JPH0432526A - 電子材料用アルミニウム材の製造方法 - Google Patents
電子材料用アルミニウム材の製造方法Info
- Publication number
- JPH0432526A JPH0432526A JP2137977A JP13797790A JPH0432526A JP H0432526 A JPH0432526 A JP H0432526A JP 2137977 A JP2137977 A JP 2137977A JP 13797790 A JP13797790 A JP 13797790A JP H0432526 A JPH0432526 A JP H0432526A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- cooling body
- temp
- molten
- shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B21/00—Obtaining aluminium
- C22B21/06—Obtaining aluminium refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/02—Refining by liquating, filtering, centrifuging, distilling, or supersonic wave action including acoustic waves
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、たとえばICチップ上の電極と外部パッケ
ージのリードとの接続に用いられるボンディングワイヤ
や、高密度集積回路用配線材などに使用される電子材料
用アルミニウム材の製造方法に関する。
ージのリードとの接続に用いられるボンディングワイヤ
や、高密度集積回路用配線材などに使用される電子材料
用アルミニウム材の製造方法に関する。
従来の技術
上記ボンディングワイヤや、LSI、超LSIなどの高
密度集積回路の配線材は、たとえば高純度アルミニウム
、Aρ−8i合金、Aρ5i−Cu合金、A、Q−Cu
合金などのアルミニウム材を用いて形成される。従来、
上記アルミニウム材中、高純度アルミニウムとしては3
層式電解精製法によって得られたものが使用され、他の
アルミニウム合金としては3層式電解精製法によって得
られた高純度アルミニウムを用いて作成されたものが使
用されていた。
密度集積回路の配線材は、たとえば高純度アルミニウム
、Aρ−8i合金、Aρ5i−Cu合金、A、Q−Cu
合金などのアルミニウム材を用いて形成される。従来、
上記アルミニウム材中、高純度アルミニウムとしては3
層式電解精製法によって得られたものが使用され、他の
アルミニウム合金としては3層式電解精製法によって得
られた高純度アルミニウムを用いて作成されたものが使
用されていた。
ところが、3層式電解精製法によれば、コンタミネーシ
ョンか原因となってUおよびThの含有量を低減させる
のは極めて困難であると考えられ、この方法によって得
られた高純度アルミニウムには、通常UおよびThが不
可避的に20〜300 ppb程度含まれる。したがっ
て、この高純度アルミニウム、またはこの高純度アルミ
ニウムを用いて作成されたアルミニウム合金によって形
成されたボンディングワイヤ、集積回路用配線材中のU
およびThから放射される放射線、とくにα線により、
集積回路にソフトエラーが発生するという問題かあった
。
ョンか原因となってUおよびThの含有量を低減させる
のは極めて困難であると考えられ、この方法によって得
られた高純度アルミニウムには、通常UおよびThが不
可避的に20〜300 ppb程度含まれる。したがっ
て、この高純度アルミニウム、またはこの高純度アルミ
ニウムを用いて作成されたアルミニウム合金によって形
成されたボンディングワイヤ、集積回路用配線材中のU
およびThから放射される放射線、とくにα線により、
集積回路にソフトエラーが発生するという問題かあった
。
そこで、このソフトエラーの発生を抑制するために、ア
ルミニウム材中のUおよびTh含有量を少なくする方法
が提案されている。その1つは、帯溶融法である(特開
昭61−59761号および59760号公報参照)。
ルミニウム材中のUおよびTh含有量を少なくする方法
が提案されている。その1つは、帯溶融法である(特開
昭61−59761号および59760号公報参照)。
また、他の1つは真空容器内でUおよびThを含む被精
製アルミニウム材を蒸発させること、蒸発した被精製ア
ルミニウム材を電離すること、電離した被精製アルミニ
ウム材に磁界を印加してその不純物濃度を変化させるこ
と、および不純物濃度の高くなったアルミニウム材と低
くなったアルミニウム材とを別々に収集することよりな
るものである(特開昭57−164942号公報参照)
。
製アルミニウム材を蒸発させること、蒸発した被精製ア
ルミニウム材を電離すること、電離した被精製アルミニ
ウム材に磁界を印加してその不純物濃度を変化させるこ
と、および不純物濃度の高くなったアルミニウム材と低
くなったアルミニウム材とを別々に収集することよりな
るものである(特開昭57−164942号公報参照)
。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記1つ目の方法は、平衡状態を保つよ
うにして行わなければならす、長い時間がかかって工業
的にコストが極めて高くなる。また、上記2つ目の方法
