JPH0432018B2 - - Google Patents
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- JPH0432018B2 JPH0432018B2 JP17732586A JP17732586A JPH0432018B2 JP H0432018 B2 JPH0432018 B2 JP H0432018B2 JP 17732586 A JP17732586 A JP 17732586A JP 17732586 A JP17732586 A JP 17732586A JP H0432018 B2 JPH0432018 B2 JP H0432018B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/17—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing aluminium or beryllium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は一般のカメラおよびVTRカメラ等の
色補正用フイルタガラスに使用される近赤外線吸
収ガラスおよびその製造方法に関する。 (従来の技術) 従来、一般のカメラおよびVTRカメラ等の色
補正用フイルタガラスに適用されるリン酸塩系近
赤外線吸収ガラスは、原料の一部にH3PO4を用
いるが、これが溶融過程において分解して
2H3PO4→P2O5+3H2Oとなる。このP2O5はガラ
ス網目を形成し、H2Oは気体となつて外部へ放
出されるが、H2Oの一部はガラス内に残存して
含水ガラスとなる。この残存したH2Oはガラス
網目を切断し、ガラス構造を弱くして耐水性など
の化学的耐久性を低下させる。この化学的耐久性
が弱いため、フイルタガラスは使用時間の経過に
伴い表面が風化現象を生じ、透過率特性が著しく
低下する。 また、CuO成分の原料としてCu2+イオンの結
合状態のものを用いる。ガラスの高温溶融時に
Cu2+イオンはエネルギー状態の安定なCu+イオン
へ移行しやすくなる。Cu2+イオンがCu+イオンへ
移行すると、ガラスは400nm付近の透過率が低
下してしまう。この対策として原料中に硝酸塩や
硫酸塩を導入し、溶融過程で硝酸塩や硫酸塩が分
解し、酸素を発生させて酸化雰囲気を醸成し、
Cu2+イオンがCuu+イオンへ移行するのを防止す
る。しかし、この方法では硝酸塩や硫酸塩の分解
反応が、原料溶融工程におけるバツチフリーの状
態までに終了してしまい、ガラスを清澄、均質化
する工程では酸素の放出がなくなり、Cu2+イオ
ンの一部がCu+イオンへ移行し、可視光の短波長
側の透過率が低下する。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記事情を考慮してなされたもので、
400nm付近の波長域を効率よく透過し、近赤外
線のシヤープカツト特性が良好で、かつすぐれた
化学的耐久性を有する近赤外線吸収ガラスおよび
その製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の構成〕 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記の目的を達成するために、ガラス
溶融工程において酸素を含む乾燥気体を溶融ガラ
ス中に導入することにより、ガラス中のH2O含
有率を100ppm以下に制限し、かつCu2+イオンを
安定化したものである。すなわち、重量百分率で
P2O555〜85%、A2O35〜15%、CaO,MgO,
BaO,ZnOの1種または2種以上の合量2〜15
%、Li2O,Na2O,K2Oの合量0.1〜8%、
CuO0.2〜10%を含み、かつH2Oの含有率が
100ppm以下となる近赤外線吸収ガラスである。
また前記組成からなるガラスを溶融する工程にお
いて、15モル%の酸素を含み、かつH2Oの含有
率が100ppm以下となる乾燥気体を溶融ガラス中
に導入することを特徴とする近赤外線吸収ガラス
の製造方法である。前記乾燥気体は誘爆性・有毒
性の気体を除けば特に限定されないが一般に不活
性の気体が適当している。 本発明のガラス組成を前記範囲に限定した理由
を説明する。 P2O5はガラス網目を構成する主成分であるが
55%未満では波長400nm付近の透過率が低下し、
85%超えると化学的耐久性が低下する。 Al2O3はガラスの化学的耐久性を向上させるた
めの不可欠の成分であるが、5%未満では化学的
耐久性が劣化し、15%を超えると紫外域の透過率
が低下し、かつガラスの溶融性が悪化する。 CaO,MgO,BaO,ZnOはその1種または2
種以上の合量が、2%未満では化学的耐久性が低
下し、かつ成形性がわるくなり、15%を超えると
CuO成分による赤外線シヤープカツト性能を阻害
する。Li2O,Na2O,K2Oはその合量が8%を超
えると化学的耐久性が著しく低下する。 CuOは着色剤として添加され近赤外線シヤープ
