JPH0432538B2 - - Google Patents
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- JPH0432538B2 JPH0432538B2 JP8942189A JP8942189A JPH0432538B2 JP H0432538 B2 JPH0432538 B2 JP H0432538B2 JP 8942189 A JP8942189 A JP 8942189A JP 8942189 A JP8942189 A JP 8942189A JP H0432538 B2 JPH0432538 B2 JP H0432538B2
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電力用トランジスタ、ダイオード等
の樹脂封止型半導体装置の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing resin-sealed semiconductor devices such as power transistors and diodes.
従来の技術
従来の一般的な樹脂封止型パワートランジスタ
においては、トランジスタチツプが固着されてい
る放熱支持板の裏面には樹脂層が形成されていな
い。このため、このパワートランジスタを外部放
熱体に取付けるに際しては、これらの間の電気的
絶縁のために、上記放熱支持板の裏面と外部放熱
体と間に比較的熱伝導性の良い絶縁物であるマイ
カ薄板等を介在させなければならず、パワートラ
ンジスタの取付け作業が煩雑になつた。BACKGROUND ART In a conventional general resin-sealed power transistor, a resin layer is not formed on the back surface of a heat dissipation support plate to which a transistor chip is fixed. Therefore, when installing this power transistor on an external heat radiator, an insulator with relatively good thermal conductivity is used between the back surface of the heat radiating support plate and the external heat radiator in order to electrically insulate between them. A mica thin plate or the like had to be interposed, making the installation work of the power transistor complicated.
上述の如き欠点を解決するために、例えば、特
開昭57−147260号公報に開開示されているよう
に、放熱支持板の裏面にも薄い封止樹脂層(厚さ
数百μm)を形成し、マイカ薄板等を不要にする
構造が提案されている。第11図及び第12図は
上述の如き従来のトランジスタ及びその製造方法
を示すものである。この第11図及び第12図に
おいて、1は放熱支持板、2はリード、3はパワ
ートランジスタチツプ、4はチツプ保護用樹脂、
5は封止樹脂体、6は上部金型、7は下部金型、
8は上部金型6と下部金型7が型締めされること
によつて形成される空所9に封止樹脂を圧入する
ための注入孔、10は取付孔、11,12はリー
ドフレームを構成するための連結部である。な
お、第12図において、連結部11,12は最終
的には切り落される。 In order to solve the above-mentioned drawbacks, a thin sealing resin layer (several hundred μm thick) is also formed on the back side of the heat dissipation support plate, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 147260/1983. However, a structure has been proposed that eliminates the need for mica thin plates and the like. FIGS. 11 and 12 show the conventional transistor and its manufacturing method as described above. 11 and 12, 1 is a heat dissipation support plate, 2 is a lead, 3 is a power transistor chip, 4 is a resin for chip protection,
5 is a sealing resin body, 6 is an upper mold, 7 is a lower mold,
8 is an injection hole for press-fitting the sealing resin into the cavity 9 formed by clamping the upper mold 6 and the lower mold 7, 10 is a mounting hole, and 11 and 12 are lead frames. This is a connecting part for configuring. In addition, in FIG. 12, the connecting portions 11 and 12 are finally cut off.
発明が解決しようとする問題点
ところで、チツプ3が装着されている支持板1
の一方の主表面側の樹脂被覆部5aはチツプ3を
保護するために必然的に厚く形成され、支持板1
の他方の主表面側の樹脂被覆部5bは放熱効果を
良くするために薄く形成される。このため、注入
孔8から例えばトランスフアー成形法で樹脂を注
入した時に、支持板1の下側に樹脂が円滑に流入
せず、未充填部分又は絶縁耐力の低い部分が生じ
るおそれがあつた。今、パワートランジスタを例
にとつて説明したが、ダイオード等の別の半導体
装置において同様な問題がある。Problems to be solved by the invention By the way, the support plate 1 on which the chip 3 is attached
The resin coating portion 5a on one main surface side of the support plate 1 is necessarily formed thickly to protect the chip 3.
The resin coating portion 5b on the other main surface side is formed thin in order to improve the heat dissipation effect. For this reason, when resin is injected from the injection hole 8 by, for example, a transfer molding method, the resin does not flow smoothly into the lower side of the support plate 1, and there is a risk that an unfilled portion or a portion with low dielectric strength may be formed. Although the explanation has been given using a power transistor as an example, similar problems occur in other semiconductor devices such as diodes.
