大面積への適用が不可欠で
あり、従来の金属化合物を透明誘電体として用い
たのでは工業規模での生産は不可能である。
これは金属酸化物等によつて金属薄膜層の表面
を均一に大面積にわたつて被覆する技術がいまだ
未完成の技術るという事を意味する。金属酸化物
の膜厚が薄く50Å以下である様な場合には簡便に
金属膜から金属酸化物膜を熱酸化等により形成す
る事も可能ではあるが、本発明の様に1000Å程度
の膜厚を均一に大面積に工業的規模で行う事は不
可能であるといえる。
我々は、かかる構成体を広く省エネルギー用途
に応用すべく鋭意検討した結果フアブリ・ペロ
ー・フイルターに有機高分子化合物からなる透明
誘電体層を応用する事により、光学的に透明で且
つ均一な光学特性を有する光選択透過膜を大面積
にわたつて作成する事が可能であり、更にかかる
積層体の少くとも一面を熱可塑性樹脂からなる層
と接させる事により実際の応用にも非常に簡便と
なる事を見出し本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、光選択透過性を有する構
成体と該構成体の少くとも一面に接して設けられ
た熱可塑性樹脂層とよりなる積層体であつて、該
構成体は有機重合体フイルム(A)の少くとも一面に
金属薄膜層(B)、有機高分子化合物からなる透明誘
電体層(C)及び必要に応じて設けられる保護層(D)か
らなり、しかも(A)/(B)/(C)/(B)又は(A)/(B)/(C)

(B)/(D)の順に積層されていること、また該熱可塑
性樹脂層は粘着性を備えていることを特徴とする
赤外線遮断性の積層中間膜である。
本発明でいう有機重合体フイルム(A)は特に限定
する必要はないが、本発明の積層中間膜を透明な
窓等に貼付して適用する目的に対しては500nmに
おける透過率が少くとも50%以上、好ましくは75
%以上でである透明性を有する事が必要であり、
この条件を満す有機重合体フイルム(A)であれば従
来公知のいかなるフイルムでもよいが、その内ポ
リエチレンテレフタレートフイルム,ポリカーボ
ネートフイルム,ポリプロピレンフイルム,ポリ
エチレンフイルム,ポリエチレンナフタレート,
ポリサルホンフイルム,ポリエーテルサルホンフ
イルム,ナイロンフイルム等が好ましく用いられ
る。
又、これらの有機重合体フイルム中にその有機
重合体フイルムの機械的特性及び光学特性を損な
わない程度の着色剤、紫外線吸収剤、色素等を含
ませても本発明に用いられる有機重合体フイルム
として何ら差しつかえない。
本発明でいう熱可塑性樹脂層とは透明な熱可塑
性樹脂から形成される層であれば特に限定される
ものではない。ここでいう透明とは500nmの波長
において少くとも80%以上の透過率を有する事を
いう。熱可塑性樹脂層は少くとも本発明でいう光
選択透過性を有する構成体の一面と接しておれば
良い。これはシート状の熱可塑性樹脂層にかかる
構成体を圧着しても良いし、又かかる構成体上に
熱可塑性樹脂層を塗工によつて設けても良い事を
意味する。
かかる熱可塑性樹脂層は構成体表面あるいは裏
面を保護する作用及び構成体を実際の窓等に貼付
する際の接着層,粘着層としての作用を有してい
る。従つてこの熱可塑性樹脂層は窓等に貼付でき
る程度の粘着性を備えている必要がある。この目
的に適合する熱可塑性樹脂層を形成しうる熱可塑
性樹脂としては、例えばポリビニルブチラール,
ポリアクリル酸エステル,ポリ酢酸ビニル,ポリ
ビニルエーテル,ポリ塩化ビニル,ポリエチレン
プロピレンコポリマー,ポリエステルコポリマー
等がある。これらには粘着特性を改善するため
に、一般には粘着性付与剤等が混入される場合が
ある。光選択透過性を有する構成体を合せ窓等に
用いる場合には、熱可塑性樹脂としてポリビニル
ブチラールが好ましい。
本発明の積層体に用いられる金属薄膜層(B)の材
料としては可視光領域の吸収損失が少ければよ
い。光学的特性とは直接関係はないが、金属薄膜
層(B)は一般に電気伝導性の高い金属や合金でもあ
る。中でもとりわけ銀を主成分にしている事が好
