JPH04323659A - 平版印刷版の処理方法 - Google Patents
平版印刷版の処理方法Info
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- JPH04323659A JPH04323659A JP11935591A JP11935591A JPH04323659A JP H04323659 A JPH04323659 A JP H04323659A JP 11935591 A JP11935591 A JP 11935591A JP 11935591 A JP11935591 A JP 11935591A JP H04323659 A JPH04323659 A JP H04323659A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銀錯塩拡散転写法によ
る平版印刷版の処理方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】銀錯塩拡散転写法(DTR)によって得
られる銀画像を利用したオフセット印刷版は、既に特許
公報昭46−43132号あるいは特許公報昭48−3
0562号に記載されており、さらにポジタイプの印刷
原版については公開特許公報昭49−55402号に、
ネガタイプの印刷原版については公開特許公報昭52−
106902号、公開特許公報昭52−112402号
等に詳細に記載されている。 【0003】これらのダイレクト印刷版は、支持体およ
びその上にハレーション防止を兼ねた下引き層、ハロゲ
ン化銀乳剤層、物理現像核層からなっている。感光材料
を像様露光後、現像薬とハロゲン化銀溶剤を含む現像液
で処理すると潜像が形成されているハロゲン化銀は乳剤
層中で黒化銀となるが、これに対して潜像が形成されい
ないハロゲン化銀はハロゲン化銀錯化剤の作用で溶解し
、感光材料の表面に拡散してくる。この銀錯塩が表面層
の物理現像核の上に現像主薬の還元作用によって銀画像
として析出する。このプロセスによってダイレクト印刷
版が得られる。 【0004】この銀画像のインキ受容性を強化させるた
めには現像後、必要ならば感脂化処理を施し、オフセッ
ト印刷機上で印刷物へとインキ画像が転写される。この
ダイレクト印刷版は、操作性が良いこと、低価格である
ことなどの利点を持っているが、その反面写真現像処理
により印刷用銀画像を形成する性格上、処理時間内に拡
散転写が完結せず、過剰な銀イオンが残存し、それが保
存安定性もしくは耐刷力低下の一因となっていた。 【0005】これらの欠点を改良するために種々の方法
が利用される。そのひとつは酸化剤の使用である。特開
昭55−98753号公報には、含硫黄有機化合物と酸
化剤の併用が述べられており、また、特開昭51−58
952号、同昭61−223740号公報には、ヨウ素
イオンと酸化剤を使った耐刷力の向上法が述べられてい
る。また、キレート樹脂の利用による過剰な銀イオンの
除去も、耐刷力を上げるのに効果があった。しかしなが
ら、これらの方法の欠点は、往々にして銀画像のインキ
受理能を低下させることであった。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、銀錯
塩拡散転写法を利用するダイレクト平版印刷版の現像処
理に於て耐刷力が良好で、インキ受理能の高い銀画像を
得るための処理方法を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討を
重ねた結果、適当な大きさのアルキル基を持つ現像抑制
剤の存在下で、銀錯塩拡散転写を抑制させることにより
、本発明の目的を達成できることを見いだした。 【0008】すなわち、本発明は、下記化2で示される
含窒素複素環式化合物の存在下で平版印刷版を処理する
方法である。 【0009】 【化2】 【0010】式中、Rは炭素原子4個から9個のアルキ
ル基を表わし、ZはRとベンゼン環を介して結合する5
−メルカプト−1−フェニルテトラゾール、2−メルカ
プト−1−フェニルイミダゾール、ベンゾトリアゾール
、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾールを表わす。本発明に用いられる化2の
化合物の具体的な例を以下に示す。 【0011】 【化3】 【0012】 【化4】 【0013】 【化5】 【0014】 【化6】 【0015】 【化7】 【0016】 【化8】 【0017】 【化9】 【0018】 【化10】 【0019】 【化11】 【0020】本発明化合物の合成は、P−アルキルアニ
リンを原料として常法に従い容易にできる。以下に本発
明の代表的化合物の合成例を示す。 【0021】合成例1(化合物化3の合成例)4−オク
チルアニリン18.4gを、無水酢酸80mlと水80
mlの混合溶液中に添加し、撹拌しつつ30分間加熱し
た。室温まで放冷後析晶を濾取し、水洗後乾燥しアミノ
アセチル体を得た。このアミノアセチル体20.9gを
無水酢酸80ml中に溶解し、氷水冷下撹拌しつつ濃硝
酸33.5mlを徐々に滴下した。滴下終了後、室温下
で30分間撹拌した。水80mlを徐々に加え、析晶濾
取し、水洗後乾燥して粗製2−ニトロ体23.5gを得
た。 【0022】粗製2−ニトロ体23.5gをエタノール
160mlと30%水酸化カリウム水溶液15mlの混
合溶液中に添加し、1時間還流した。室温まで放冷し、
クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルム層を
水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下留去する
と、粗製2−ニトロ−4−n−オクチルアニリン21.