そこで、本発明の目的は、放熱支持板のチツプ
装着面と反対の面に薄い樹脂被覆部を良好に形成
することが出来る樹脂封止型半導体装置の製造方
法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, which allows a thin resin coating to be satisfactorily formed on the surface of a heat dissipation support plate opposite to the chip mounting surface.
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明は、放熱機能
を有するように形成され且つ一端部近傍に切欠部
又は孔を有している金属製支持板と、前記支持板
の一方の主表面上に装着された半導体チツプと、
前記チツプに電気的に接続されたリードと、前記
支持板、前記チツプ及び前記リードの一部を被覆
する絶縁性樹脂被覆体とから成り、且つ前記支持
板の一方の主表面側の樹脂被覆部が他方の主表面
側の樹脂被覆部よりも厚くなるように前記樹脂被
覆体が形成され、且つ前記切欠部又は孔の部分に
取付用切欠部又は孔が生じるように前記樹脂被覆
体が形成される樹脂封止型半導体装置の製造方法
において、前記一方の主表面側の前記樹脂被覆部
が、前記チツプを被覆する厚い主被覆部分と、前
記支持板の一端部側領域に形成され且つ前記主被
覆部分よりも薄く形成された一端部側領域被覆部
分(例えば第3図又は第13図の被覆部分42)
と、前記一端部側領域被覆部分よりも薄く形成さ
れ且つ前記一端部側領域被覆部分に隣接配置され
た薄い被覆部分とを有するように形成されている
と共に、前記薄い被覆部分を形成するための突出
部が前記支持板の一端近傍に配置された注入孔か
ら注入された封止樹脂の進行を抑制するように設
けられている樹脂封止用型を使用し、前記注入孔
から前記樹脂封止用型の成形空間内の前記封止樹
脂を注入して前記樹脂被覆体を成形することを特
徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法に係わ
るものである。Means for Solving the Problems The present invention for achieving the above object includes a metal support plate formed to have a heat dissipation function and having a notch or hole near one end, and a metal support plate having a notch or hole near one end. a semiconductor chip mounted on one main surface of the
a resin coating part on one main surface side of the support plate, comprising a lead electrically connected to the chip, and an insulating resin coating covering a part of the support plate, the chip, and the leads; The resin coating is formed so that the resin coating is thicker than the resin coating on the other main surface side, and the resin coating is formed so that a mounting notch or hole is formed in the notch or hole. In the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, the resin coating portion on the one main surface side is formed in a thick main coating portion that covers the chip and in a region on one end side of the support plate, and One end region covering portion formed thinner than the covering portion (for example, the covering portion 42 in FIG. 3 or FIG. 13)
and a thin covering portion formed thinner than the one end side area covering portion and disposed adjacent to the one end side area covering portion, and a thin covering portion for forming the thin covering portion. Using a mold for resin sealing, the protruding portion is provided so as to suppress the progress of the sealing resin injected from the injection hole arranged near one end of the support plate, and the resin sealing is performed from the injection hole. The present invention relates to a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, characterized in that the resin coating is molded by injecting the sealing resin into a molding space of a mold.
作 用
本発明によれば、支持板の一端近傍に配置され
た注入孔から注入された封止樹脂の流れは、支持
板の一方の主表面側において一端部側領域被覆部
分に対応した型の突出部と薄い被覆部分に対応し
た突出部との両方によつて抑制される。従つて、
支持板の一方の主表面側と他方の主表面側との封
止樹脂に注入バランスを良好にとることが可能に
なり、良好な樹脂被覆体を得ることができる。Effects According to the present invention, the flow of the sealing resin injected from the injection hole arranged near one end of the support plate flows through the mold corresponding to the one end side region covering portion on one main surface side of the support plate. It is suppressed both by the protrusion and by the protrusion corresponding to the thin coating. Therefore,
It becomes possible to maintain a good injection balance in the sealing resin on one main surface side and the other main surface side of the support plate, and a good resin coating can be obtained.