ましい。他に含有させうる金属としては金,銅,
アルミニウム等が好ましいが、銀の有する特性を
低下せしめない含有量であれば、どの様な金属を
含んでいてもさしつかえない。銀の含有量は、得
られる積層体の光学特性を支配する重要な因子で
あり、少くとも40重量%、好ましくは50重量%以
上含有されている事が好ましい。
又、特に赤外反射能の高い積層体を得る為には
金,銀,銅の三元素から選ばれた2種又は3種の
金属からなる合金の金属薄膜層(B)あるいはそれら
の単独の金属薄膜層(B)である事が好ましい。
金属薄膜層(B)の膜厚は、得られた積層体の光学
特性における要求特性を満足すれば、特に限定さ
れるものではないが、赤外光反射能をもつために
は、少くともある程度の領域で膜としての連続性
をもつことが必要である。
金属薄膜は、その島状構造から安定した連続構
造に移る膜厚として約30Å以上が必要となる。
積層体が充分な可視光透過率と充分な赤外光反
射率を有するためには、金属薄膜層(B)の膜厚は約
40Å以上、約120Å以下である事が特に好ましい。
金属薄膜層(B)を形成する方法は、例えば真空蒸
着法、カソードスパツタリング法、イオンプレー
テイング法等の他に従来公知のいずれの方法でも
可能であるが、120Å以下の膜厚で安定な膜を形
成せしむるためにはカソードスパツタリング法、
イオンプレーテイング法等の高エネルギー粒子に
よる膜形成法が好ましい。特に合金薄膜を得る場
合には、形成薄膜合金組成の均一性、形成薄膜膜
厚の均一性の点からカソードスパツタリング法が
好ましい。
又、金属薄膜層(B)を形成する際に薄膜である金
属層の安定化を画るために公知の方法で基板とな
る材料に前処理をほどこす事ができる。これらの
方法は、例えばイオンボンバードメントの様な表
面クリーニング処理、有機シリケート、有機チタ
ネート、有機ジルコネート化合物の塗工等の下塗
り処理及び/又は金属Ni,Ti,Si,Bi,Zr,V,
Ta等及びこれら金属の酸化物等をスパツタリン
グ等によつて前もつて形成する核形成安定化処理
等があり、積層体の光学特性に悪影響を与えない
範囲で適当に選択して使用すれば良い。これらの
前処理が厚みの増加を伴う処理の場合はその厚さ
は100Å以下である事が好ましい。更には、前記
金属薄膜層(B)を設けた後に、後処理として上記前
処理と同様の処理を行つてもよい。
本発明に用いられる透明誘電体層(C)としては屈
折率が1.35から1.65の間にあり、光学的に透明で
均一な塗工が可能な有機高分子化合物であれば何
でも用いる事が可能である。しかし光学フイルタ
ーの用途に用いるものであるため、厚さ1μの層
を形成した時に、500nmの光を85%以上透過し、
表面凹凸が少く局部的な濁り等のない均質な透明
誘電体層(C)を形成しうる有機高分子化合物である
事が好ましい。
これらに適合した有機高分子化合物としては、
フツ化ビニルヘキサフルオロプロピレン共重合
体,フツ化ビニリデンテトラフルオロエチレン共
重合体,クロロトリフルオロエチレンフツ化ビニ
ル共重合体,フツ化ビニリデンクロロトリフルオ
ロエチレン共重合体等のフツ素樹脂等、アクリロ
ニトリル,ポリメタアクリロニトリル,ポリメチ
ルメタアクリレート等のアクリル樹脂,アクリレ
ート樹脂及びそれらの混合物あるいは共重合体、
ポリスチレン樹脂,塩化ビニル樹脂,酢酸ビニル
樹脂,ポリビニルアルコール樹脂,ポリビニルブ
チラールル樹脂,フエノキシ樹脂,ポリエステル
樹脂,ポリウレタン樹脂等の樹脂及びそれらの混
合物,共重合体,及び以上挙げたものが架橋化物
が好ましく用いられる。
特に屈折率の低いフツ素樹脂等を用いると、近
赤外部の遮断率を高める事が可能である。
透明誘電体層(C)の膜厚は、選択透過させる液長
と得られるた透明誘電体層(C)の屈折率との関係に
よつて決定される。屈折率が1.35〜1.65の間にあ
る有機高分子化合物の場合、1400Å〜1150Åの膜
厚にすれば可視500nmに最大透過率を有する積層
体となる。この様に透明誘電体層(C)の膜厚は所望
する光学特性と、透明誘電体層(C)の屈折率によつ
