JPH04322435A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
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- JPH04322435A JPH04322435A JP3090509A JP9050991A JPH04322435A JP H04322435 A JPH04322435 A JP H04322435A JP 3090509 A JP3090509 A JP 3090509A JP 9050991 A JP9050991 A JP 9050991A JP H04322435 A JPH04322435 A JP H04322435A
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- semiconductor device
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- H10W72/50—Bond wires
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- H10W72/531—Shapes of wire connectors
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体チップと外部リー
ドとを接続した金属リードを補強した半導体装置および
その製造方法に関する。
ドとを接続した金属リードを補強した半導体装置および
その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】通常、半導体チップと外部リードとの電
気的接続は金属細線を用いたワイヤボンディングにより
行われる。
気的接続は金属細線を用いたワイヤボンディングにより
行われる。
【0003】以下に従来の半導体装置について説明する
。図2は従来の半導体装置の要部断面図である。図2に
示すように、半導体チップ1はリードフレーム2のダイ
パッド2aにダイボンドされている。半導体チップ1の
表面には、保護膜3が形成されており、その保護膜3の
一部が開口されて電極パッド4が露出している。この電
極パッド4と外部リード2bが金属リード(この場合は
金属細線)5により接続されている。
。図2は従来の半導体装置の要部断面図である。図2に
示すように、半導体チップ1はリードフレーム2のダイ
パッド2aにダイボンドされている。半導体チップ1の
表面には、保護膜3が形成されており、その保護膜3の
一部が開口されて電極パッド4が露出している。この電
極パッド4と外部リード2bが金属リード(この場合は
金属細線)5により接続されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、金属リード5の強度が弱く、全体を樹脂
封止する際に金属リード5が封止用樹脂の動圧により流
されて、金属リード5の断線やショートが発生するとい
う課題を有していた。近年、半導体装置の小型化を進め
るために電極パッド4の縮小化が望まれているが、その
ために金属リード5となるワイヤボンディング用の金属
細線を細くしなければならず、ますます断線、ショート
の危険性が増大している。
来の構成では、金属リード5の強度が弱く、全体を樹脂
封止する際に金属リード5が封止用樹脂の動圧により流
されて、金属リード5の断線やショートが発生するとい
う課題を有していた。近年、半導体装置の小型化を進め
るために電極パッド4の縮小化が望まれているが、その
ために金属リード5となるワイヤボンディング用の金属
細線を細くしなければならず、ますます断線、ショート
の危険性が増大している。
【0005】本発明は上記の従来の課題を解決するもの
で、金属リードの強度を増強した半導体装置およびその
製造方法を提供することを目的とする。
で、金属リードの強度を増強した半導体装置およびその
製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の半導体装置は、基板に搭載された半導体チッ
プと外部リードとが金属リードで接続されており、かつ
基板の少なくとも一部と、半導体チップの表面の保護膜
の上を除いた領域と、金属リードとに金属被膜が形成さ
れている構成を有している。
に本発明の半導体装置は、基板に搭載された半導体チッ
プと外部リードとが金属リードで接続されており、かつ
基板の少なくとも一部と、半導体チップの表面の保護膜
の上を除いた領域と、金属リードとに金属被膜が形成さ
れている構成を有している。
【0007】
【作用】この構成によって、細い金属リードを用いても
その強度を増大させることができ、金属リードの断線や
ショートによる不良が減少する。
その強度を増大させることができ、金属リードの断線や
ショートによる不良が減少する。
【0008】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。図1は本発明の一実施例における半
導体装置の要部断面図である。なお図2に示す従来例と
同一箇所には同一符号を付して、詳細説明を省略した。 図1に示す本実施例が図2に示す従来例と異なる点は、
半導体チップ1の保護膜3を除く領域、リードフレーム
2の表面および金属リード5の表面に金属被膜6が形成
されていることである。この時、半導体チップ1のエッ
ジ部分1aには保護膜3が形成されているので、金属被
膜6は形成されない。
しながら説明する。図1は本発明の一実施例における半
導体装置の要部断面図である。なお図2に示す従来例と
同一箇所には同一符号を付して、詳細説明を省略した。 図1に示す本実施例が図2に示す従来例と異なる点は、
半導体チップ1の保護膜3を除く領域、リードフレーム
2の表面および金属リード5の表面に金属被膜6が形成
されていることである。この時、半導体チップ1のエッ
ジ部分1aには保護膜3が形成されているので、金属被
膜6は形成されない。
【0009】このような半導体装置は次の工程により製
造される。まず半導体チップ1をリードフレーム2のダ
イパッド2aに合金法、はんだ付けまたは接着剤法を用
いてダイボンドする。次に電極パッド4と外部リード2
bとの間を金属細線を用いたワイヤボンディングにより
接続して金属リード5を形成する。次にリードフレーム
2を一方の電極として金、銅、クロム等を電気めっきす
る。この時、金属部分には金属被膜は形成されるが、半
