JPH0257498B2

JPH0257498B2 -

Info

Publication number: JPH0257498B2
Application number: JP57115331A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Yatabe; Toshio Nishihara; Masao Suzuki
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1982-06-30
Filing date: 1982-06-30
Publication date: 1990-12-05
Also published as: JPS5926251A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は可視光線を透過し赤外線を反射する光
透過性シートに関する。更に詳しくは可視光線を
透過し近赤外光から赤外線を反射する光透過性シ
ートに関する。一般に金，銀，銅及びそれらを主成分とする各
種合金等の導電性金属薄膜を、透明高屈折率誘電
体層ではさんだ積層体において各構成薄膜の膜厚
をコントロールする事により、特定波長域の光線
を選択的に反射するものが得られる事が知られて
いる。特に可視部に透明で赤外線波長域を選択的に反
射する積層体は熱線反射フイルムとしてビル、住
宅等の省エネルギー、太陽エネルギー利用などの
点から有効である。しかし、ビル、住宅等の省エ
ネルギー、太陽エネルギー利用の分野において更
に利用効率を向上させるためには、太陽光線のエ
ネルギー分布の中で可視光線部（450nm〜
700nm）、近赤外線部（701nm〜2100nm）の透過
特性に選択性を持たせた方が更に有効である。つ
まり太陽エネルギー分布の中で人間の目には感じ
ないが、熱線の約50％が存在する近赤外線部の透
過特性をより低下され、可視光線部の透過特性を
より向上させる事が断熱に更に有効である。これ
らの特性を向上させる事によつて高温作業におけ
る防熱性向上、建物、容器、乗物の窓から入射す
る太陽エネルギーの遮断特性向上による冷暖房効
果の更なる向上、冷凍、冷蔵シヨーケースにおけ
る保冷効果の更なる向上に応用する事ができる。これら選択透過性を有する光学干渉フイルター
としては一般にフアブリ・ペロー・フイルター
（Fabry−Perot filter）がよく知られている。こ
れは相対する半透性鏡の間に特定の光学膜厚を有
する透明誘電体をはさみ特定波長の光だけを透過
する干渉フイルターとして知られている。このフ
アブリ・ペロー・フイルターを応用すると可視部
の透過特性が高く近赤外部の反射特性の高い選択
光透過性シートが得られる事が米国特許第
3682528号明細書に示されている。それによれば、
例えば基板／金属層／誘電体／金属層の構成とし
てガラス／Ni／Ag／Al₂O₃／Ni／Ag／Al₂O₃と
いう構成体で400nmから700nmの透過率が70％以
上でありかつ反射率が約10％、700nmから
2500nmでの透過率が10％以下でありかつ反射率
が約90％以上の選択光透過性積層体が得られてい
る。フアブリ・ペロー・フイルターにおいては、半
透過性反射鏡である金属膜厚を薄くすれば透過波
長幅が拡大し、かつ透過率が向上する事又誘電体
の屈折率を低くすれば透過波長幅が狭くなる事が
知られている。計算により誘電体の屈折率と厚さ
を例えば500nmに透過ピークが得られる様に選
び、金属膜厚を充分薄くすれば可視部の透過特性
が高く、近赤外部の遮断特性の良いフイルターを
構成する事ができる。従来フイルターの用途とし
ては精密光学用途が主であり、その点から光学定
数の安定した吸収の少い酸化物等の金属化合物が
透明誘電体として用いられていた。しかし太陽エ
ネルギーの利用等省エネルギー用途で建物窓等に
用いる場合は大面積への適用が不可欠であり、従
来の金属化合物を透明誘電体として用いたのでは
工業規模での生産は不可能である。これは金属酸化物等によつて金属薄膜層の表面
を均一に大面積にわたつて被覆する技術がいまだ
未完成の技術であるという事を意味する。金属酸
化物の膜厚が薄く50Å以下である様な場合には簡