て適当に決定する事ができる。
透明誘電体層(C)の形成方法としては、選ばれた
樹脂を溶解できる溶剤に適当な密度の樹脂を溶解
せしめ、小面積であればスピンコーテイング,バ
ーコーター,ドクターナイフ等で塗工し乾燥する
事によつて得る事ができる。大面積の場合にはグ
ラビアロールコータ,リバースロールコータ等の
機械により塗工後乾燥する事により、任意の厚さ
の透明誘電体層(C)を形成する事ができる。乾燥さ
せる温度は、使用する樹脂,溶剤によつて異るが
通常80℃〜150℃である。
本発明の積層体の様に光学的用途に有機高分子
化合物を用いる場合、得られた塗膜の物性が積層
体の光学特性を支配するため、純度ならびに均一
性にすぐれた樹脂を選ぶ必要性があるとともに塗
工法も均一な膜厚が達成できる方法を適宜選択す
る必要がある。好ましくは設定膜厚の±5%以内
の膜厚範囲におさえる必要がある。
本発明の構成体には、光学的機能を有する積層
構造(A)/(B)/(C)/(B)を保護する目的で、最外層(D)
を形成する事ができる。かかる保護層(D)は本発明
の構成体を機械的な損傷,化学物質等の汚染物
質,水分等の浸入等から保護する役割を有してい
る。この目的を達成し、かつ構成体の光学特性に
悪影響をおよぼさないためには、保護層(D)の材料
としては光学的に透明でかつ保護能力にすぐれた
材料が好ましい。Si,Al,Ti,Zr,Ta等の酸化
物あるいは前記金属の2種あるいは3種の混合酸
化物等の無機化合物からなる膜あるいはアクリロ
ニトリル,ポリメタアクリロニトリル,ポリメチ
ルメタアクリレート等のアクリル樹脂、アクリレ
ート樹脂及びそれらの共重合体,ポリスチレン樹
脂,酢酸ビニル樹脂,フエノキシ樹脂,ポリエス
テル樹脂,ポリウレタン樹脂等の樹脂及びそれら
の混合物,共重合体から形成された合成高分子か
らなる膜が好ましく用いられる。
この保護層は熱可塑性樹脂に限定される事なく
熱硬化性樹脂も使用する事ができる。
又、特に使用環境がきびしい状態に本発明の積
層中間膜がおかれる場合、種々の厚さを有するポ
リエチレンフイルム,ポリプロピレンフイルム,
ナイロンフイルム,ポリエステルフイルム,ポリ
カーボネートシート等を公知の方法でラミネート
して保護層(D)として使用する事もできる。
ポリビニルルブチラールシート,ポリカーボネ
ートシート等を公知の方法でラミネートして保護
層(D)として使用する事もできる。
無機化合物からなる膜を、保護層(D)として用い
る場合には、スパツタリング,真空蒸着,イオン
ブレーテイング,等の物理的形成法が好ましく用
いられるが、金属アルコキサイド化合物を適当な
溶剤に希釈塗工する公知の金属酸化物薄膜形成法
によつて、金属酸化物からなる保護層(D)を得る事
もできる。
合成高分子からなる膜を保護層(D)として用いる
場合には、前述した樹脂を溶解せしめる適当な溶
剤に溶解し、塗工乾燥する事によつて合成高分子
からなる保護層(D)を得る事ができる。本発明にお
ける保護層(D)は単一の層ばかりではなく、2層,
3層の積層構造であつても良い。これは無機化合
物と合成高分子の相互の積層構造,無機化合物相
互の積層構造であつても良い。これら積層構造の
保護層(D)にする事によつてより良好な保護機能を
有した本発明の構成体の保護層(D)を得る事ができ
る。
又、保護層(D)の面に本発明でいう熱可塑性樹脂
層が接している場合においても、保護層(D)の効果
が減ずることもなく、又、本発明でいう熱可塑性
樹脂層と接する光選択透過性を有する構成体の特
性が何ら損なわれる訳ではない。
本発明の保護層(D)の厚さは積層体を保護する能
力があれば限定されるものではないが、保護能力
の点から0.1μ以上、積層体の光学特性を低下させ
ないためには50μm以下、特に好ましくは35μm以
下が好ましい。
以下に本発明の具体的説明を実施例で示す。
実施例 1 2軸延伸した厚さ75μのポリエステルフイルム
を基板とし、その上に第1層として厚さ80Åの銀
薄膜層、第2層として厚さ1200Åのフツ化ビニル
ヘキサフルオロプロピレン共重合体からなる透明