実施例
次に、第1図〜第11図を参照して本発明の実
施例に係わる樹脂封止型トランジスタ及びその製
造方法について述べる。Embodiment Next, a resin-sealed transistor and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11.
第1図、第2図、及び第3図は完成したトラン
ジスタを示し、第4図はリードフレームにチツプ
を装着した状態を示し、第5図は樹脂封止が完成
したリードフレームを示し、第6図は金型を示
し、第7図〜第10図は金型を使用してトランス
フアー成形法で樹脂被覆体を形成する工程を示
す。 1, 2, and 3 show the completed transistor, FIG. 4 shows the chip attached to the lead frame, FIG. 5 shows the lead frame with resin sealing completed, and FIG. FIG. 6 shows a mold, and FIGS. 7 to 10 show the process of forming a resin coating by transfer molding using the mold.
第1図〜第3図のトランジスタを形成する際に
は、まず、第4図に示すリードフレームと呼ばれ
る半導体装置組立体を用意する。第4図におい
て、21はニツケル被覆銅板から成る放熱支持
板、22a,22b,22cは同じく材料から成
る外部リードで、22aがベースリード、22b
がコレクタリード、22cがエミツタリードであ
る。23はシリコンパワートランジスタチツプ
で、上面にはベース電極及びエミツタ電極が、下
面にはコレクタ電極がそれぞれ形成されている。
このチツプ23は下面において放熱支持板21に
半田(図示せず)により固着されている。24
a,24cはアルミニウム線から成る内部リード
であり、チツプ23のベース電極とベースリード
22aとの間、及びチツプ23のエミツタ電極と
エミツタリード22cとの間に配設されている。
25はジヤンクシヨンコーテイングレジンと呼ば
れるチツプ保護用のシリコン樹脂から成る保護層
である。26はタイバーと呼ばれるリード同志の
連結部である。27はリード端を共通に連結する
連結部である。放熱支持板21の一端部21aに
はU字状の切欠部28が形成されている。なお、
この切欠部28の代りに放熱支持板21に孔を形
成することもよく行われている。第4図にはリー
ドフレームの内1個のパワートランジスタを示し
ているが、実際には単一のリードフレームは多数
のトランジスタを含む。 When forming the transistors shown in FIGS. 1 to 3, first, a semiconductor device assembly called a lead frame shown in FIG. 4 is prepared. In FIG. 4, 21 is a heat dissipation support plate made of a nickel-coated copper plate, 22a, 22b, and 22c are external leads made of the same material, 22a is a base lead, and 22b is an external lead made of the same material.
is the collector lead, and 22c is the emitter lead. A silicon power transistor chip 23 has a base electrode and an emitter electrode formed on its upper surface, and a collector electrode formed on its lower surface.
This chip 23 is fixed to the heat dissipation support plate 21 on the lower surface by solder (not shown). 24
Internal leads a and 24c are made of aluminum wire and are disposed between the base electrode of the chip 23 and the base lead 22a, and between the emitter electrode of the chip 23 and the emitter lead 22c.
25 is a protective layer made of silicone resin for chip protection called juncture coating resin. Reference numeral 26 denotes a connecting portion between the leads called a tie bar. Reference numeral 27 is a connecting portion that commonly connects the lead ends. A U-shaped notch 28 is formed in one end 21a of the heat dissipation support plate 21. In addition,
Instead of the notch 28, holes are often formed in the heat dissipation support plate 21. Although FIG. 4 shows one power transistor in a lead frame, a single lead frame actually contains multiple transistors.