導体チップ1の上に形成されている保護膜3の上には金
属被膜6は形成されない。したがって半導体チップ1の
エッジ部分1aには金属被膜6は形成されないが、必要
ならば金属被膜6が形成されては困る部分にめっきレジ
ストを形成しておけば良い。金属被膜6の形成方法は、
めっき法以外にも蒸着等でも良いし、金属被膜6は特に
金、銅またはクロムに限るものではない。なお金属被膜
6は金属リード5の表面にのみ形成されても同様の効果
は得られる。
造される。まず半導体チップ1をリードフレーム2のダ
イパッド2aに合金法、はんだ付けまたは接着剤法を用
いてダイボンドする。次に電極パッド4と外部リード2
bとの間を金属細線を用いたワイヤボンディングにより
接続して金属リード5を形成する。次にリードフレーム
2を一方の電極として金、銅、クロム等を電気めっきす
る。この時、金属部分には金属被膜は形成されるが、半
導体チップ1の上に形成されている保護膜3の上には金
属被膜6は形成されない。したがって半導体チップ1の
エッジ部分1aには金属被膜6は形成されないが、必要
ならば金属被膜6が形成されては困る部分にめっきレジ
ストを形成しておけば良い。金属被膜6の形成方法は、
めっき法以外にも蒸着等でも良いし、金属被膜6は特に
金、銅またはクロムに限るものではない。なお金属被膜
6は金属リード5の表面にのみ形成されても同様の効果
は得られる。
【0010】
【発明の効果】以上のように本発明は、少なくとも金属
リードの表面に金属被膜を形成した構成とすることによ
り、金属リードの強度を増大させた優れた半導体装置を
実現できるものである。
リードの表面に金属被膜を形成した構成とすることによ
り、金属リードの強度を増大させた優れた半導体装置を
実現できるものである。
【図1】本発明の一実施例における半導体装置の要部断
面図
面図
【図2】従来の半導体装置の要部断面図
1 半導体チップ
2 リードフレーム(基板)
2b 外部リード
3 保護膜
5 金属リード
6 金属被膜
Claims (2)
- 【請求項1】 基板に搭載された半導体チップと外部
リードとが金属リードで接続されており、前記基板の少
なくとも一部と、前記半導体チップの表面の保護膜の上
を除いた領域と、前記金属リードとに金属被膜が形成さ
れている半導体装置。 - 【請求項2】 基板の上に搭載された半導体チップの
電極パッドと外部リードとを金属リードで接続した後、
前記基板の少なくとも一部と、前記半導体チップの表面
の保護膜の上を除いた領域と、前記金属リードとに金属
被膜を形成する半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3090509A JPH04322435A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3090509A JPH04322435A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04322435A true JPH04322435A (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=14000448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3090509A Pending JPH04322435A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04322435A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010197165A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Mitsubishi Materials Corp | 薄膜温度センサ及びその製造方法 |
| US8030744B2 (en) | 2005-06-22 | 2011-10-04 | Infineon Technologies Ag | Arrangement for electrically connecting semiconductor circuit arrangements to an external contact device and method for producing the same |
| JP2016042587A (ja) * | 2015-10-29 | 2016-03-31 | アピックヤマダ株式会社 | ダミーフレーム、樹脂モールド評価方法、モールド金型の評価方法、およびモールド金型の製造方法 |
-
1991
- 1991-04-22 JP JP3090509A patent/JPH04322435A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8030744B2 (en) | 2005-06-22 | 2011-10-04 | Infineon Technologies Ag | Arrangement for electrically connecting semiconductor circuit arrangements to an external contact device and method for producing the same |
| DE102005028951B4 (de) | 2005-06-22 | 2018-05-30 | Infineon Technologies Ag | Anordnung zur elektrischen Verbindung einer Halbleiter-Schaltungsanordnung mit einer äusseren Kontakteinrichtung |
| JP2010197165A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Mitsubishi Materials Corp | 薄膜温度センサ及びその製造方法 |
| JP2016042587A (ja) * | 2015-10-29 | 2016-03-31 | アピックヤマダ株式会社 | ダミーフレーム、樹脂モールド評価方法、モールド金型の評価方法、およびモールド金型の製造方法 |
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