0gを得た。 【0023】粗製2−ニトロ−4−n−オクチルアニリ
ン21.0gを、10%パラジウム炭素2gをエタノー
ル200ml中に分散させた混合溶液中に溶解し、室温
下4時間水素接触還元した(水素吸収量6200ml)
。不溶物を濾別し、濾液には濃塩酸20mlとエタノー
ル30mlの混合溶液を加えた。減圧留去し、残渣を石
油エーテルで洗浄後乾燥して粗製1、2−ジアミノ体塩
酸塩22.4gを得た。 【0024】粗製1、2−ジアミノ体塩酸塩22.4g
を1N希塩酸250mlに溶解し、氷水冷により温度0
−5℃に維持しつつ亜硝酸ナトリウム5.2gを水50
ml中に溶解した水溶液を滴下した。滴下終了後酢酸エ
チルエステル150mlで抽出し、酢酸エチルエステル
層は水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧留去
し残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒ベン
ゼン+酢酸エチルエステル5:1)で分離した。分取し
たフラクションは減圧留去後n−ヘキサン中より再結晶
した。 収量:11.0g m.p.:64−65℃【002
5】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.8
7(1H、d、J=8Hz、7位)、7.66(1H、
s、J=8Hz、4位)、7.26(1H、d、J=8
Hz、5位)、2.74(2H、t、J=7Hz、メチ
レン)、1.66(2H、t、J=7Hz、メチレン)
、1.25(10H、m、メチレン5個)、0.86(
3H、t、J=7Hz、メチル)【0026】合成例2
(化合物化6の合成例)4−n−ヘプチルアニリン11
.46gを2N塩酸150mlに溶解し、室温下撹拌し
つつチオホスゲン7.24gを徐々に滴下した。滴下終
了後4時間撹拌し、ベンゼン150mlで抽出した。ベ
ンゼン層を水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下留去すると、粗製イソチオシアナート体13.1g
を得た。 【0027】粗製イソチオシアナート体13.7gに室
温で撹拌しながらアミノアセタール7.82gを滴下し
た。30%希硫酸200mlを加え、さらに5時間還流
した。室温まで放冷後、水100mlを加え、生じた沈
殿を濾取し水洗浄後、含水エタノールおよび酢酸エチル
エステルより再結晶した。 収量:7.8g m.p.:128−129℃【00
28】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.
48(2H、d、J=8Hz、ベンゼン環2位6位)、
7.29(2H、d、J=8Hz、ベンゼン環3位5位
)、6.82(2H、d、J=10Hz、イミダゾール
環4位5位)、2.65(2H、t、J=7Hz、メチ
レン)、1.65(2H、s、J=7Hz、メチレン)
、1.31(8H、s、メチレン)、0.89(3H、
s、メチル)13C−NMR(CDCl3):δ=16
1.3(イミダゾール2位)、143.4、135.2
129.0、125.6(以上ベンゼン環)、11
9.4、114.8 (イミダゾール環4位5位)、
35.6、31.7、31.2、29.2、29.1、
22.6、14.0(以上n−ヘプチル基)【0029
】合成例3(化合物化9の合成例)4−n−ヘプチルア
ニリン4.78g、二硫化炭素4.75gと硫黄1.6
gをステンレス製封管に入れ密栓し、油浴上240℃で
5時間加熱した。放冷後、反応混合物にアセトンを加え
て不溶物を濾別し、濾液を減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで2回(展開溶媒ベンゼン+酢酸
エチルエステル10:1およびn−ヘキサン+酢酸エチ
ルエステル5:1)分離した。分取したフラクションは
溶媒留去後、n−ヘキサン中より再結晶した。 収量:0.8g m.p.:109−110℃【00
30】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.
27(1H、d、J=1Hz、7位)、7.26(1H
、d、J=8Hz、4位)、7.16(2H、dd、J
=1Hz・8Hz、5位)、2.64(2H、t、J=
7Hz、メチレン)、1.60(2H、t、J=7Hz
、メチレン)、1.28(8H、m、メチレン)、0.