誘電体層、第3層として厚さ80Åの銀薄膜層を形
成した。
銀薄膜層は、銀金属をターゲツトとしArガス
圧力5+10-3TorrにおけるDCマグネトロンスパ
ツタリングによつて形成した。投入電力はターゲ
ツトの単位面積あたり2.1W/cm2であつた。
透明誘電体層は、フツ化ビニルヘキサフルオロ
プロピレン共重合体をメチルエチルケトン2部、
メチルイソブチルケトン1部、酢酸セルソルブ2
部からなる溶剤に3重量%溶解し、バーコータを
用いて塗工し、100℃で3分乾燥する事によつて
得た。得られた透明誘電体層の屈折率は1.41であ
つた。かかる積層体の基板ポリエステルフイルム
面にポリビニルブチラール樹脂からなる層を形成
した。
ポリビニルブチラールからなる層は、ポリビニ
ルブチラール樹脂をトルエン2部、酢酸エチル1
部からなる溶剤に10wt%溶解せしめ、バーコー
タで塗工後100℃で2分間乾燥して設けた。その
膜厚は10μであつた。
得られた積層中間膜の500nmでの透過率は74
%,10μでの赤外光反射率は81%であつた。
また、太陽エネルギーの強度分布で規格化した
積分可視透過率(400nmから700nmまで)、積分
近赤外透過率(700nm以上から2100nmまで)を
求めた所、積分可視光透過率は72%であり、積分
近赤外光透過率は28%であつた。
実施例 2 実施例1で用いたポリエステルフイルム上に第
1層として厚さ90Åの銅を10wt%含む銀銅薄膜
層,第2層として厚さ1000Åのポリメタアクリロ
ニトリルからなる透明誘電体層、第3層として厚
さ90Åの銅を10wt%含む銀銅薄膜層を形成し、
第4層として厚さ2μのアクリレート樹脂からな
る保護層を形成した後、厚さ380μのポリビニル
ブチラール樹脂からなるシートを圧着した。
銅を10wt%含む銀銅薄膜層は、銀90wt%銅
10wt%からなる銀銅合金ターゲツトを用いてス
パツタリングによつて形成したスパツタリング条
件は実施例1と同じである。
ポリメタアクリロニトリルからなる透明誘電体
層は、ポリメタアクリロニトリル樹脂を3wt%含
むシクロヘキサノン1部、メチルエチルケトン2
部からなる溶液をバーコータで塗工し、10℃で2
分間乾燥して設けた。
アクリレート樹脂からなる保護層は、アクリレ
ート樹脂(三菱レイヨン製ダイヤナールLR574)
を10wt%含むトルエン1部,メチルイソブチル
ケトン2部からなる溶液をバーコータで塗工して
120℃で2分間乾燥した。しかるのち得られた積
層体を厚さ380μのポリビニルブチラールシート
ではさみこんだのち100℃に加熱し、1Kg/cm2
圧力をかける事によつて圧着した。
得られた積層中間膜の500mmでの透過率は72%
であり、積分可視光透過率は70%,積分近赤外光
透過率は28%であつた。
実施例 3 厚さ50μの2軸延伸ポリエステルフイルム上に
厚さ20Åの酸化チタン層,金を15重量%含む厚さ
90Åの銀金薄膜層,厚さ20Åの酸化チタン層,ポ
リスチレン樹脂から形成された厚さ1100Åの透明
誘電体層,厚さ20Åの酸化チタン層,金を15重量
%含む厚さ90Åの銀金薄膜層,厚さ20Åの酸化チ
タン層を順次積層してなる積層体の両面にポリビ
ニルブチラール樹脂からなる層を形成し積層中間
膜を得た。
金を15重量%含む厚さ90Åの銀金薄膜層は金を
15重量%含む金と銀からなる合金をターゲツトと
してDCマグネトロンスパツタリング法によつて
形成した厚さ20Åの酸化チタン薄膜層はTiをタ
ーゲツトとし酸素ガスを2wt%含んだArを
30SCCM流しながら5×10-3Torrの圧力下でDC
マグネトロンスパツタリングによりTiと酸素ガ
スを反応させながら形成した。ポリスチレン樹脂
からなる透明誘電体層はポリスチレン樹脂を3wt
%含むトルエン5部,酢酸エチル1部からなる溶
液をバーコータで塗工し、110℃で3分間乾燥し
て得た。ポリビニルブチラール樹脂からなる層
は、ポリビニルブチラールを20wt%含むトルエ
ン2部,酢酸エチル1部からなる溶液をバーコー
タで塗工し厚さ30μからなる層を得た。