本実施例では、第4図に示すリードフレーム
に、第5図に示す如く樹脂被覆体37を設け、し
かる後、連結部26,27を切り落すことによつ
て第1図〜第3図の樹脂封止型トランジスタを完
成させる。第1図〜第3図から明らかな如く、支
持板21の一方の主表面(上面)側には比較的厚
い樹脂被覆部37aが設けられ、他方の主表面
(下面)側には薄い樹脂被覆部37bが設けられ
ている。上側の樹脂被覆部37aは、チツプ2
3、保護層25、内部リード24a,24cを覆
う最も厚い主被覆部分41と、切欠部28に対応
して設けられた取付孔39の近傍を被覆する取付
孔近傍被覆部分42と、上記主被覆部分41と取
付孔近傍被覆部分42との間にこれ等よりも薄く
形成された薄い被覆部分43とを有する。この結
果、樹脂被覆体37の表面には薄い被覆部分43
に対応して溝38が形成されている。なお、溝3
8は、取付孔39とチツプ23とを結ぶ直線上に
は設けられていない。 In this embodiment, the lead frame shown in FIG. 4 is provided with a resin coating 37 as shown in FIG. Completes resin-sealed transistor. As is clear from FIGS. 1 to 3, a relatively thick resin coating 37a is provided on one main surface (upper surface) of the support plate 21, and a thin resin coating is provided on the other main surface (lower surface). A portion 37b is provided. The upper resin coating portion 37a is
3. The protective layer 25, the thickest main coating portion 41 that covers the internal leads 24a and 24c, the attachment hole vicinity coating portion 42 that covers the vicinity of the attachment hole 39 provided corresponding to the cutout portion 28, and the main coating described above. A thinner covering portion 43 is provided between the portion 41 and the covering portion 42 near the attachment hole. As a result, a thin coating portion 43 is formed on the surface of the resin coating 37.
A groove 38 is formed corresponding to the groove. In addition, groove 3
8 is not provided on a straight line connecting the mounting hole 39 and the chip 23.
第1図〜第3図及び第5図に示す樹脂被覆体3
7は、第6図に示す上部金型29と下部金型30
とを第7図及び第8図に示す如く組み合せ、ここ
に、第9図及び第10図に示す如く樹脂を注入す
ることにより形成する。第6図〜第10図におい
て、31は、上部金型29と下部金型30が型締
めされることによつて形成される空所32に封止
樹脂を圧入するための注入孔である。29aは第
1図に示した取付孔39を形成するために上部金
型29から突出した円柱状ピンで、放熱支持板2
1の切欠部28を貫通している。29bは上部金
型29から突出した仕切り状の突出部であり、第
1図の溝38を形成するものである。なお、仕切
り板の突出部29bはその中央に樹脂の流れを許
す溝35を有している。第4図に示すリードフレ
ームを金型29,30に入れる際には、第6図の
矢印33,34で示すように、上部金型29と下
部金型30とを合せて型締めする。この時、溝3
6aでリード22aを溝36bでリード22bを
溝36cでリード22cをそれぞれ挾持する。こ
の結果、第7図及び第8図に示す如く、金型2
9,30で形成された空所32の中に支持板21
が浮いた状態に配置される。また、第1図〜第3
図に示す樹脂被覆体37を得るために、上部空所
32aが広くなり、下部空所32bが狭くなるよ
うに配置される。しかし、本発明に従つてチツプ
23の上の広い空所32aの入口近傍に樹脂の流
れの強さを抑制するための突出部29bが設けら
れているので、注入孔31から注入した樹脂は狭
い下部空所32bにも比較的良好に浸入する。 Resin coating 3 shown in FIGS. 1 to 3 and 5
7 is an upper mold 29 and a lower mold 30 shown in FIG.
and are combined as shown in FIGS. 7 and 8, and then formed by injecting resin as shown in FIGS. 9 and 10. In FIGS. 6 to 10, reference numeral 31 denotes an injection hole for press-fitting a sealing resin into a cavity 32 formed by clamping the upper mold 29 and the lower mold 30. 29a is a cylindrical pin protruding from the upper mold 29 to form the mounting hole 39 shown in FIG.
It passes through the notch 28 of 1. Reference numeral 29b denotes a partition-shaped protrusion protruding from the upper mold 29, which forms the groove 38 shown in FIG. Note that the protrusion 29b of the partition plate has a groove 35 in the center thereof to allow the resin to flow. When placing the lead frame shown in FIG. 4 into the molds 29 and 30, the upper mold 29 and the lower mold 30 are brought together and clamped together as shown by arrows 33 and 34 in FIG. At this time, groove 3
At 6a, the lead 22a is held by the groove 36b, and the lead 22c is held by the groove 36c. As a result, as shown in FIGS. 7 and 8, the mold 2
The support plate 21 is placed in the space 32 formed by the parts 9 and 30.
is placed in a floating position. Also, Figures 1 to 3
In order to obtain the resin coating 37 shown in the figure, the arrangement is such that the upper cavity 32a is wide and the lower cavity 32b is narrow. However, according to the present invention, a protrusion 29b is provided near the entrance of the wide space 32a above the chip 23 to suppress the strength of the flow of resin, so that the resin injected from the injection hole 31 flows into the narrow space 32a. It also penetrates into the lower cavity 32b relatively well.