では、上記公報にも記載されているように、1度の操作
における精製効率は極めて低く、何回も繰返して行う必
要があって、やはり工業的にはコストが極めて高くなる
。
うにして行わなければならす、長い時間がかかって工業
的にコストが極めて高くなる。また、上記2つ目の方法
では、上記公報にも記載されているように、1度の操作
における精製効率は極めて低く、何回も繰返して行う必
要があって、やはり工業的にはコストが極めて高くなる
。
この発明の目的は、上記問題を解決した電子材料用アル
ミニウム材の製造方法を提供することにある。
ミニウム材の製造方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
この発明による半導体装置用アルミニウム材の製造方法
は、UおよびThが不可避的に混入しているアルミニウ
ムを溶解し、この溶融アルミニウムをその凝固温度を越
えた温度に加熱保持しておき、この加熱された溶融アル
ミニウム中に冷却体を浸漬し、この冷却体の内部に冷却
流体を供給してその表面温度を上記凝固温度よりも低い
温度に保持しつつ冷却体を溶融アルミニウム中で回転さ
せ、冷却体の表面に、UおよびThff1を低減させた
アルミニウムを晶出させることを特徴とするものである
。
は、UおよびThが不可避的に混入しているアルミニウ
ムを溶解し、この溶融アルミニウムをその凝固温度を越
えた温度に加熱保持しておき、この加熱された溶融アル
ミニウム中に冷却体を浸漬し、この冷却体の内部に冷却
流体を供給してその表面温度を上記凝固温度よりも低い
温度に保持しつつ冷却体を溶融アルミニウム中で回転さ
せ、冷却体の表面に、UおよびThff1を低減させた
アルミニウムを晶出させることを特徴とするものである
。
上記において、冷却体を回転させるさいの周速は160
0〜8000+nmノseeとすることか好ましい。そ
の理由は、次の通りである。すなわち、上述したような
操作を行うと、冷却体の周面には、まず従来技術の帯溶
融法と同様に偏析の原理によって高純度アルミニウムの
初晶か晶出し、さらに凝固が進行して高純度アルミニウ
ムが晶出する。高純度アルミニウムが晶出するさい、U
およびThは液相中に排出され、凝固界面近傍にUおよ
びThの濃度が高くなった不純物濃化層ができるが、冷
却体を回転させると、溶融アルミニウムも冷却体の回転
方向と同方向に流れ、質量数の大きいUおよびThは、
遠心力によって冷却体の周面から遠ざかる。したがって
、冷却体近傍の液相中に存在する上記不純物濃化層が薄
くなり、UおよびTh濃度は低くなるので、これから冷
却体の周面に晶出するアルミニウム中におけるUおよび
Thの量は極めて少なくなる。ところが、冷却体の周速
が上記下限値未満であると、上記不純物濃化層の厚さを
十分に薄くする効果が得られず、上限値を越えると遠心
力の増大に伴って冷却体の周面に周面に晶出した高純度
アルミニウムが冷却体の周面に付着しにくくなり、生産
性が低下する。したがって、冷却体を回転させるさいの
周速は1600〜8000IllrA/secとするこ
とが好ましい。
0〜8000+nmノseeとすることか好ましい。そ
の理由は、次の通りである。すなわち、上述したような
操作を行うと、冷却体の周面には、まず従来技術の帯溶
融法と同様に偏析の原理によって高純度アルミニウムの
初晶か晶出し、さらに凝固が進行して高純度アルミニウ
ムが晶出する。高純度アルミニウムが晶出するさい、U
およびThは液相中に排出され、凝固界面近傍にUおよ
びThの濃度が高くなった不純物濃化層ができるが、冷
却体を回転させると、溶融アルミニウムも冷却体の回転
方向と同方向に流れ、質量数の大きいUおよびThは、
遠心力によって冷却体の周面から遠ざかる。したがって
、冷却体近傍の液相中に存在する上記不純物濃化層が薄
くなり、UおよびTh濃度は低くなるので、これから冷
却体の周面に晶出するアルミニウム中におけるUおよび
Thの量は極めて少なくなる。ところが、冷却体の周速
が上記下限値未満であると、上記不純物濃化層の厚さを
十分に薄くする効果が得られず、上限値を越えると遠心
力の増大に伴って冷却体の周面に周面に晶出した高純度
アルミニウムが冷却体の周面に付着しにくくなり、生産
性が低下する。したがって、冷却体を回転させるさいの
周速は1600〜8000IllrA/secとするこ
とが好ましい。
また、冷却体周面への高純度アルミニウムの晶出速度は
小さいほど好ましい。そのために、加熱により溶融アル
ミニウムに供給される熱量と、冷却体によって溶融アル
ミニウムから奪われる熱量との差を小さくするのがよい
。
小さいほど好ましい。そのために、加熱により溶融アル
ミニウムに供給される熱量と、冷却体によって溶融アル
ミニウムから奪われる熱量との差を小さくするのがよい
。
また、この発明の方法により製造されたアルミニウム材
は、高純度状態のままで電子材料に適用され、あるいは
これと適当な合金元素とにより、AΩ−5i合金、AΩ
−3i−Cu合金、A、17−Cu合金などの合金がつ
くられ、これか電子材料に適用される。
は、高純度状態のままで電子材料に適用され、あるいは
これと適当な合金元素とにより、AΩ−5i合金、AΩ
−3i−Cu合金、A、17−Cu合金などの合金がつ
くられ、これか電子材料に適用される。
作 用
UおよびThを含む溶融アルミニウムを、その凝固温度
を越えた温度に加熱保持しておき、この加熱された溶融
アルミニウム中に冷却体を浸漬し、この冷却体の内部に
冷却流体を供給してその表面温度を上記凝固温度よりも
低い温度に保持しつつ冷却体を溶融アルミニウム中で回
転させると、まず従来技術の帯溶融法と同様に偏析の原