87 (3H、s、メチル)13C−NMR(CDCl
3)、δ=190.3(2位)、140.0、138.
4、130.1、127.7、120.7、112.0
(以上ベンゼン環)、35.6、31.7、31.5、
29.0、22.6、14.0(以上n−ヘプチル基) 【0031】本発明の化2の化合物の現像液への添加量
は、10−5〜10−1モル/lの範囲であり、好まし
くは10−3〜10−2モル/lがよい。また二種類以
上の化合物の併用もできる。本発明の化合物は現像液中
に添加するのが最も効果的だが、ダイレクト印刷版のハ
ロゲン化銀乳剤層もしくは上塗り層、好ましくはハロゲ
ン化銀乳剤層に添加してもよい。その場合添加量は10
−7〜10−3モル/m2の範囲であり、好ましくは1
0−6〜10−4モル/m2がよい。また二種類以上の
化合物の併用もできる。 【0032】平版印刷版用拡散転写現像液にカルボキシ
メチルセルロース(CMC)、ヒドロキシルエチルセル
ロース(HEC)等の水溶性ポリマーを粘調剤として使
用することは公知であり(例えば特開昭48−7660
3号、同昭56−6237号公報等)、本発明の処理液
に対しても添加してよいが、これらの高分子化合物には
、耐刷力を向上させる作用はない。 【0033】本発明現像処理液には、アルカリ性物質(
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウ
ム等)、保恒剤としての亜硫酸塩(亜硫酸カリウム、亜
硫酸ナトリウムなど)が必須であるが、それ以外の化合
物、例えば硫酸塩(硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム
など)、カブリ防止剤(臭化カリウムなど)、ハロゲン
化銀溶剤(チオ硫酸塩、チオシアン酸塩、チオエーテル
、環状イミド、チオサリチル酸、アルカノールアミンな
ど)、現像主薬(ハイドロキノン、1−フェニル−3−
ピラゾリドン、メトールなど)、現像変性剤(ポリオキ
シアルキレン化合物、オニウム化合物など)を含むこと
が出来る。 【0034】更に、界面活性剤(アルギン酸プロピレン
グリコールエステルなど)、アミノポリカルボン酸塩(
エチレンジアミン四酢酸ナトリウムなど)等を一種また
は二種以上含有させることも出来る。この他にも本発明
の化合物の溶剤、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコ
ール、DMF、ジオキサン等の水混和性有機溶剤を含ま
せることが出来る。 【0035】銀錯塩拡散転写法の実施に当たっては、例
えば英国特許第1000115号、第1012476号
、第1017273号、第1042477号の明細書に
記載されているごとく、ハロゲン化銀乳剤および/また
は受像層かそれに隣接する他の水透過性層中に現像主薬
を混入することが行なわれている。したがって、このよ
うな感光材料では、現像に使われる処理液は、現像主薬
を含まぬ所謂「アルカリ性活性化液」を使用しうる。 本発明の処理液は、このようなタイプの感材でも効果が
ある。 【0036】また本発明の実施に用いられる平版印刷版
のハロゲン化銀乳剤は塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、塩沃
化銀、塩臭沃化銀が使用でき、好ましくは塩化銀が50
モル%以上のハロゲン化銀である。これらのハロゲン化
銀乳剤は分光増感剤(光源・用途に応じた分光増感色素
、例えばカメラタイプ、レーザー光タイプ、色分解用パ
ンクロタイプ等)、ゼラチン硬化剤、塗布助剤、カブリ
防止剤、化塑剤、現像主薬、マット剤などを含むことが
出来る。 【0037】本発明の平版印刷版のハロゲン化銀乳剤に
用いられるバインダーは、通常ゼラチンであるが、ゼラ
チンはその一部をデンプン、アルブミン、アルギン酸ナ
トリウム、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、ア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビ
ニルピロリドン(PVP)、カルボキシメチルセルロー
ス(CMC)、ポリアクリルアミド、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体などの親水性高分子結合剤の一種また
は二種以上で置換することも出来る。さらにビニル共重
合体水分散物(ラテックス)を用いることも出来る。 【0038】ハロゲン化銀乳剤層の下側(支持体面)に