空所32に対する樹脂の注入は、公知のトラン
スフアー成型法に基づいて、熱硬化性エポキシ樹
脂ポツト内で軟化させ、加圧して金型29,30
内に注入する。これにより、第7図に示す注入孔
31から液状の樹脂が注入され、空所32の全部
が樹脂で充填される。金型29,30は樹脂を熱
硬化させる温度(150℃〜200℃程度)に加熱され
ているので、充填された樹脂は短時間(数分)の
内に熱硬化し、第9図及び第10図に示す樹脂被
覆体37となる。なお、完全に熱硬化させるため
に、金型29,30からリードフレームを取り出
した後に、更に長時間の熱処理を行う。 The resin is injected into the cavity 32 by softening it in a thermosetting epoxy resin pot and pressurizing it into the molds 29 and 30 based on a known transfer molding method.
Inject inside. As a result, liquid resin is injected from the injection hole 31 shown in FIG. 7, and the entire cavity 32 is filled with the resin. Since the molds 29 and 30 are heated to a temperature that thermosets the resin (approximately 150°C to 200°C), the filled resin is thermosetted within a short time (several minutes), and as shown in Figs. A resin coated body 37 shown in FIG. 10 is obtained. Note that, in order to completely heat cure the lead frame, after the lead frame is taken out from the molds 29 and 30, heat treatment is performed for a longer time.
上述の如きトランスフアー成形法による樹脂被
覆体37の形成において、第6図、第7図及び第
9図で矢印40で示す方向性を有して液状の樹脂
を加圧注入すると、比較的広い上部空所32aに
樹脂が容易に充填されようとする。しかし、本実
施例では、矢印40で示す樹脂の注入方向に交差
するように突出部29bが設けられているので、
樹脂の流れが抑制され、この結果、支持板21の
下側の狭い空所32bにおける樹脂の流れが相対
的に強められる。これにより、上部空所32aと
下部空所32bでの封止の流れのバランスが良く
なり、従来あつた下部空所32bの未充填状態が
ほとんど見られなくなつた。即ち、下部空所32
bに形成される薄い樹脂被覆部37bの絶縁不良
という問題を解決できた。 In forming the resin coating 37 by the transfer molding method as described above, if the liquid resin is injected under pressure in the direction indicated by the arrow 40 in FIGS. 6, 7, and 9, a relatively wide area can be formed. The resin tends to be easily filled into the upper space 32a. However, in this embodiment, the protrusion 29b is provided so as to cross the resin injection direction indicated by the arrow 40.
The flow of the resin is suppressed, and as a result, the flow of the resin in the narrow space 32b below the support plate 21 is relatively strengthened. As a result, the balance between the sealing flow in the upper cavity 32a and the lower cavity 32b is improved, and the unfilled state of the lower cavity 32b, which was conventionally present, is almost no longer observed. That is, the lower space 32
The problem of poor insulation of the thin resin coating portion 37b formed on the portion b can be solved.
上部金型29の突出部29bを、封止樹脂の主
たる流れ方向(矢印40の方向)に直交する仕切
り状に配設することにより、樹脂の流れ効果的に
押えているが、その高さや位置はモールド金型の
取り個数やパツケージの大きさ等によりそれぞれ
最適値が異なる。 By arranging the protrusion 29b of the upper mold 29 in the form of a partition perpendicular to the main flow direction of the sealing resin (direction of arrow 40), the flow of the resin is effectively suppressed. The optimum value differs depending on the number of molds, the size of the package, etc.