得られた積層中間膜の500nmの透過率は72%で
あり、積分可視透過率は70%,近赤外光透過率は
72%であつた。
実施例 4 実施例1で得られた積層中間膜の第3層である
銀薄膜層上に厚さ30Åのテトラブチルチタネート
から形成された酸化チタン層を形成したのち、厚
さ2μのポリメタアクリロニトリル層からなる保
護層を形成し、しかるのち得られた積層構成体の
ポリメタアクリロニトリルからなる面を厚さ
330μのポリビニルブチラールシートと圧着させ
た積層中間膜を得た。
テトラブチルチタネートから形成された酸化チ
タン層は、テトラブチルチタネートを0.8wt%含
むブタノール3部、イソプロパノール2部からな
る溶液をバーコータで塗工、乾燥して得た。乾燥
温度は120℃、乾燥時間は3分間であつた。
ポリメタアクリロニトリル層からなる保護層
は、ポリメタアクリロニトリルを10wt%含むシ
クロヘキサノン2部,メチルエチルケトン1部か
らなる溶液をバーコータで塗工し、120℃で2分
間乾燥して形成した。ポリビニルブチラールシー
トとの圧着はかかる構成体のポリメタアクリロニ
トリル面に厚さ380μのポリビニルブチラールシ
ートを合せ、100℃、1Kg/cm3という温度,圧力
下で1時間にわたり処理する事により圧着した。
得られた積層中間膜の500nmでの透過率は72%
であり、積分可視透過率は72%,積分近赤外光透
過率は26%であつた。
実施例 5 2軸延伸した厚さ75μmのポリエステルフイル
ムを基板とし、その上に第1層として厚さ80Åの
銀薄膜層、第2層としてメタアクリロニトリル
(90部)と2−ヒドロキシエチルメタアクリレー
ト(10部)との共重合体の架橋体からなる厚さ
800Åの透明誘電体層、第3層として厚さ80Åの
銀薄膜層を形成した。
第1,3層の銀薄膜層は、銀金属をターゲツト
としArガス圧力5×10-3Torr下DCマグネトロン
スパツタリングにより形成した。投入電力はター
ゲツトの単位面積あたり2W/cm2であつた。
第2層の透明誘電体層は、メタアクリロニトリ
ル90部と2−ヒドロキシエチルメタアクリレート
10部とから形成された共重合体1部とイソシアネ
ート化合物(トリメチロールプロパンとキシリレ
ンジイソシアネートとの付加物:タケネート A
−10,武田薬品工業株式会社製)0.4部とを、シ
クロヘキサノン−アセトン−メチルエチルケトン
混合溶媒(混合比5:2:1)に上記共重合体が
2重量%の濃度になる様に溶解した溶液をバーコ
ーターで塗工し、120℃で2分間乾燥することに
より、上記共重合体が上記イソシアネート化合物
で架橋された薄膜層として形成した。
得られた積層体の波長500nmでの可視光透過率
は77%であり、同10μでの赤外光反射率は82%で
あつた。
また上記積層体の、太陽エネルギーの強度分布
で規格化した積層可視光透過率は72%であり、同
積分近赤外透過率は30%であつた。
上記積層体をその両側から厚さ380μmのポリビ
ニルブチラールシートではさみ込んだのち、110
℃に加熱し1Kg/cm2の圧力をかけて圧着した。得
られた積層中間膜の波長500mμでの可視光透過率
は72%であり、積分可視光透過率は71%,積分近
赤外光透過率は26%であつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光選択透過性を有する構成体と該構成体の少
    くとも一面に接して設けられた熱可塑性樹脂層と
    よりなる積層体であつて、該構成体は有機重合体
    フイルム(A)の少くとも一面に金属薄膜層(B)、有機
    高分子化合物からなる透明誘電体層(C)及び必要に
    応じて設けられる保護層(D)からなり、しかも(A)/
    (B)/(C)/(B)又は(A)/(B)/(C)/(B)/(D)の順に積層

    れていること、また該熱可塑性樹脂層は粘着性を
    備えていることを特徴とする赤外線遮断性の積層
    中間膜。
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