は接着改良および/またはハレーション防止等の目的で
下引層を含むこともでき、この層には現像主薬、マット
剤を含むことが出来る。 【0039】ハロゲン化銀乳剤を塗布する支持体は、紙
、各種のフィルム、プラスチックス、樹脂様物質を塗布
した紙、金属板等が利用できる。 【0040】物理現像核層に使用される物理現像核は、
周知の薬品であるアンチモン、カドミウム、コバルト、
パラジウム、ニッケル、銀、鉛、亜鉛等の金属およびそ
の硫化物が使用できる。またこの物理現像核層にも現像
主薬を含むことができるし、親水性バインダーを含んで
もよい。 【0041】 【実施例】以下に実施例を掲げ本発明を更に詳細に説明
するが、無論、これだけに限定されるわけではない。 【0042】下引処理したポリエステルフィルム支持体
の片面に平均粒径サイズ5μのシリカ粒子を含有するマ
ット化層を設け、反対側の面に波長633nmの光の反
射率が3%になる量のカーボンブラックを含み、平均粒
径7μのシリカ粉末を写真用ゼラチンに対して20重量
%の割合で含むハレーション防止用下塗層(pH4.0
に調整)と、化学増感した後に平均粒径7μのシリカ粉
末を写真用ゼラチンに対して5重量%の割合で添加し、
かつ分光増感した高感度塩化銀乳剤層(pH4.0に調
整)とを設けた。下塗層はゼラチンを3.5g/m2、
乳剤層はゼラチンを0.8g/m2とハロゲン化銀(硝
酸銀に換算)1.0g/m2の割合で塗布した。この下
塗層と乳剤層は、硬膜剤としてホルマリンをゼラチンに
対して5.0mg/gの割合で含んでいる。 【0043】乾燥後40℃で14日加温した後、この乳
剤層の上に、特開昭54−103104号公報の実施例
2で用いたプレートNO.31記載の核液を塗布、乾燥
し、平版印刷版を製造する。ハロゲン化銀乳剤は、物理
熟成時にハロゲン化銀1モル当たり4×10−6モルの
塩化ロジウムを添加したものであり、平均粒径0.40
μであった。このようにして得られた平版印刷版の原版
に像反転機構を有する製版カメラで像露光し、下記の現
像液(使用液)により30℃で30秒間現像処理し、続
いて下記中和液で処理した。 【0044】 現像液A 水酸化ナトリウム
24g
水酸化カリウム
8g
無水亜硫酸ナトリウム
50g 2
−メチル−アミノ−1−プロパノール
30g ウラシル
0.2g 水を加えて1lとする
。 【0045】 中和液 エチレングリコール
5g
コロイダルシリカ(20%水溶液)
1g クエン酸
10g クエン酸
ナトリウム
35g 水を加えて1
lとする。 【0046】一方、前記の現像液Aのほかに、下記の比
較化合物化12−16または本発明の例示化合物を現像
液1lあたり2×10−3モルの割合で添加し、現像液
B−Kを調製した。 【0047】 【化12】 【0048】 【化13】 【0049】 【化14】 【0050】 【化15】 【0051】 【化16】 【0052】現像は上記の現像液Aと全く同様にし、製
版処理した。ついで印刷版をオフセット印刷機にセット
し、下記組成のエッチ液で版面を充分に湿し、下記組成
の給湿液を用いて印刷を行なった。 【0053】 エッチ液 水
600ml イソプロパノール
400ml エチレングリコール
50g 【0054】 給湿液 水
8l コハク酸
6g 硫酸ナトリウム
25g エチレングリコール
100g コロイダルシリカ(20%水溶液
) 28g
【0055】以下の基準により判定した実施例の印刷
結果を、表1に示した。印刷の耐刷力は、次のような方
法で判定した。1,000枚以上50,000枚までの
印刷を続け、銀画像部のインキとびの出るときの印刷枚
数によって、次の4つの水準で評価した。 A 50,000枚以上 B 25,000 C 10,000 D 5,000 【0056】 【表1】 【0057】表1から明らかなように化2の化合物を添
加して得られた平版印刷版は、飛躍的に耐刷力の優れた
銀画像が得られ、原稿の細線部分も良好に再現し、しか
もその細線部の印刷による機械的磨耗もなく長い印刷に
耐えるものであった。 【0058】 【発明の効果】本発明の処理方法で製版された平版印刷
版は、転写銀像の欠落が改良され、耐刷力の飛躍的な向
上が図れ、インキ受理能の低下がない。
る平版印刷版の処理方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】銀錯塩拡散転写法(DTR)によって得
られる銀画像を利用したオフセット印刷版は、既に特許
公報昭46−43132号あるいは特許公報昭48−3