なお、注入孔31から見て封止樹脂の主たる流
れ方向にピン29aがあるため、ピン29aも封
止樹脂の流れを押えるように働く。従つて、注入
孔31とピン29aを結ぶラインの延長上であり
且つピン29aの注入孔31と反対側の領域にお
いて封止樹脂の未充填が発生することがある。し
かし、本実施例では、第6図から最も明らかな如
く、ピン29aによつて分割された封止樹脂の流
れが、突出部29bによつて再び抑制されるか
ら、上記のピンaの反対側領域に封止樹脂が回り
込み易くなり、未充填が確実に防止される。さら
に本実施例では、矢印40とピン29aとを結ぶ
直線の延長線上に突出部29bの作用を低減させ
る溝35が設けられており、この溝35がピン2
9aによる封止樹脂の流れの抑制作用を相殺する
ように働くので、上記ピン29aの反対側領域の
未充填を確実に防止することができる。 Note that since the pin 29a is located in the main flow direction of the sealing resin when viewed from the injection hole 31, the pin 29a also acts to suppress the flow of the sealing resin. Therefore, the sealing resin may not be filled in the area on the extension of the line connecting the injection hole 31 and the pin 29a and on the opposite side of the injection hole 31 of the pin 29a. However, in this embodiment, as is most obvious from FIG. 6, the flow of the sealing resin divided by the pin 29a is suppressed again by the protrusion 29b. The sealing resin easily wraps around the area, and unfilling is reliably prevented. Furthermore, in this embodiment, a groove 35 is provided on an extension of the straight line connecting the arrow 40 and the pin 29a, and this groove 35 reduces the effect of the protrusion 29b.
Since it works to offset the effect of suppressing the flow of the sealing resin by the pin 9a, it is possible to reliably prevent the area opposite the pin 29a from being unfilled.
また、支持板21の一端部側領域を被覆してい
る取付孔近傍被覆部分42は、主被覆部分41よ
りも薄く形成されるので、上部金型29の取付孔
近傍被覆部分42を設ける部分と支持板21との
間隙が狭くなり、ここでも樹脂の流れが抑制され
る。従つて、支持板21の一端近傍に配置された
注入孔31から注入孔された樹脂は薄い取付孔近
傍被覆部分43を形成するための金型部分と突出
部29bとの両方によつて抑制され、一方の主表
面側と他方の主表面側との樹脂の流れのバランス
を良好に調整することができる。 Further, since the attachment hole vicinity covering portion 42 covering the region on the one end side of the support plate 21 is formed thinner than the main covering portion 41, it is different from the portion of the upper mold 29 where the attachment hole vicinity covering portion 42 is provided. The gap with the support plate 21 becomes narrower, and the flow of the resin is also suppressed here. Therefore, the resin injected from the injection hole 31 arranged near one end of the support plate 21 is suppressed by both the mold part for forming the thin attachment hole vicinity covering part 43 and the protruding part 29b. , it is possible to satisfactorily adjust the balance of resin flow between one main surface side and the other main surface side.
ところで、第1図〜第3図に示すトランジスタ
取付けは、通常、外部の放熱作用を有する取付板
に下部樹脂被覆部37bを当てるようになし、取
付孔39にネジ又はボルト等の取付部材を貫通さ
せ、これにより取付板に固定することによつて行
う。この様な取付時に、ネジ又はボルト等の頭又
はナツトが取付孔39の近傍を強く押圧すると、
クラツクが生じるので、取付孔39の近傍をあま
り薄くすることは出来ない。このため、本実施例
では、取付孔39の近傍の被覆部分42は取付に
支障がない厚さに形成され、本発明に従う溝38
における薄い被覆部分43は、取付孔39の近傍
の被覆部分42より薄く形成されている。 By the way, when mounting the transistor shown in FIGS. 1 to 3, the lower resin coating 37b is usually placed against a mounting plate that has an external heat dissipation function, and a mounting member such as a screw or bolt is inserted through the mounting hole 39. This is done by fixing it to the mounting plate. During such installation, if the head or nut of a screw or bolt strongly presses the vicinity of the mounting hole 39,
The area near the mounting hole 39 cannot be made too thin because cracks will occur. Therefore, in this embodiment, the covering portion 42 near the mounting hole 39 is formed to a thickness that does not hinder the mounting, and the groove 39 according to the present invention
The thin covering portion 43 in is formed thinner than the covering portion 42 near the attachment hole 39.