カツトのための必須成分であるが、0.2%未満で
は近赤外線の十分な吸収効果が得られず、10%を
超えるとガラスの安定性が低下し失透現象をおこ
す。 本発明のガラスは1050〜1450℃の温度で溶融す
るが、1050℃以下ではガラスの粘度が高く十分な
溶融、脱泡が行なわれず、1450℃を超えるとガラ
スの各成分が揮発しやすくなりガラスが不均質と
なる。溶融時に溶融ガラスに導入する乾燥気体の
酸素含有率が15モル%未満では、十分な酸化雰囲
気を確保することができない。 (作 用) ガラス溶融工程において、酸素を15モル%以上
含み、かつH2Oの含有率が100ppm以下なる乾燥
気体を溶融ガラス中に導入することにより、溶融
ガラス中に入つた酸素によつてCu2+イオンがCu+
イオンへ移行することなく安定し、近赤外線のシ
ヤープカツト特性と可視域の短波長側の透過率が
向上する。さらに、溶融ガラス中に溶存している
H2Oが排出され、ガラス構造内に取り込まれる
H2Oが減少して化学的耐久性が向上する。 (実施例) 本発明の実施例について、図面に示すガラス溶
融装置を参照して説明する。 炉体1内の基台2上には溶融ガラス3を収容す
る石英るつぼ4が載置され、石英るつぼ4の外周
には加熱用電気抵抗ヒータ5が配設されている。
炉体1の側壁を貫通して石英るつぼ4内の溶融ガ
ラス3に挿入された石英ガラス製導管6は、炉外
側において酸素と窒素との混合気体供給装置(図
示しない)に連結されている。このように構成さ
れたガラス溶融装置において、重量百分率で
P2O560〜80%、Al2O311〜15%、CaO+MgO1〜
10%、BaO0〜5%、ZnO0〜2%、 Li2O+Na2O+K2O0.5〜7%、CuO0.5〜8%の
組成となるように調合されたバツチを石英るつぼ
4に収容し、電気抵抗ヒータ5に通電して加熱
し、1350℃または1400℃の温度で5時間溶融す
る。この溶融開始2時間後に酸素を20〜40モル%
含有した窒素との混合気体を、供給装置から導管
6を介して溶融ガラス3中に、毎分0.5の速度
で1時間または毎分1の速度で、30分間導入す
る。H2Oを含まない気体を得るために、液体酸
素および液体窒素から生成された気体を使用し、
混合気体のH2O含有率は100ppm以下に調整す
る。 このようにして得られた本発明ガラスを次表に
示す。表中、ガラス組成は重量百分率で示し、耐
水性は日本光学硝子工業会法によつて示す。また
700nmの透過率は肉厚1mmのガラス試料を用い
て測定し、H2Oの含有率は赤外分光透過率にて
−OH基の吸収量から求めた。
色補正用フイルタガラスに使用される近赤外線吸
収ガラスおよびその製造方法に関する。 (従来の技術) 従来、一般のカメラおよびVTRカメラ等の色
補正用フイルタガラスに適用されるリン酸塩系近
赤外線吸収ガラスは、原料の一部にH3PO4を用
いるが、これが溶融過程において分解して
2H3PO4→P2O5+3H2Oとなる。このP2O5はガラ
ス網目を形成し、H2Oは気体となつて外部へ放
出されるが、H2Oの一部はガラス内に残存して
含水ガラスとなる。この残存したH2Oはガラス
網目を切断し、ガラス構造を弱くして耐水性など
の化学的耐久性を低下させる。この化学的耐久性
が弱いため、フイルタガラスは使用時間の経過に
伴い表面が風化現象を生じ、透過率特性が著しく
低下する。 また、CuO成分の原料としてCu2+イオンの結
合状態のものを用いる。ガラスの高温溶融時に
Cu2+イオンはエネルギー状態の安定なCu+イオン
へ移行しやすくなる。Cu2+イオンがCu+イオンへ
移行すると、ガラスは400nm付近の透過率が低
下してしまう。この対策として原料中に硝酸塩や
硫酸塩を導入し、溶融過程で硝酸塩や硫酸塩が分
解し、酸素を発生させて酸化雰囲気を醸成し、
Cu2+イオンがCuu+イオンへ移行するのを防止す
る。しかし、この方法では硝酸塩や硫酸塩の分解
反応が、原料溶融工程におけるバツチフリーの状
態までに終了してしまい、ガラスを清澄、均質化
する工程では酸素の放出がなくなり、Cu2+イオ
ンの一部がCu+イオンへ移行し、可視光の短波長
側の透過率が低下する。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記事情を考慮してなされたもので、
400nm付近の波長域を効率よく透過し、近赤外
線のシヤープカツト特性が良好で、かつすぐれた
化学的耐久性を有する近赤外線吸収ガラスおよび
その製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の構成〕 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記の目的を達成するために、ガラス
溶融工程において酸素を含む乾燥気体を溶融ガラ
ス中に導入することにより、ガラス中のH2O含
有率を100ppm以下に制限し、かつCu2+イオンを
安定化したものである。すなわち、重量百分率で
P2O555〜85%、A2O35〜15%、CaO,MgO,
BaO,ZnOの1種または2種以上の合量2〜15