理によって冷却体の周面に、高純度アルミニウムの初晶
が晶出し、さらに凝固が進行して高純度アルミニウムが
晶出する。アルミニウムが晶出するさい、UおよびTh
は液相中に排出され、凝固界面近傍にUおよびThの濃
度が高くなった不純物濃化層ができるが、冷却体を回転
させると、溶融アルミニウムも冷却体の回転方向と同方
向に流れ、質量数の大きいUおよびThは、遠心力によ
って冷却体の周面から遠ざかる。したがって、冷却体近
傍の液相中に存在する上記不純物濃化層が薄くなり、U
およびTh濃度は低くなるので、これから冷却体の周面
に晶出するアルミニウム中におけるUおよびThの量は
極めて小さくなる。
を越えた温度に加熱保持しておき、この加熱された溶融
アルミニウム中に冷却体を浸漬し、この冷却体の内部に
冷却流体を供給してその表面温度を上記凝固温度よりも
低い温度に保持しつつ冷却体を溶融アルミニウム中で回
転させると、まず従来技術の帯溶融法と同様に偏析の原
理によって冷却体の周面に、高純度アルミニウムの初晶
が晶出し、さらに凝固が進行して高純度アルミニウムが
晶出する。アルミニウムが晶出するさい、UおよびTh
は液相中に排出され、凝固界面近傍にUおよびThの濃
度が高くなった不純物濃化層ができるが、冷却体を回転
させると、溶融アルミニウムも冷却体の回転方向と同方
向に流れ、質量数の大きいUおよびThは、遠心力によ
って冷却体の周面から遠ざかる。したがって、冷却体近
傍の液相中に存在する上記不純物濃化層が薄くなり、U
およびTh濃度は低くなるので、これから冷却体の周面
に晶出するアルミニウム中におけるUおよびThの量は
極めて小さくなる。
実 施 例
以下、この発明の実施例を、図面を参照して説明する。
図面は、この発明の方法を実施する装置を示す。図面に
おいて、るつぼ(1)内にUおよびThを不可避的に含
んだ溶融アルミニウム(M)が入れられており、るつは
(1)の周りにこれを囲むように配置されたヒータ(2
)によって、その凝固温度以上の温度に加熱保持される
ようになっている。溶融アルミニウム(M)の中に、中
空状回転軸(3)の下端に取付けられた中空冷却体(4
)が浸漬されている。回転軸(3)内には、冷却体(4
)の内部に連通させられた冷却流体供給管(6)および
同排出管(7)が配置されている。
おいて、るつぼ(1)内にUおよびThを不可避的に含
んだ溶融アルミニウム(M)が入れられており、るつは
(1)の周りにこれを囲むように配置されたヒータ(2
)によって、その凝固温度以上の温度に加熱保持される
ようになっている。溶融アルミニウム(M)の中に、中
空状回転軸(3)の下端に取付けられた中空冷却体(4
)が浸漬されている。回転軸(3)内には、冷却体(4
)の内部に連通させられた冷却流体供給管(6)および
同排出管(7)が配置されている。
そして、空気、水、ミストなどの冷却流体が、供給管(
6)を通して冷却体(4)内に送り込まれ、排出管(7
)から排出されるようになっている。
6)を通して冷却体(4)内に送り込まれ、排出管(7
)から排出されるようになっている。
冷却体(4)は下方に向かって徐々に細くなったテーバ
筒状であり、その下面および周面上端部は断熱材(5)
で覆われている。冷却体(4)としては、黒鉛、セラミ
ックスなどの熱伝導性の優れた耐熱材、または銅、鉄な
どのアルミニウム材よりも融点が高い金属からなる本体
の周りが、耐熱性に優れるとともにアルミニウムへの溶
解による汚染のないアルミナなどの材料で覆われたもの
を用いることか好ましい。
筒状であり、その下面および周面上端部は断熱材(5)
で覆われている。冷却体(4)としては、黒鉛、セラミ
ックスなどの熱伝導性の優れた耐熱材、または銅、鉄な
どのアルミニウム材よりも融点が高い金属からなる本体
の周りが、耐熱性に優れるとともにアルミニウムへの溶
解による汚染のないアルミナなどの材料で覆われたもの
を用いることか好ましい。
このような装置において、るつは(1)内の溶融アルミ
ニウム(M)をヒータ(2)によりその凝固温度以上の
温度に加熱保持しておく。そして、冷却体(4)内に冷
却流体を送り込みつつ、冷却体(4)を回転軸(3〉の
軸線の周りに回転させる。
ニウム(M)をヒータ(2)によりその凝固温度以上の
温度に加熱保持しておく。そして、冷却体(4)内に冷
却流体を送り込みつつ、冷却体(4)を回転軸(3〉の
軸線の周りに回転させる。
すると、まず冷却体(4)の周面に、平滑な凝固面を有
する高純度アルミニウムの初晶が晶出し、さらに凝固が
進行して高純度アルミニウムか晶出し塊(8)が形成さ
れる。その後、冷却体(4)を溶融アルミニウム(M)
内から引上げ、高純度アルミニウム塊(8)を冷却体(
4)の周面から離脱させて回収する。
する高純度アルミニウムの初晶が晶出し、さらに凝固が
進行して高純度アルミニウムか晶出し塊(8)が形成さ
れる。その後、冷却体(4)を溶融アルミニウム(M)
内から引上げ、高純度アルミニウム塊(8)を冷却体(
4)の周面から離脱させて回収する。
次に、この発明のさらに具体的な実施例について述べる
。
。
るつは(1)内にUl 10ppb 、 Th72pp
bを含む溶融アルミニウム(M)を入れて、ヒータ(2
)により660℃に加熱保持しておく。そして、周面上
端部の断熱材(5)で被覆さねている部分の外径が15
01である冷却体(4)の内部に、冷却流体供給管(6
)から冷却流体を供給しつつ、周速3140 ■/se
eで10分間回転させた。その結果、冷却体(4)の周
面には5kgの高純度アルミニウム塊(8)が形成され
ていた。この高純度アルミニウム塊(8)を冷却体(4