便に金属膜から金属酸化物膜を熱酸化等により形
成する事も可能ではあるが、本発明の様に1000Å
程度の膜厚を均一に大面積に工業的規模で行う事
は不可能であるといえる。我々はかかる構成体を広く太陽エネルギー利用
等省エネルギー用途に応用すべく鋭意検討した。その結果、屈折率が1.35〜1.65である有機化合
物を均一に塗工する事により、光学的に透明で均
一な光学的特性を有する透明誘電体層(C)を形成で
きる事が可能である事を見出した。従来有機化合物は、その光学的特性の不均一
さ、光学的損失の大きさ等から一部の例外を除い
て光学材料には用いられていなかつた。しかるに
屈折率が1.35〜1.65の有機化合物からなる透明誘
電体層(C)は大面積にわたつて光学的に均質で、か
つ均一に金属薄膜層を光学的ゆらぎのない層とし
て被覆できる事を見出し本発明に到達したもので
ある。すなわち本発明は、有機重合体フイルム(A)の少
くとも一方の面に厚さ40Åから500Åの金属薄膜
層(B)、厚さ200Åから3000Åの透明誘電体層(C)、
及び厚さ0.1μから50μの透明保護層(D)が(A)／(B)／
(C)／(B)又は(A)／(B)／(C)／(B)／(D)の順に積層され
て
なる積層体において、当該透明誘電体層(C)が屈折
率1.35から1.65である有機樹脂からなる事を特徴
とする積層体である。本発明でいう有機重合体フイルム(A)は特に限定
する必要はないが、本発明の積層体を透明な窓等
に貼付して適用するという目的に対しては500mμ
における透過率が少くとも50％以上好ましくは75
％以上である透明性を有する事が必要であり、こ
の条件を満す有機重合体フイルム(A)であれば従来
公知のいかなるフイルムでもよいが、その内、ポ
リエチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボ
ネートフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリ
エチレンフイルム、ポリエチレンナフタレートフ
イルム、ポリサルホンフイルム、ポリエーテルサ
ルホンフイルム、ナイロンフイルム等が好ましく
用いられる。又、これらの有機重合体フイルム中にその有機
重合体フイルムの機械的特性及び光学特性を損な
わない程度の着色剤、紫外線吸収剤、色素等を含
ませても本発明に用いられる有機重合体フイルム
として何ら差しつかえない。本発明の積層体に用いられる金属薄膜層(B)の材
料としては可視光領域の吸収損失が少く、電気伝
導性の高い金属又は合金ならばいかなるものでも
良いが、中でもとりわけ銀を主成分にしている事
が好ましい。他に含有させうる金属としては、
金、銅、アルミニウム等が好ましいが銀の有する
特性を低下せしめない含有量であれば、どの様な
金属を含んでいてもさしつかえない。銀の含有量
は得られる積層体の光学特性を支配する重要な因
子であり、少くとも40重量％、好ましくは50重量
％以上含有されている事が好ましい。又、特に赤外反射能の高い積層体を得る為には
金、銀、銅の三元素から選ばれた２種又は３種の
金属からなる合金の金属薄膜層(B)あるいはそれら
の単独の金属薄膜層(B)である事が好ましい。金属薄膜層(B)の膜厚は、得られた積層体の光学
特性における要求特性を満足すれば特に限定され
るものではないが、赤外光反射能、又は電気伝導
性をもつためには、少くともある程度の領域で膜
としての連続性をもつことが必要である。金属薄
膜が島状構造から連続構造にうつる膜厚として約
30Å以上、また本発明の目的である可視光の透過
特性を高くするためには、500Å以下である事が
好ましい。積層体が充分な可視光透過率と充分な赤外光反
射率を有するためには、金属薄膜層(B)の膜厚は約
40Å以上、約120Å以下である事が特に好ましい。金属薄膜層(B)を形成する方法は、例えば真空蒸
着法、カソードスパツタリング法、イオンプレー
テイング法等の他に従来公知のいずれの方法でも
可能であるが、120Å以下の膜厚で安定な膜を形
成せしむるためにはカソードスパツタリング法、
イオンプレーテイング法等の高エネルギー粒子に
よる膜形成法が好ましい。特に合金薄膜を得る場
合には、形成薄膜合金組成の均一性、形成薄膜膜