%、Li2O,Na2O,K2Oの合量0.1〜8%、
CuO0.2〜10%を含み、かつH2Oの含有率が
100ppm以下となる近赤外線吸収ガラスである。
また前記組成からなるガラスを溶融する工程にお
いて、15モル%の酸素を含み、かつH2Oの含有
率が100ppm以下となる乾燥気体を溶融ガラス中
に導入することを特徴とする近赤外線吸収ガラス
の製造方法である。前記乾燥気体は誘爆性・有毒
性の気体を除けば特に限定されないが一般に不活
性の気体が適当している。 本発明のガラス組成を前記範囲に限定した理由
を説明する。 P2O5はガラス網目を構成する主成分であるが
55%未満では波長400nm付近の透過率が低下し、
85%超えると化学的耐久性が低下する。 Al2O3はガラスの化学的耐久性を向上させるた
めの不可欠の成分であるが、5%未満では化学的
耐久性が劣化し、15%を超えると紫外域の透過率
が低下し、かつガラスの溶融性が悪化する。 CaO,MgO,BaO,ZnOはその1種または2
種以上の合量が、2%未満では化学的耐久性が低
下し、かつ成形性がわるくなり、15%を超えると
CuO成分による赤外線シヤープカツト性能を阻害
する。Li2O,Na2O,K2Oはその合量が8%を超
えると化学的耐久性が著しく低下する。 CuOは着色剤として添加され近赤外線シヤープ
カツトのための必須成分であるが、0.2%未満で
は近赤外線の十分な吸収効果が得られず、10%を
超えるとガラスの安定性が低下し失透現象をおこ
す。 本発明のガラスは1050〜1450℃の温度で溶融す
るが、1050℃以下ではガラスの粘度が高く十分な
溶融、脱泡が行なわれず、1450℃を超えるとガラ
スの各成分が揮発しやすくなりガラスが不均質と
なる。溶融時に溶融ガラスに導入する乾燥気体の
酸素含有率が15モル%未満では、十分な酸化雰囲
気を確保することができない。 (作 用) ガラス溶融工程において、酸素を15モル%以上
含み、かつH2Oの含有率が100ppm以下なる乾燥
気体を溶融ガラス中に導入することにより、溶融
ガラス中に入つた酸素によつてCu2+イオンがCu+
イオンへ移行することなく安定し、近赤外線のシ
ヤープカツト特性と可視域の短波長側の透過率が
向上する。さらに、溶融ガラス中に溶存している
H2Oが排出され、ガラス構造内に取り込まれる
H2Oが減少して化学的耐久性が向上する。 (実施例) 本発明の実施例について、図面に示すガラス溶
融装置を参照して説明する。 炉体1内の基台2上には溶融ガラス3を収容す
る石英るつぼ4が載置され、石英るつぼ4の外周
には加熱用電気抵抗ヒータ5が配設されている。
炉体1の側壁を貫通して石英るつぼ4内の溶融ガ
ラス3に挿入された石英ガラス製導管6は、炉外
側において酸素と窒素との混合気体供給装置(図
示しない)に連結されている。このように構成さ
れたガラス溶融装置において、重量百分率で
P2O560〜80%、Al2O311〜15%、CaO+MgO1〜
10%、BaO0〜5%、ZnO0〜2%、 Li2O+Na2O+K2O0.5〜7%、CuO0.5〜8%の
組成となるように調合されたバツチを石英るつぼ
4に収容し、電気抵抗ヒータ5に通電して加熱
し、1350℃または1400℃の温度で5時間溶融す
る。この溶融開始2時間後に酸素を20〜40モル%
含有した窒素との混合気体を、供給装置から導管
6を介して溶融ガラス3中に、毎分0.5の速度
で1時間または毎分1の速度で、30分間導入す
る。H2Oを含まない気体を得るために、液体酸
素および液体窒素から生成された気体を使用し、
混合気体のH2O含有率は100ppm以下に調整す
る。 このようにして得られた本発明ガラスを次表に
示す。表中、ガラス組成は重量百分率で示し、耐
水性は日本光学硝子工業会法によつて示す。また
700nmの透過率は肉厚1mmのガラス試料を用い
て測定し、H2Oの含有率は赤外分光透過率にて
−OH基の吸収量から求めた。
以上のように本発明は、所定の組成を有するガ
ラスを溶融する工程において、酸素を15モル%以
上含み、かつH2Oの含有率が100ppm以上なる乾
燥気体を溶融ガラス中に導入することによりガラ
ス中のH2Oの含有率100ppm以下に制限しかつ
Cu2+イオンを安定化したリン酸塩系近赤外線吸
収ガラスおよびその製造方法であり、可視線の短
波長域を効率よく透過し、近赤外線のシヤープカ
ツト特性を向上させ、かつすぐれた化学的耐久性
を有するガラスが得られるものである。
ラスを溶融する工程において、酸素を15モル%以
上含み、かつH2Oの含有率が100ppm以上なる乾
燥気体を溶融ガラス中に導入することによりガラ
ス中のH2Oの含有率100ppm以下に制限しかつ
Cu2+イオンを安定化したリン酸塩系近赤外線吸
収ガラスおよびその製造方法であり、可視線の短
波長域を効率よく透過し、近赤外線のシヤープカ
ツト特性を向上させ、かつすぐれた化学的耐久性
を有するガラスが得られるものである。
図面は本発明に係るガラス溶融装置の例を示す
断面図である。 3……溶融ガラス、4……石英るつぼ、6……