)から取り外し、UおよびThの濃度を測定したところ
、U 0. 8ppb 、 T h O,6ppbであ
った。
bを含む溶融アルミニウム(M)を入れて、ヒータ(2
)により660℃に加熱保持しておく。そして、周面上
端部の断熱材(5)で被覆さねている部分の外径が15
01である冷却体(4)の内部に、冷却流体供給管(6
)から冷却流体を供給しつつ、周速3140 ■/se
eで10分間回転させた。その結果、冷却体(4)の周
面には5kgの高純度アルミニウム塊(8)が形成され
ていた。この高純度アルミニウム塊(8)を冷却体(4
)から取り外し、UおよびThの濃度を測定したところ
、U 0. 8ppb 、 T h O,6ppbであ
った。
発明の効果
この発明の半導体装置用アルミニウム材の製造方法によ
れば、上述のようにして、UおよびThの含有量が低減
した高純度アルミニウム塊を簡単にかつ短時間で形成す
ることができる。
れば、上述のようにして、UおよびThの含有量が低減
した高純度アルミニウム塊を簡単にかつ短時間で形成す
ることができる。
したがって、工業的にみてコストが安くなる。
図面はこの発明の方法を実施する装置の垂直断面図であ
る。 (4)・・・冷却体、(8)・・・高純度アルミニウム
塊、01)・・・溶融アルミニウム。 以 上
る。 (4)・・・冷却体、(8)・・・高純度アルミニウム
塊、01)・・・溶融アルミニウム。 以 上
Claims (1)
- UおよびThが不可避的に混入しているアルミニウム
を溶解し、この溶融アルミニウムをその凝固温度を越え
た温度に加熱保持しておき、この加熱された溶融アルミ
ニウム中に冷却体を浸漬し、この冷却体の内部に冷却流
体を供給してその表面温度を上記凝固温度よりも低い温
度に保持しつつ冷却体を溶融アルミニウム中で回転させ
、冷却体の表面に、UおよびTh量を低減させたアルミ
ニウムを晶出させることを特徴とする電子材料用アルミ
ニウム材の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137977A JP2949512B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電子材料用アルミニウム材の製造方法 |
| EP91108378A EP0459303A1 (en) | 1990-05-28 | 1991-05-23 | Method for producing aluminum material for use as electronic material |
| US07/705,422 US5110352A (en) | 1990-05-28 | 1991-05-24 | Method of producing aluminum material for use as electronic material |
| NO91912025A NO912025L (no) | 1990-05-28 | 1991-05-27 | Fremgangsmaate for fremstilling av aluminiummateriale for anvendelse som elektronisk materiale. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137977A JP2949512B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電子材料用アルミニウム材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432526A true JPH0432526A (ja) | 1992-02-04 |
| JP2949512B2 JP2949512B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=15211167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2137977A Expired - Lifetime JP2949512B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電子材料用アルミニウム材の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5110352A (ja) |
| EP (1) | EP0459303A1 (ja) |
| JP (1) | JP2949512B2 (ja) |
| NO (1) | NO912025L (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0777241A2 (en) | 1995-11-29 | 1997-06-04 | Nippon Petrochemicals Company, Ltd. | Metallized plastic film capacitor |
| JPH10503807A (ja) * | 1994-07-18 | 1998-04-07 | ホガナス アクチボラゲット | 熱可塑性樹脂を含む鉄粉構成部分及びその製法 |
| JP2013064182A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アルミニウム材の製造方法 |