0562号に記載されており、さらにポジタイプの印刷
原版については公開特許公報昭49−55402号に、
ネガタイプの印刷原版については公開特許公報昭52−
106902号、公開特許公報昭52−112402号
等に詳細に記載されている。 【0003】これらのダイレクト印刷版は、支持体およ
びその上にハレーション防止を兼ねた下引き層、ハロゲ
ン化銀乳剤層、物理現像核層からなっている。感光材料
を像様露光後、現像薬とハロゲン化銀溶剤を含む現像液
で処理すると潜像が形成されているハロゲン化銀は乳剤
層中で黒化銀となるが、これに対して潜像が形成されい
ないハロゲン化銀はハロゲン化銀錯化剤の作用で溶解し
、感光材料の表面に拡散してくる。この銀錯塩が表面層
の物理現像核の上に現像主薬の還元作用によって銀画像
として析出する。このプロセスによってダイレクト印刷
版が得られる。 【0004】この銀画像のインキ受容性を強化させるた
めには現像後、必要ならば感脂化処理を施し、オフセッ
ト印刷機上で印刷物へとインキ画像が転写される。この
ダイレクト印刷版は、操作性が良いこと、低価格である
ことなどの利点を持っているが、その反面写真現像処理
により印刷用銀画像を形成する性格上、処理時間内に拡
散転写が完結せず、過剰な銀イオンが残存し、それが保
存安定性もしくは耐刷力低下の一因となっていた。 【0005】これらの欠点を改良するために種々の方法
が利用される。そのひとつは酸化剤の使用である。特開
昭55−98753号公報には、含硫黄有機化合物と酸
化剤の併用が述べられており、また、特開昭51−58
952号、同昭61−223740号公報には、ヨウ素
イオンと酸化剤を使った耐刷力の向上法が述べられてい
る。また、キレート樹脂の利用による過剰な銀イオンの
除去も、耐刷力を上げるのに効果があった。しかしなが
ら、これらの方法の欠点は、往々にして銀画像のインキ
受理能を低下させることであった。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、銀錯
塩拡散転写法を利用するダイレクト平版印刷版の現像処
理に於て耐刷力が良好で、インキ受理能の高い銀画像を
得るための処理方法を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討を
重ねた結果、適当な大きさのアルキル基を持つ現像抑制
剤の存在下で、銀錯塩拡散転写を抑制させることにより
、本発明の目的を達成できることを見いだした。 【0008】すなわち、本発明は、下記化2で示される
含窒素複素環式化合物の存在下で平版印刷版を処理する
方法である。 【0009】 【化2】 【0010】式中、Rは炭素原子4個から9個のアルキ
ル基を表わし、ZはRとベンゼン環を介して結合する5
−メルカプト−1−フェニルテトラゾール、2−メルカ
プト−1−フェニルイミダゾール、ベンゾトリアゾール
、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾールを表わす。本発明に用いられる化2の
化合物の具体的な例を以下に示す。 【0011】 【化3】 【0012】 【化4】 【0013】 【化5】 【0014】 【化6】 【0015】 【化7】 【0016】 【化8】 【0017】 【化9】 【0018】 【化10】 【0019】 【化11】 【0020】本発明化合物の合成は、P−アルキルアニ
リンを原料として常法に従い容易にできる。以下に本発
明の代表的化合物の合成例を示す。 【0021】合成例1(化合物化3の合成例)4−オク
チルアニリン18.4gを、無水酢酸80mlと水80
mlの混合溶液中に添加し、撹拌しつつ30分間加熱し
た。室温まで放冷後析晶を濾取し、水洗後乾燥しアミノ
アセチル体を得た。このアミノアセチル体20.9gを
無水酢酸80ml中に溶解し、氷水冷下撹拌しつつ濃硝
酸33.5mlを徐々に滴下した。滴下終了後、室温下
で30分間撹拌した。水80mlを徐々に加え、析晶濾
取し、水洗後乾燥して粗製2−ニトロ体23.5gを得
た。 【0022】粗製2−ニトロ体23.5gをエタノール
160mlと30%水酸化カリウム水溶液15mlの混
合溶液中に添加し、1時間還流した。室温まで放冷し、
クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルム層を
水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下留去する
と、粗製2−ニトロ−4−n−オクチルアニリン21.