厚の均一性の点からカソードスパツタリング法が
好ましい。又、金属薄膜層(B)を形成する際に薄膜である金
属層の安定化を画るために公知の方法で基板とな
る材料に前処理をほどこす事ができる。これらの
方法は、例えばイオンボンバードメントの様なク
リーニング処理、有機シリケート、有機チタネー
ト、有機ジルコネート化合物の塗工等の下塗り処
理、及び／又は金属Ni，Ti，Si，Bi，Zr，Ｖ，
Ta，等及びこれら金属の酸化物等をスパツタリ
ング等によつて前もつて形成する核形成安定化処
理等があり、積層体の光学特性に悪影響を与えな
い範囲で適当に選択して使用すれば良い。これら
の前処理が厚みの増加を伴う処理の場合はその厚
さは100Å以下である事が好ましい。この前処理
と同様の処理を金属層の上に後処理として行つて
もよい。本発明に用いられる透明誘電体層(C)としては屈
折率が1.35から1.65の間にあり、光学的に透明で
あり、均一な塗工が可能な有機樹脂であれば何で
も用いる事が可能である。しかし光学フイルター
の用途に用いるものであるため、厚さ1μの層を
形成した時に500mμの光を85％以上透過し、表面
凹凸が少く局部的な濁り等のない均質な透明誘電
体層(C)を形成しうる有機樹脂である事が好まし
い。これらに適合した有機樹脂としては、フツ化ビ
ニルヘキサフルオロプロピレン共重合体、フツ化
ビニリデンテトラフルオロエチレン共重合体、ク
ロロトリフルオロエチレンフツ化ビニル共重合
体、フツ化ビニリデンクロロトリフルオロエチレ
ン共重合体等のフツ素樹脂等、アクリロニトリ
ル、ポリメタアクリロニトリル、ポリメチルメタ
アクリレート等のアクリル樹脂、アクリレート樹
脂及びそれらの混合物あるいは共重合体、ポリス
チレン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、フエノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、等の樹脂及びそれらの混合物、
共重合体、及び以上挙げたものの架橋化物が好ま
しく用いられる。特に屈折率の低いフツ素樹脂等を用いると近赤
外部の遮断率を高める事が可能である。透明誘電体層(C)の膜厚は選択透過させる波長と
得られた透明誘電体層(C)の屈折率との関係によつ
て決定される。屈折率が1.35〜1.65の間にある有
機樹脂の場合、1400Å〜1150Åの膜厚にすれば可
視500nmに最大透過率を有する積層体となる。こ
の様に透明誘電体層(C)の膜厚は所望する光学特性
と、透明誘電体層(C)の屈折率によつて適当に決定
する事ができる。透明誘電体層(C)の形成方法としては、選ばれた
樹脂を溶解できる溶剤に適当な濃度の樹脂を溶解
せしめ、小面積であればスピンコーテイング、バ
ーコーター、ドクターナイフ等で塗工し乾燥する
事によつて得る事ができる。大面積の場合にはグ
ラビアロールコータ、リバースロールコータ等の
機械により塗工後乾燥する事により、任意のの厚
さの透明誘電体層(C)を形成する事ができる。乾燥
させる温度は、使用する樹脂、溶剤にもよつて異
るが通常80℃〜150℃である。本発明の積層体の様に光学的用途に有機樹脂を
用いる場合、得られた塗膜の物性が積層体の光学
特性を支配するため純度ならびに均一性にすぐれ
た樹脂を選ぶ必要性があるとともに、塗工法も均
一な膜厚が達成できる方法を適宜選択する必要が
ある。好ましくは設定膜厚の±５％以内の膜厚範
囲におさめる必要がある。本発明の積層体には、光学的機能を有する積層
構造(A)／(B)／(C)／(B)を保護する目的で最外層(B)の
上に保護層(D)を形成する事ができる。かかる保護
層(D)は、本発明の積層体を機械的な損傷、化学物
質等の汚染物質、水分等の浸入等から保護する役
割を有している。この目的を達成しかつ積層体の光学特性に悪影
響をおよぼさないためには、保護層(D)の材料とし
ては光学的に透明でかつ保護能力にすぐれた材料
が好ましい。本発明に使用しうる保護層(D)の材料
としては、Si，Al，Ti，Zr，Ta等の酸化物ある
いは前記金属の２種あるいは３種の混合酸化物等
の無機化合物からなる類、あるいはアクリロニト
リル、ポリメタアクリロニトリル、ポリメチルメ