| JP2013064181A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アルミニウム材およびその製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5385598A (en) * | 1993-05-05 | 1995-01-31 | Argus International | Method and apparatus for isolating a metallic compound within a molten bath |
| FR2708000B1 (fr) * | 1993-07-22 | 1995-08-25 | Pechiney Aluminium | Aluminium électroraffiné à basse teneur en uranium, thorium et terres rares. |
| US6156092A (en) * | 1997-08-08 | 2000-12-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing high purity aluminum |
| KR101003955B1 (ko) * | 2008-09-24 | 2010-12-24 | 한국수력원자력 주식회사 | 경막결정화법을 이용한 LiCl염폐기물의 재활용방법 및 장치 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57164942A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Fujitsu Ltd | Purifying apparatus for substance |
| JPS58224133A (ja) * | 1982-06-23 | 1983-12-26 | Showa Alum Corp | 真空蒸着用高純度アルミニウムの製造方法 |
| JPS613385A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Toshiba Corp | テ−プレコ−ダ装置 |
| JPS6159760A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-27 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置の結線用Al合金極細線 |
| JPS6159761A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-27 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置の結線用高純度Al極細線 |
| JPS62158830A (ja) * | 1986-01-06 | 1987-07-14 | アリユミニウム・ペシネ | 分別晶出による金属の改良精製法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE251264C (ja) * | 1907-10-22 | 1912-09-30 | ||
| US3543531A (en) * | 1967-05-08 | 1970-12-01 | Clyde C Adams | Freeze refining apparatus |
| DE2401654C2 (de) * | 1974-01-15 | 1975-11-20 | Matthias 4150 Krefeld Welsch | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Aluminium |
| JPS5782437A (en) * | 1980-11-11 | 1982-05-22 | Showa Alum Corp | Refining method for aluminum |
| EP0099948B1 (en) * | 1982-07-28 | 1986-11-20 | Showa Aluminum Corporation | Process for producing high-purity aluminum |
| US4854968A (en) * | 1986-12-25 | 1989-08-08 | Showa Aluminum Corporation | Method of preparing high-purity metal and rotary cooling member for use in apparatus therefor |
| EP0375308A1 (en) * | 1988-12-22 | 1990-06-27 | Alcan International Limited | Process and apparatus for producing high purity aluminum |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP2137977A patent/JP2949512B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-05-23 EP EP91108378A patent/EP0459303A1/en not_active Withdrawn