0gを得た。 【0023】粗製2−ニトロ−4−n−オクチルアニリ
ン21.0gを、10%パラジウム炭素2gをエタノー
ル200ml中に分散させた混合溶液中に溶解し、室温
下4時間水素接触還元した(水素吸収量6200ml)
。不溶物を濾別し、濾液には濃塩酸20mlとエタノー
ル30mlの混合溶液を加えた。減圧留去し、残渣を石
油エーテルで洗浄後乾燥して粗製1、2−ジアミノ体塩
酸塩22.4gを得た。 【0024】粗製1、2−ジアミノ体塩酸塩22.4g
を1N希塩酸250mlに溶解し、氷水冷により温度0
−5℃に維持しつつ亜硝酸ナトリウム5.2gを水50
ml中に溶解した水溶液を滴下した。滴下終了後酢酸エ
チルエステル150mlで抽出し、酢酸エチルエステル
層は水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧留去
し残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒ベン
ゼン+酢酸エチルエステル5:1)で分離した。分取し
たフラクションは減圧留去後n−ヘキサン中より再結晶
した。 収量:11.0g m.p.:64−65℃【002
5】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.8
7(1H、d、J=8Hz、7位)、7.66(1H、
s、J=8Hz、4位)、7.26(1H、d、J=8
Hz、5位)、2.74(2H、t、J=7Hz、メチ
レン)、1.66(2H、t、J=7Hz、メチレン)
、1.25(10H、m、メチレン5個)、0.86(
3H、t、J=7Hz、メチル)【0026】合成例2
(化合物化6の合成例)4−n−ヘプチルアニリン11
.46gを2N塩酸150mlに溶解し、室温下撹拌し
つつチオホスゲン7.24gを徐々に滴下した。滴下終
了後4時間撹拌し、ベンゼン150mlで抽出した。ベ
ンゼン層を水洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下留去すると、粗製イソチオシアナート体13.1g
を得た。 【0027】粗製イソチオシアナート体13.7gに室
温で撹拌しながらアミノアセタール7.82gを滴下し
た。30%希硫酸200mlを加え、さらに5時間還流
した。室温まで放冷後、水100mlを加え、生じた沈
殿を濾取し水洗浄後、含水エタノールおよび酢酸エチル
エステルより再結晶した。 収量:7.8g m.p.:128−129℃【00
28】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.
48(2H、d、J=8Hz、ベンゼン環2位6位)、
7.29(2H、d、J=8Hz、ベンゼン環3位5位
)、6.82(2H、d、J=10Hz、イミダゾール
環4位5位)、2.65(2H、t、J=7Hz、メチ
レン)、1.65(2H、s、J=7Hz、メチレン)
、1.31(8H、s、メチレン)、0.89(3H、
s、メチル)13C−NMR(CDCl3):δ=16
1.3(イミダゾール2位)、143.4、135.2
129.0、125.6(以上ベンゼン環)、11
9.4、114.8 (イミダゾール環4位5位)、
35.6、31.7、31.2、29.2、29.1、
22.6、14.0(以上n−ヘプチル基)【0029
】合成例3(化合物化9の合成例)4−n−ヘプチルア
ニリン4.78g、二硫化炭素4.75gと硫黄1.6
gをステンレス製封管に入れ密栓し、油浴上240℃で
5時間加熱した。放冷後、反応混合物にアセトンを加え
て不溶物を濾別し、濾液を減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで2回(展開溶媒ベンゼン+酢酸
エチルエステル10:1およびn−ヘキサン+酢酸エチ
ルエステル5:1)分離した。分取したフラクションは
溶媒留去後、n−ヘキサン中より再結晶した。 収量:0.8g m.p.:109−110℃【00
30】1H−NMR(CDCl3/TMS):δ=7.
27(1H、d、J=1Hz、7位)、7.26(1H
、d、J=8Hz、4位)、7.16(2H、dd、J
=1Hz・8Hz、5位)、2.64(2H、t、J=
7Hz、メチレン)、1.60(2H、t、J=7Hz
、メチレン)、1.28(8H、m、メチレン)、0.
87 (3H、s、メチル)13C−NMR(CDCl
3)、δ=190.3(2位)、140.0、138.