タアクリレート等のアクリル樹脂、アクリレート
樹脂及びそれらの共重合体、ポリスチレン樹脂、
酢酸ビニル樹脂、フエノキシ樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂及びそれらの混
合物、共重合体から形成された有機化合物からな
る膜が好ましく用いられる。又特に使用環境がきびしい場合には、種々の厚
さを有するポリエチレンフイルム、ポリプロピレ
ンフイルム、ナイロンフイルム、トリアセテート
フイルム、ポリエステルフイルム、ポリビニルブ
チラールシート、ポリカーボネートシート等を公
知の方法でラミネートして保護層(D)として使用す
る事もできる。無機化合物からなる膜を、保護層(D)として用い
る場合にはスパツタリング、真空蒸着、イオンプ
レーテイング等の物理的形成法が好ましく用いら
れるが、金属アルコキサイド化合物を適当な溶剤
に希釈塗工する公知の金属酸化物薄膜形成法によ
つて金属酸化物からなる保護層(D)を得る事もでき
る。有機化合物からなる膜を保護層(D)として用いる
場合には、前述した樹脂を溶解せしめる適当な溶
剤に溶解し、塗工乾燥する事によつて有機化合物
からなる保護層(D)を得る事ができる。本発明にお
ける保護層(D)は単一の層ばかりではなく、２層、
３層の積層構造であつても良い。これは無機化合
物と有機化合物の相互の積層構造であつても良い
し、有機化合物相互の積層構造、無機化合物相互
の積層構造であつても良い。これら積層構造の保
護層(D)にする事によつてより良好な保護機能を有
した本発明の積層体の保護層(D)を得る事ができ
る。積層体の保護層(D)の厚さは積層体を保護する能
力があれば限定されるものではないが、保護能力
の点から0.1μ以上、積層体の光学特性を低下させ
ないためには50μm以下、特に好ましくは35μm以
下が好ましい。以下に本発明の具体的説明を実施例で示す。実施例１２軸延伸した厚さ75μのポリエステルフイルム
を基板とし、その上に第１層として厚さ80Åの銀
薄膜層、第２層として厚さ1400Åのフツ化ビニル
ヘキサフルオロプロピレン共重合体からなる透明
誘電体層、第３層として厚さ80Åの銀薄膜層を形
成した。銀薄膜層は、銀金属をターゲツトとしArガス
圧力５×10^-3TorrにおけるDCマグネトロンスパ
ツタリングによつて形成した。投入電力はターゲ
ツトの単位面積あたり2W／cm²であつた。透明誘電体層は、フツ化ビニルヘキサフルオロ
プロピレン共重合体をメチルエチルケトン２部、
メチルイソブチルケトン１部、酢酸セルソルブ２
部からなる溶剤に３重量％溶解し、バーコータを
用いて塗工し、100℃で３分乾燥する事によつて
得た。得られた透明誘電体層の屈折率は1.41であ
つた。得られた積層体の500mμでの透過率は76％、
10μでの赤外光反射率は81％であつた。また得られた積層体を太陽エネルギーの強度分
布で規格化した積分可視光透過率は73％（400nm
から700nm）であり積分近赤外光透過率（750nm
から2100nm）は31％であつた。実施例２銀薄膜層を銅を10重量％含む銀銅薄膜層とする
以外かは実施例１と同様の積層体を構成した。銀
銅薄膜層は、銅を10重量％含む銀銅合金をターゲ
ツトとしてスパツタリングによつて形成した。得られた積層体の500mμでの透過率は77％であ
り、10μでの赤外光反射率は80％であつた。積分可視透過率は74％であり、積分近赤外光透
過率は32％であつた。実施例３実施例２で得られた積層体に厚さ2μのポリメ
タアクリロニトリルからなる保護層を設けた積層
体を得た。ポリメタアクリロニトリルからなる保
護層は、ポリメタアクリロニトリルをメチルエチ
ルケトン１部、シクロヘキサノン２部からなる溶
剤に10重量％溶解し、バーコータで塗工して130
℃２分乾燥して得た。得られた積層体の光学特性は500mμでの透過率
が73％であり、10μでの赤外光反射率は72％であ
つた。積分可視光透過率は71％であり、積分近赤
外光透過率は31％であつた。実施例４実施例１で用いたポリエステルフイルム上に下
塗り層としてテトラブチルチタネートから形成さ
れた厚さ20Åの酸化チタン層を得た。下塗り層の
上に厚さ90Åの銀薄膜層を形成し、更にポリスチ