導管。
断面図である。 3……溶融ガラス、4……石英るつぼ、6……
導管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重量百分率で、P2O555〜85%、Al2O35〜15
%、CaO,MgO,BaO,ZnOの1種または2種
以上の合量2〜15%、Li2O,Na2O,K2Oの合量
0.1〜8%、CuO0.2〜10%を含み、かつH2Oの含
有率が100ppm以下なる近赤外線吸収ガラス。 2 前記組成からなるガラスを溶融する工程にお
いて、15モル%以上の酸素を含み、かつH2Oの
含有率100ppm以下なる乾燥気体を溶融ガラス中
に導入することを特徴とする近赤外線吸収ガラス
の製造方法。 3 前記乾燥気体が不活性の気体である特許請求
の範囲第2項記載の近赤外線吸収ガラスの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17732586A JPS6335434A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 近赤外線吸収ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17732586A JPS6335434A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 近赤外線吸収ガラスおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335434A JPS6335434A (ja) | 1988-02-16 |
| JPH0432018B2 true JPH0432018B2 (ja) | 1992-05-28 |
Family
ID=16029001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17732586A Granted JPS6335434A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 近赤外線吸収ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6335434A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051055A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-03-01 | Ohara Inc | 光学ガラス |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03109234A (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-09 | Hoya Corp | 近赤外線及び赤外線吸収ガラス |
| DE4031469C1 (ja) * | 1990-10-05 | 1992-02-06 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
| JPH04193740A (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 酵素固定化用多孔質ガラス担体 |
| TWI276611B (en) | 2000-08-17 | 2007-03-21 | Hoya Corp | Process for producing glass and glass-melting apparatus thereof |
| KR20170139010A (ko) * | 2015-04-24 | 2017-12-18 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 근적외선 컷 필터 유리 |
| DE102017207253B3 (de) | 2017-04-28 | 2018-06-14 | Schott Ag | Filterglas |
-
1986
- 1986-07-28 JP JP17732586A patent/JPS6335434A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051055A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-03-01 | Ohara Inc | 光学ガラス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6335434A (ja) | 1988-02-16 |
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| JPS6140617B2 (ja) | ||
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