変形例
本発明は、上述の実施例に限定されるものでな
く、種々の変形が可能なものである。例えば、第
13図に示す如く、取付孔39を囲む部分に比較
的厚い被覆部分42を円筒状に設け、ここを囲む
ように薄い被覆部分43を設けてもよい。この
際、主被覆部分41は勿論厚く形成する。また、
取付孔39がチツプ23に接近する位置にある場
合には、第6図の注入孔31とピン29との間に
突出部29bを設けてもよい。また、取付孔39
を切欠部(溝又は凹部)としてもよい。また、ダ
イオードにも適用可能である。Modifications The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be modified in various ways. For example, as shown in FIG. 13, a relatively thick covering part 42 may be provided in a cylindrical shape around the attachment hole 39, and a thin covering part 43 may be provided surrounding this part. At this time, the main covering portion 41 is of course formed thick. Also,
When the attachment hole 39 is located close to the chip 23, a protrusion 29b may be provided between the injection hole 31 and the pin 29 in FIG. In addition, the mounting hole 39
may be a notch (groove or recess). It is also applicable to diodes.
発明の効果
上述から明らかな如く、本発明によれば支持板
の一方の主表面側の樹脂被覆部が、チツプを被覆
する厚い主被覆部分と、これよりも薄い一端部側
領域被覆部分と、更に薄い被覆部分とを有するよ
うに型を形成するので、支持板の一方の主表面側
と他方の主表面側との樹脂の流れのバランスを、
薄い一端部側領域被覆部分を形成する型部分と更
に薄い被覆部分を形成するための突出部との両方
によつて調整することが可能になり、樹脂被覆体
の全部を良好に形成することが出来る。Effects of the Invention As is clear from the above, according to the present invention, the resin coating portion on one main surface side of the support plate has a thick main coating portion that covers the chip, a thinner one end area coating portion, and a thick main coating portion that covers the chip. Furthermore, since the mold is formed to have a thinner covering portion, the balance of resin flow between one main surface side and the other main surface side of the support plate can be maintained.
Adjustment can be made by both the mold part forming the thin one end side area covering part and the protrusion part forming an even thinner covering part, and it is possible to form the entire resin covering body well. I can do it.
第1図は本発明の実施例に係わるトランジスタ
を示す斜視図、第2図は第1図のトランジスタの
平面図、第3図は第2図の−線断面図、第4
図は第1図のトランジスタを形成するためのリー
ドフレームを示す斜視図、第5図は第4図のリー
ドフレームに樹脂被覆体を設けた状態を示す斜視
図、第6図は金型を示す斜視図、第7図は金型に
リードフレームを入れた状態を示す第2図の−
線に相当する部分の断面図、第8図は金型にリ
ードフレームを入れた状態を示す第2図の−
線に相当する部分の断面図、第9図、及び第10
図は第7図及び第8図の金型に樹脂を充填した状
態をそれぞれ示す断面図、第11図は従来のトラ
ンジスタを示す斜視図、第12図は第11図のト
ランジスタを形成するために金型にリードフレー
ムを入れて樹脂を充填した状態を示す断面図、第
13図は本発明の変形例を示す斜視図である。
21……放熱支持板、22a,22b,22c
……リード、23……トランジスタチツプ、24
a,24b……内部リード、25……保護層、2
8……切欠部、29……上部金型、29a……ピ
ン、29b……突出部、30……下部金型、31
……注入孔、32……空所、32a……上部空
所、32b……下部空所、37……樹脂被覆体、
37a……一方の樹脂被覆部、37b……他方の
樹脂被覆部、38……溝、39……取付孔、41
……主被覆部分、42……取付孔近傍被覆部分、
43……薄い被覆部分。
1 is a perspective view showing a transistor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the transistor shown in FIG. 1, FIG.
The figure is a perspective view showing a lead frame for forming the transistor shown in Fig. 1, Fig. 5 is a perspective view showing the lead frame shown in Fig. 4 with a resin coating provided, and Fig. 6 shows a mold. The perspective view, Figure 7, is the same as that of Figure 2, which shows the lead frame placed in the mold.
Figure 8 is a cross-sectional view of the part corresponding to the line, and Figure 8 is the - of Figure 2 showing the state where the lead frame is placed in the mold.