- 1991-05-24 US US07/705,422 patent/US5110352A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-27 NO NO91912025A patent/NO912025L/no unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57164942A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Fujitsu Ltd | Purifying apparatus for substance |
| JPS58224133A (ja) * | 1982-06-23 | 1983-12-26 | Showa Alum Corp | 真空蒸着用高純度アルミニウムの製造方法 |
| JPS613385A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Toshiba Corp | テ−プレコ−ダ装置 |
| JPS6159760A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-27 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置の結線用Al合金極細線 |
| JPS6159761A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-27 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置の結線用高純度Al極細線 |
| JPS62158830A (ja) * | 1986-01-06 | 1987-07-14 | アリユミニウム・ペシネ | 分別晶出による金属の改良精製法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10503807A (ja) * | 1994-07-18 | 1998-04-07 | ホガナス アクチボラゲット | 熱可塑性樹脂を含む鉄粉構成部分及びその製法 |
| EP0777241A2 (en) | 1995-11-29 | 1997-06-04 | Nippon Petrochemicals Company, Ltd. | Metallized plastic film capacitor |
| JP2013064182A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アルミニウム材の製造方法 |
| JP2013064181A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アルミニウム材およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO912025D0 (no) | 1991-05-27 |
| US5110352A (en) | 1992-05-05 |
| EP0459303A1 (en) | 1991-12-04 |
| JP2949512B2 (ja) | 1999-09-13 |
| NO912025L (no) | 1991-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4747906A (en) | Process and apparatus for purifying silicon | |
| CN101018877B (zh) | 精制金属的方法 | |
| WO2013111314A1 (ja) | シリコン純化法 | |
| JPH0432526A (ja) | 電子材料用アルミニウム材の製造方法 | |
| JPH07206420A (ja) | 高純度ケイ素の製造方法 | |
| JP2840195B2 (ja) | 単結晶引上用石英ガラスルツボの製造方法 | |
| JP4378820B2 (ja) | アルミニウムの精製方法とその用途 | |
| JP2916645B2 (ja) | 金属の精製方法 | |
| JP2764194B2 (ja) | 高純度アルミニウムの製造方法 | |
| JP2714684B2 (ja) | 金属ガリウムの精製方法 | |
| JP2000351616A (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
| WO1997003922A1 (en) | Process for producing high-purity silicon | |
| JP3814697B2 (ja) | 金属の精製装置 | |
| JP3331490B2 (ja) | アルミニウムの精製方法 | |
| JPH10102158A (ja) | アルミニウムの精製方法 | |
| JP2000351616A5 (ja) | ||
| JP3665677B2 (ja) | 石英ガラス管の製造方法 | |
| JPH10102158A5 (ja) | ||
| JP5415066B2 (ja) | 金属精製方法及び装置、精製金属、鋳造品、金属製品及び電解コンデンサ | |
| JP3873177B2 (ja) | 金属の精製装置およびこれを用いた金属の精製方法 | |
| JPS58224133A (ja) | 真空蒸着用高純度アルミニウムの製造方法 | |
| JPH068471B2 (ja) | 金属の精製方法 | |
| JPS5945739B2 (ja) | アルミニウムの精製方法 | |
| JPH08295964A (ja) | アルミニウム又はアルミニウムスクラップの精製方法 | |
| JPH07172977A (ja) | 石英ガラス坩堝の製造方法 |