4、130.1、127.7、120.7、112.0
(以上ベンゼン環)、35.6、31.7、31.5、
29.0、22.6、14.0(以上n−ヘプチル基) 【0031】本発明の化2の化合物の現像液への添加量
は、10−5〜10−1モル/lの範囲であり、好まし
くは10−3〜10−2モル/lがよい。また二種類以
上の化合物の併用もできる。本発明の化合物は現像液中
に添加するのが最も効果的だが、ダイレクト印刷版のハ
ロゲン化銀乳剤層もしくは上塗り層、好ましくはハロゲ
ン化銀乳剤層に添加してもよい。その場合添加量は10
−7〜10−3モル/m2の範囲であり、好ましくは1
0−6〜10−4モル/m2がよい。また二種類以上の
化合物の併用もできる。 【0032】平版印刷版用拡散転写現像液にカルボキシ
メチルセルロース(CMC)、ヒドロキシルエチルセル
ロース(HEC)等の水溶性ポリマーを粘調剤として使
用することは公知であり(例えば特開昭48−7660
3号、同昭56−6237号公報等)、本発明の処理液
に対しても添加してよいが、これらの高分子化合物には
、耐刷力を向上させる作用はない。 【0033】本発明現像処理液には、アルカリ性物質(
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウ
ム等)、保恒剤としての亜硫酸塩(亜硫酸カリウム、亜
硫酸ナトリウムなど)が必須であるが、それ以外の化合
物、例えば硫酸塩(硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム
など)、カブリ防止剤(臭化カリウムなど)、ハロゲン
化銀溶剤(チオ硫酸塩、チオシアン酸塩、チオエーテル
、環状イミド、チオサリチル酸、アルカノールアミンな
ど)、現像主薬(ハイドロキノン、1−フェニル−3−
ピラゾリドン、メトールなど)、現像変性剤(ポリオキ
シアルキレン化合物、オニウム化合物など)を含むこと
が出来る。 【0034】更に、界面活性剤(アルギン酸プロピレン
グリコールエステルなど)、アミノポリカルボン酸塩(
エチレンジアミン四酢酸ナトリウムなど)等を一種また
は二種以上含有させることも出来る。この他にも本発明
の化合物の溶剤、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコ
ール、DMF、ジオキサン等の水混和性有機溶剤を含ま
せることが出来る。 【0035】銀錯塩拡散転写法の実施に当たっては、例
えば英国特許第1000115号、第1012476号
、第1017273号、第1042477号の明細書に
記載されているごとく、ハロゲン化銀乳剤および/また
は受像層かそれに隣接する他の水透過性層中に現像主薬
を混入することが行なわれている。したがって、このよ
うな感光材料では、現像に使われる処理液は、現像主薬
を含まぬ所謂「アルカリ性活性化液」を使用しうる。 本発明の処理液は、このようなタイプの感材でも効果が
ある。 【0036】また本発明の実施に用いられる平版印刷版
のハロゲン化銀乳剤は塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、塩沃
化銀、塩臭沃化銀が使用でき、好ましくは塩化銀が50
モル%以上のハロゲン化銀である。これらのハロゲン化
銀乳剤は分光増感剤(光源・用途に応じた分光増感色素
、例えばカメラタイプ、レーザー光タイプ、色分解用パ
ンクロタイプ等)、ゼラチン硬化剤、塗布助剤、カブリ
防止剤、化塑剤、現像主薬、マット剤などを含むことが
出来る。 【0037】本発明の平版印刷版のハロゲン化銀乳剤に
用いられるバインダーは、通常ゼラチンであるが、ゼラ
チンはその一部をデンプン、アルブミン、アルギン酸ナ
トリウム、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、ア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビ
ニルピロリドン(PVP)、カルボキシメチルセルロー
ス(CMC)、ポリアクリルアミド、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体などの親水性高分子結合剤の一種また
は二種以上で置換することも出来る。さらにビニル共重
合体水分散物(ラテックス)を用いることも出来る。 【0038】ハロゲン化銀乳剤層の下側(支持体面)に
は接着改良および/またはハレーション防止等の目的で
下引層を含むこともでき、この層には現像主薬、マット
剤を含むことが出来る。 【0039】ハロゲン化銀乳剤を塗布する支持体は、紙
、各種のフィルム、プラスチックス、樹脂様物質を塗布
した紙、金属板等が利用できる。 【0040】物理現像核層に使用される物理現像核は、
周知の薬品であるアンチモン、カドミウム、コバルト、
パラジウム、ニッケル、銀、鉛、亜鉛等の金属およびそ
の硫化物が使用できる。またこの物理現像核層にも現像
主薬を含むことができるし、親水性バインダーを含んで
もよい。 【0041】 【実施例】以下に実施例を掲げ本発明を更に詳細に説明
するが、無論、これだけに限定されるわけではない。 【0042】下引処理したポリエステルフィルム支持体
の片面に平均粒径サイズ5μのシリカ粒子を含有するマ
ット化層を設け、反対側の面に波長633nmの光の反
射率が3%になる量のカーボンブラックを含み、平均粒
径7μのシリカ粉末を写真用ゼラチンに対して20重量
%の割合で含むハレーション防止用下塗層(pH4.0
に調整)と、化学増感した後に平均粒径7μのシリカ粉
末を写真用ゼラチンに対して5重量%の割合で添加し、
かつ分光増感した高感度塩化銀乳剤層(pH4.0に調
整)とを設けた。下塗層はゼラチンを3.5g/m2、
乳剤層はゼラチンを0.8g/m2とハロゲン化銀(硝
酸銀に換算)1.0g/m2の割合で塗布した。この下
塗層と乳剤層は、硬膜剤としてホルマリンをゼラチンに
対して5.0mg/gの割合で含んでいる。 【0043】乾燥後40℃で14日加温した後、この乳
剤層の上に、特開昭54−103104号公報の実施例
2で用いたプレートNO.31記載の核液を塗布、乾燥
し、平版印刷版を製造する。ハロゲン化銀乳剤は、物理
