JPH0432575A - 無電解金メッキ浴 - Google Patents
無電解金メッキ浴Info
- Publication number
- JPH0432575A JPH0432575A JP13716790A JP13716790A JPH0432575A JP H0432575 A JPH0432575 A JP H0432575A JP 13716790 A JP13716790 A JP 13716790A JP 13716790 A JP13716790 A JP 13716790A JP H0432575 A JPH0432575 A JP H0432575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gold
- plating bath
- thiourea
- gold plating
- electroless
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は無電解金メッキ浴に関する。
〈従来の技術〉
従来より、無電解メッキは、外部電源によらずメッキ浴
中に含まれる還元剤によって金属イオンを析出させるた
め、電気的に独立した部分や複雑な形状へのメッキが可
能で、メッキ作業のオートメーション化等を容易に行な
えることから機能メッキとして適している。この無電解
メッキのうち、金を無電解メッキするための浴としては
、シアン化金カリウムを用いるのが一般的だが、亜硫酸
金を用いるノーシアンの無電解浴も一部報告されている
。亜硫酸金を用いた無電解浴における、金を析出させる
ための還元剤としては、いくつかのものが発表されてい
るが、その1つとして最近ではチオ尿素が好適であると
の報告がなされている(特開昭62−270779号公
報参照)。
中に含まれる還元剤によって金属イオンを析出させるた
め、電気的に独立した部分や複雑な形状へのメッキが可
能で、メッキ作業のオートメーション化等を容易に行な
えることから機能メッキとして適している。この無電解
メッキのうち、金を無電解メッキするための浴としては
、シアン化金カリウムを用いるのが一般的だが、亜硫酸
金を用いるノーシアンの無電解浴も一部報告されている
。亜硫酸金を用いた無電解浴における、金を析出させる
ための還元剤としては、いくつかのものが発表されてい
るが、その1つとして最近ではチオ尿素が好適であると
の報告がなされている(特開昭62−270779号公
報参照)。
〈発明が解決しようとする課題〉
還元剤としてチオ尿素を用いるこの無電解金メッキ浴は
、析出物にクラックやピンホールなどが発生しないとい
う利点がある反面、析出速度が遅く、浴の分解が早いと
いう欠点があった。
、析出物にクラックやピンホールなどが発生しないとい
う利点がある反面、析出速度が遅く、浴の分解が早いと
いう欠点があった。
この発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたも
のであり、前記の如き利点は維持したまま、欠点だけを
解消することができる無電解金メッキ浴を提供せんとす
るものである。
のであり、前記の如き利点は維持したまま、欠点だけを
解消することができる無電解金メッキ浴を提供せんとす
るものである。
〈課題を解決するための手段〉
この発明に係る無電解金メッキ浴は、上記の目的を達成
するために、チオ尿素とメチルチオ尿素の両方を還元剤
として採用したものである。
するために、チオ尿素とメチルチオ尿素の両方を還元剤
として採用したものである。
く実 施 例〉
還元剤としてチオ尿素とメチルチオ尿素の両方を用いた
表1の如き組成の本発明の無電解金メッキ浴で、全析出
速度に関する実験を行った。すなわち、表1において還
元剤であるチオ尿素とメチルチオ尿素のモル比を6つの
サンプリングに分けて変化させ、析出速度と析出被膜の
表面状態を調べた。このとき、チオ尿素とメチルチオ尿
素のモル濃度の合計を0.0328 mol/100m
1とし、pHは塩酸により9に調整した。
表1の如き組成の本発明の無電解金メッキ浴で、全析出
速度に関する実験を行った。すなわち、表1において還
元剤であるチオ尿素とメチルチオ尿素のモル比を6つの
サンプリングに分けて変化させ、析出速度と析出被膜の
表面状態を調べた。このとき、チオ尿素とメチルチオ尿
素のモル濃度の合計を0.0328 mol/100m
1とし、pHは塩酸により9に調整した。
表1
操作条件
テストピース: 30X 10X0.3mmの銅板前
処 理:電解脱脂処理及び10%硝酸溶液によるエツチ
ング処理 メッキ温度 :40°C 析出膜厚測定:蛍光X線微量膜厚測定装置で測定この発
明に係るチオ尿素−メチルチオ尿素混合還元浴における
析出速度の関係を第1図に示した。
処 理:電解脱脂処理及び10%硝酸溶液によるエツチ
ング処理 メッキ温度 :40°C 析出膜厚測定:蛍光X線微量膜厚測定装置で測定この発
明に係るチオ尿素−メチルチオ尿素混合還元浴における
析出速度の関係を第1図に示した。
これより、メチルチオ尿素のモル濃度が高くなるにつれ
て析出速度も速くなることがわかる。そして、得られた
全析出物の表面を、電子顕微鏡にて観察したが、ピンホ
ールやクラック等は全く見られなかった。更に、浴も安
定しており、早期に分解するようなことはなかった。
て析出速度も速くなることがわかる。そして、得られた
全析出物の表面を、電子顕微鏡にて観察したが、ピンホ
ールやクラック等は全く見られなかった。更に、浴も安
定しており、早期に分解するようなことはなかった。
〈発明の効果〉
この発明に係る無電解金メッキ浴は、以上説明してきた
如き内容のものなので、還元剤としてチオ尿素とメチル
チオ尿素の両方を用いることで、クラックやピンホール
などが発生しないというチオ尿素の利点を維持したまま
、従来の欠点であった浴の安定性や析出速度を改善する
ことができる。
如き内容のものなので、還元剤としてチオ尿素とメチル
チオ尿素の両方を用いることで、クラックやピンホール
などが発生しないというチオ尿素の利点を維持したまま
、従来の欠点であった浴の安定性や析出速度を改善する
ことができる。
第1図はチオ尿素とメチルチオ尿素のモル比と析出速度
との関係を示すグラフである。 第1図 メチルチオ尿素の1度(IIol/100m1)−m−
チオ尿素の濃度(sol/l00m1)サンブリノブ番
号
との関係を示すグラフである。 第1図 メチルチオ尿素の1度(IIol/100m1)−m−
チオ尿素の濃度(sol/l00m1)サンブリノブ番
号
Claims (1)
- 金として亜硫酸金を、還元剤としてチオ尿素とメチルチ
オ尿素の両方を、少なくとも含んで成る無電解金メッキ
浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13716790A JPH0432575A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 無電解金メッキ浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13716790A JPH0432575A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 無電解金メッキ浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432575A true JPH0432575A (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=15192388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13716790A Pending JPH0432575A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 無電解金メッキ浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0432575A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6235093B1 (en) * | 1998-07-13 | 2001-05-22 | Daiwa Fine Chemicals Co., Ltd. | Aqueous solutions for obtaining noble metals by chemical reductive deposition |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01268876A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Ltd | 無電解金めっき液とそれを用いた金めっき方法とそれを用いて金めっきされた電子装置 |
| JPH0293091A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-03 | Hitachi Ltd | 無電解金めっき液 |
-
1990
- 1990-05-29 JP JP13716790A patent/JPH0432575A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01268876A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Ltd | 無電解金めっき液とそれを用いた金めっき方法とそれを用いて金めっきされた電子装置 |
| JPH0293091A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-03 | Hitachi Ltd | 無電解金めっき液 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6235093B1 (en) * | 1998-07-13 | 2001-05-22 | Daiwa Fine Chemicals Co., Ltd. | Aqueous solutions for obtaining noble metals by chemical reductive deposition |
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