レンからなる厚さ1200Åの透明誘電体層を形成
し、更に下塗り層としてテトラブチルチタネート
から形成された厚さ20Åの酸化チタン層、更に厚
さ90Åの銀薄膜層を順次積層して積層体を得た。
透明誘電体層の屈折率は1.52であつた。下塗り層
の酸化チタン層はテトラブチルチタネートを、ブ
タノール２部、ノルマルヘキサン１部からなる溶
剤に１重量％溶解し、バーコータで塗工し120℃
３分間乾燥して得た。透明誘電体層はトルエン４
部メチルエチルケトン１部からなる溶剤にポリス
チレレンを５重量％溶解し、バーコータで塗工後
120℃で２分間乾燥して得た。得られた積層体の500mμの透過率は72％であ
り、積分可視透過率は71％、積分近赤外透過率は
27％であつた。実施例５厚さ25μのナイロン−６フイルム上に厚さ90Å
の銅を10重量％含む銀銅薄膜層を第１層として、
第２層としてポリメタアクリロニトリルからなる
厚さ1000Åの透明誘電体層を、第３層として厚さ
90Åの銅を10重量％含む銀銅薄膜層を、第４層と
して厚さ0.1μのポリメタアクリロニトリルからな
る保護層を順次積層した積層体を得た。ポリメタアクリロニトリルからなる透明誘電体
層及び保護層は、メチルエチルケトン１部、シク
ロヘキサノン２部からなる溶剤に、ポリメタアク
リロニトリルを５重量％溶解せしめ、バーコータ
で塗工した後120℃で３分乾燥してそれぞれ厚さ
1000Åの透明誘電体層、厚さ0.1μの保護層を得
た。ポリメタアクリロニトリルからなる透明誘電体
層の屈折率は1.60であつた。得られた積層体の500mμの透過率は71％であ
り、積分可視透過率は70％、積分近赤外透過率は
30％であつた。実施例６，７，８厚さ50μのポリエステルフイルム上に表−１に
示す厚さ20Åの金属Ｘの酸化物からなる前記処理
層、厚さ80Åの銀薄膜層、厚さ1000Åのポリメタ
アクリロニトリルからなる透明誘電体層、厚さ20
Åの前記金属Ｘの酸化物からなる前処理層、厚さ
80Åの銀薄膜層を順次積層して積層体を得た。銀薄膜層は実施例１と同様の方法で、ポリメタ
アクリロニトリルからなる透明誘電体層は実施例
５と同様の方法で形成した。金属Ｘの酸化物から
なる前処理層は金属Ｘ（Si，Ti，Zr）をターゲツ
トとしたDCマグネトロン方式で金属Ｘの薄膜を
形成し、しかるのち空気中に10分間放置して自然
酸化させて金属Ｘの酸化物とした。得られた積層
体の光学特性を表１に記す。

【表】実施例９厚さ50μのポリエステルフイルム上に厚さ20Å
の酸化チタン層、金を15重量％含む厚さ90Åの銀
金薄膜層、厚さ20Åの酸化チタン層、ポリメタア
クリレート主体の溶剤型熱可塑性アクリル樹脂
（ラツカー型）（三菱レーヨン(株)ダイヤナール
LR574 ）から形成された厚さ1100Åの透明誘電
体層、厚さ20Åの酸化チタン層、金を15重量％含
む厚さ90Åの銀金薄膜層、厚さ20Åの酸化チタン
層を順次積層してなる積層体を得た。金を15重量％含む厚さ90Åの銀金薄膜層は、金
を15重量％含む銀金からなる合金をターゲツトと
して、DCマグネトロンスパツタリング法によつ
て形成した。厚さ20Åの酸化チタン薄膜層は、
Tiをターゲツトとし、O₂を２重量％含んだArを
30SCCM流しながら５×10^-3Torrの圧力下でDC
マグネトロンスパツタリングにより、TiとO₂を
反応せながら形成した。透明誘電体層は三菱レー
ヨンダイヤナールLR574 をトルエン１部、メチ
ルイソブチルケトン１部の溶剤に２重量％溶解せ
しめ、バーコータで塗工後120℃で２分間乾燥し
て得た。透明誘電体層の屈折率は1.56であつた。得られた積層体の500mμの透過率は73％積分可
視透過率は70％、近赤外光透過率は29％であつ
た。実施例 10，11 実施例９で得られた積層体上に末端水酸基を持
つウレタンエステル系樹脂（武田薬品工業(株)製タ
ケラツクＡ−310）と、トリメチロールプロパン
とキシリレンジイソシアネートとからなるポリイ
ソシアネート（武田薬品工業(株)製タケネートＡ−
10）のメチルイソブチルケトン溶液（Ａ−310 10
部、Ａ−10 ２部）をバーコータで塗工し、風乾
後厚さ25μのポリエステルフイルム及び厚さポリ