Cross-sectional views of the portion corresponding to the line, Figures 9 and 10
The figures are cross-sectional views showing the states in which the molds shown in Figs. 7 and 8 are filled with resin, Fig. 11 is a perspective view showing a conventional transistor, and Fig. 12 is a process for forming the transistor shown in Fig. 11. FIG. 13 is a sectional view showing a state in which a lead frame is placed in a mold and filled with resin, and a perspective view showing a modification of the present invention. 21... Heat radiation support plate, 22a, 22b, 22c
...Lead, 23 ...Transistor chip, 24
a, 24b...internal lead, 25...protective layer, 2
8... Notch, 29... Upper mold, 29a... Pin, 29b... Protrusion, 30... Lower mold, 31
... injection hole, 32 ... void, 32a ... upper space, 32b ... lower space, 37 ... resin coating,
37a... One resin coated part, 37b... Other resin coated part, 38... Groove, 39... Mounting hole, 41
... Main covering part, 42... Covering part near the mounting hole,
43...thin covering part.
Claims (1)
近傍に切欠部又は孔を有している金属製支持板
と、前記支持板の一方の主表面上に装着された半
導体チツプと、前記チツプに電気的に接続された
リードと、前記支持板、前記チツプ及び前記リー
ドの一部を被覆する絶縁性樹脂被覆体とから成
り、且つ前記支持板の一方の主表面側の樹脂被覆
部が他方の主表面側の樹脂被覆部よりも厚くなる
ように前記樹脂被覆体が形成され、且つ前記切欠
部又は孔の部分に取付用切欠部又は孔が生じるよ
うに前記樹脂被覆体が形成される樹脂封止型半導
体装置の製造方法において、 前記一方の主表面側の前記樹脂被覆部が、前記
チツプを被覆する厚い主被覆部分と、前記支持板
の一端部側領域に形成され且つ前記主被覆部分よ
りも薄く形成された一端部側領域被覆部分と、前
記一端部側領域被覆部分よりも薄く形成され且つ
前記一端部側領域被覆部分に隣接配置された薄い
被覆部分とを有するように形成されていると共
に、前記薄い被覆部分を形成するための突出部が
前記支持板の一端近傍に配置された注入孔から注
入された封止樹脂の進行を抑制するように設けら
れている樹脂封止用型を使用し、前記注入孔から
前記樹脂封止用型の成形空間内の前記封止樹脂を
注入して前記樹脂被覆体を成形することを特徴と
する樹脂封止型半導体装置の製造方法。[Scope of Claims] 1. A metal support plate formed to have a heat dissipation function and having a notch or hole near one end, and a semiconductor chip mounted on one main surface of the support plate. , a lead electrically connected to the chip, and an insulating resin coating covering a portion of the support plate, the chip, and the lead, and a resin on one main surface side of the support plate. The resin coating is formed such that the coating portion is thicker than the resin coating portion on the other main surface side, and the resin coating is formed such that a mounting notch or hole is formed in the notch or hole. In the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, the resin coating portion on the one main surface side is formed on a thick main coating portion that covers the chip and a region on one end side of the support plate, and The main covering portion includes a one end region covering portion formed thinner than the main covering portion, and a thin covering portion formed thinner than the one end region covering portion and disposed adjacent to the one end side region covering portion. and a protruding portion for forming the thin covering portion is provided so as to suppress the progress of the sealing resin injected from the injection hole arranged near one end of the support plate. A resin-sealed semiconductor device characterized in that the resin coating is molded by using a sealing mold and injecting the sealing resin into the molding space of the resin-sealing mold from the injection hole. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8942189A JPH01302728A (en) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | Manufacture of plastic sealed type semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8942189A JPH01302728A (en) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | Manufacture of plastic sealed type semiconductor device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59114018A Division JPS60257529A (en) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | Manufacture of resin sealed type semiconductor device |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3124888A Division JPH065687B2 (en) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | Method for manufacturing resin-sealed semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01302728A JPH01302728A (en) | 1989-12-06 |
| JPH0432538B2 true JPH0432538B2 (en) | 1992-05-29 |
Family
ID=13970195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8942189A Granted JPH01302728A (en) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | Manufacture of plastic sealed type semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01302728A (en) |
-
1989
- 1989-04-07 JP JP8942189A patent/JPH01302728A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01302728A (en) | 1989-12-06 |
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