熟成時にハロゲン化銀1モル当たり4×10−6モルの
塩化ロジウムを添加したものであり、平均粒径0.40
μであった。このようにして得られた平版印刷版の原版
に像反転機構を有する製版カメラで像露光し、下記の現
像液(使用液)により30℃で30秒間現像処理し、続
いて下記中和液で処理した。 【0044】 現像液A 水酸化ナトリウム
24g
水酸化カリウム
8g
無水亜硫酸ナトリウム
50g 2
−メチル−アミノ−1−プロパノール
30g ウラシル
0.2g 水を加えて1lとする
。 【0045】 中和液 エチレングリコール
5g
コロイダルシリカ(20%水溶液)
1g クエン酸
10g クエン酸
ナトリウム
35g 水を加えて1
lとする。 【0046】一方、前記の現像液Aのほかに、下記の比
較化合物化12−16または本発明の例示化合物を現像
液1lあたり2×10−3モルの割合で添加し、現像液
B−Kを調製した。 【0047】 【化12】 【0048】 【化13】 【0049】 【化14】 【0050】 【化15】 【0051】 【化16】 【0052】現像は上記の現像液Aと全く同様にし、製
版処理した。ついで印刷版をオフセット印刷機にセット
し、下記組成のエッチ液で版面を充分に湿し、下記組成
の給湿液を用いて印刷を行なった。 【0053】 エッチ液 水
600ml イソプロパノール
400ml エチレングリコール
50g 【0054】 給湿液 水
8l コハク酸
6g 硫酸ナトリウム
25g エチレングリコール
100g コロイダルシリカ(20%水溶液
) 28g
【0055】以下の基準により判定した実施例の印刷
結果を、表1に示した。印刷の耐刷力は、次のような方
法で判定した。1,000枚以上50,000枚までの
印刷を続け、銀画像部のインキとびの出るときの印刷枚
数によって、次の4つの水準で評価した。 A 50,000枚以上 B 25,000 C 10,000 D 5,000 【0056】 【表1】 【0057】表1から明らかなように化2の化合物を添
加して得られた平版印刷版は、飛躍的に耐刷力の優れた
銀画像が得られ、原稿の細線部分も良好に再現し、しか
もその細線部の印刷による機械的磨耗もなく長い印刷に
耐えるものであった。 【0058】 【発明の効果】本発明の処理方法で製版された平版印刷
版は、転写銀像の欠落が改良され、耐刷力の飛躍的な向
上が図れ、インキ受理能の低下がない。
Claims (1)
- 【請求項1】銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版を
、下記化1で表わされる複素環式化合物の少なくとも一
種類が存在する条件下で処理する方法。 【化1】 (式中、Rは炭素原子4個から9個のアルキル基を表わ
し、ZはRとベンゼン環を介して結合する5−メルカプ
ト−1−フェニルテトラゾール、2−メルカプト−1−
フェニルイミダゾール、ベンゾトリアゾール、2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾールを表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11935591A JP2935380B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 平版印刷版の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11935591A JP2935380B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 平版印刷版の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04323659A true JPH04323659A (ja) | 1992-11-12 |
| JP2935380B2 JP2935380B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=14759442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11935591A Expired - Fee Related JP2935380B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 平版印刷版の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2935380B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995018400A1 (en) * | 1993-12-28 | 1995-07-06 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Method and apparatus for processing photosensitive material |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP11935591A patent/JP2935380B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995018400A1 (en) * | 1993-12-28 | 1995-07-06 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US5834156A (en) * | 1993-12-28 | 1998-11-10 | Mitsubishi Papers Mills Limited | Method for processing photosensitive material and apparatus therefor |
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| JP2935380B2 (ja) | 1999-08-16 |
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