プロピレン延伸フイルムをラミネートした。得ら
れた積層体の光学特性を表２に記す。

【表】実施例 12 巾50cm、厚さ50μmの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフイルムを500mの長さでロール状
とし、このポリエステルフイルムを基板として大
面積の本発明の積層体を得た。上記ポリエステル
フイルム上に第１層として銅を10重量％含む厚さ
90Åの銀銅薄膜層を、第２層として厚さ1100Åの
ポリメタアクリロニトリルからなる透明誘電体層
を、第３層として銅を10重量％含む厚さ90Åの銀
銅薄膜層を、第４層として厚さ500Åのポリメタ
アクリロニトリルからなる透明保護層を順次積層
した。第１層、第３層の銅を10重量％含む銀銅薄膜層
は、ロールフイルムを連続処理するスパツタ装置
にポリエステルのロールフイルムをセツトし、１
×10^-5Torrの圧力まで排気したのちArガスを５
×10^-3Torrまで導入し、50SCCMの流量を保ち
ながら銅を10重量％含む銀銅合金をターゲツトと
し直流電圧を印加してフイルム走行速度10m／分
でDCマグネトロンスパツタリング法により設け
た。第２層のポリメタアクリロニトリルからなる透
明誘電体層は、ポリメタアクリロニトリルを２重
量％含むシクロヘキサノン１部、メチルエチルケ
トン２部からなる溶液を塗工液とし300メツシユ
のグラビアロールを用いたグラビアロールコータ
によりフイルム走行速度20m／分で形成した。乾
燥温度は120℃であつた。更に第４層のポリメタアクリロニトリルからな
る透明誘電体層はポリメタアクリロニトリルを
0.8重量％含むシクロヘキサノン１部、メチルエ
チルケトン２部からなる溶液を塗工液とし上記グ
ラビアロールコータを用いて形成した。得られた
積層体を長さ方向に10サンプル各々巾方向に３サ
ンプルの計30サンプルをサンプリングし光学特性
を比較した結果、積分可視透過率は70±２％、積
分近赤透過率は31±2.5％の範囲にあり、色調差
も殆んどなく、大面積にわたつて均一な光学特性
を有する積層体が得られた。実施例 13 ２軸延伸した厚さ75μmのポリエステルフイル
ムを基板とし、その上に第１層として厚さ80Åの
銀薄膜層、第２層としてメタアクリロニトリル
（90部）と２―エチルヘキシルメタアクリレート
（10部）との共重合体の架橋体からなる厚さ800Å
の透明誘電体層、第３層として厚さ80Åの銀薄膜
層を形成した。第１，３層の銀薄膜層は、銀金属をターゲツト
としArガス圧力５×10^-3Torr下DCマグネトロン
スパツタリングにより形成した。投入電力はター
ゲツトの単位面積あたり2W／cm²であつた。第２層の透明誘電体層は、メタアクリロニトリ
ル90部と２―エチルヘキシルメタアクリレート10
部とから形成された共重合体１部とイソシアネー
ト化合物（トリメチロールプロパンとキシリレン
ジイソシアネートとの付加物：タケネートＡ−
10、武田薬品工業株式会社製）0.4部とを、シク
ロヘキサノン−アセトン−メチルエチルケトン混
合溶媒（混合比５：２：１）に上記共重合体が２
重量％の濃度になる様に溶解した溶液をバーコー
ターで塗工し、120℃で２分間乾燥することによ
り、上記共重合体が上記イソシアネート化合物で
架橋された薄膜層として形成した。得られた積層体の波長500mμでの可視光透過率
は77％であり、同10μでの赤外光反射率は82％で
あつた。また上記積層体の、太陽エネルギーの強度分布
で規格化した積分可視光透過率は72％であり、同
積分近赤外光透過率は30％であつた。

Claims

【特許請求の範囲】１有機重合体フイルム(A)の少くとも一方の面に
厚さ40Åから500Åの金属薄膜層(B)、厚さ200Åか
ら3000Åの透明誘電体層(C)、及び厚さ0.1μから
50μの透明保護層(D)が(A)／(B)／(C)／(B)、あるいは
(A)／(B)／(C)／(B)／(D)の順に積層されてなる積層体
において当該透明誘電体層(C)が屈折率1.35〜1.65
である有機樹脂からなることを特徴とする積層
体。２当該透明誘電体層(C)が、厚さ1μ当りの光線
（500mμ）透過率85％以上である特許請求の範囲
第１項記載の積層体。