JPH04326548A - ウエハ定量汚染治具 - Google Patents
ウエハ定量汚染治具Info
- Publication number
- JPH04326548A JPH04326548A JP3125127A JP12512791A JPH04326548A JP H04326548 A JPH04326548 A JP H04326548A JP 3125127 A JP3125127 A JP 3125127A JP 12512791 A JP12512791 A JP 12512791A JP H04326548 A JPH04326548 A JP H04326548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- jig
- stage
- lid
- contamination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路装置に用いら
れるウエハの表面の汚染度を評価するために、故意にウ
エハを汚染させる治具に関する。
れるウエハの表面の汚染度を評価するために、故意にウ
エハを汚染させる治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエハの検査の１つに、ウエハを故意に
汚染して、その汚染の度合いを全反射蛍光Ｘ線分析法で
分析するものがある。かかる全反射蛍光Ｘ線分析法の試
料のウエハの故意の汚染は、図６に示すように、所定の
濃度の元素を含んだ溶液をウエハ６０の略中央に滴下し
、当該ウエハ６０をスピンナー６１で回転させることよ
り、溶液をウエハの全面にわたって均一に塗布し、それ
を乾燥させることで行われている。
汚染して、その汚染の度合いを全反射蛍光Ｘ線分析法で
分析するものがある。かかる全反射蛍光Ｘ線分析法の試
料のウエハの故意の汚染は、図６に示すように、所定の
濃度の元素を含んだ溶液をウエハ６０の略中央に滴下し
、当該ウエハ６０をスピンナー６１で回転させることよ
り、溶液をウエハの全面にわたって均一に塗布し、それ
を乾燥させることで行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法には、以下のような問題点がある。すなわ
ち、ウエハの全面を均一に汚染するためには、スピンナ
ーの回転数や溶液の滴下量等の条件が非常に厳密なため
、熟練者でなければ均一な汚染は難しい。また、溶液の
濃度、溶液に含まれる元素によって、複数枚のウエハを
汚染させなければならない。さらに、乾燥時に周囲の雰
囲気の影響を受けやすい。
た従来の方法には、以下のような問題点がある。すなわ
ち、ウエハの全面を均一に汚染するためには、スピンナ
ーの回転数や溶液の滴下量等の条件が非常に厳密なため
、熟練者でなければ均一な汚染は難しい。また、溶液の
濃度、溶液に含まれる元素によって、複数枚のウエハを
汚染させなければならない。さらに、乾燥時に周囲の雰
囲気の影響を受けやすい。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、初心者であっても容易にウエハを汚染することがで
き、しかも少ないウエハで多数種類の溶液に対応するこ
とができ、乾燥時に周囲の雰囲気の影響を受けることが
ないウエハ定量汚染治具を提供することを目的としてい
る。
で、初心者であっても容易にウエハを汚染することがで
き、しかも少ないウエハで多数種類の溶液に対応するこ
とができ、乾燥時に周囲の雰囲気の影響を受けることが
ないウエハ定量汚染治具を提供することを目的としてい
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係るウエハ定量
汚染治具は、ウエハを定位置に固定するステージと、こ
のステージを収納する箱体とを有しており、前記箱体の
蓋体には汚染溶液を滴下する滴下治具を挿入する開口が
開設されている。
汚染治具は、ウエハを定位置に固定するステージと、こ
のステージを収納する箱体とを有しており、前記箱体の
蓋体には汚染溶液を滴下する滴下治具を挿入する開口が
開設されている。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係るウエハ定量汚
染治具の概略的平面図、図２はこのウエハ定量汚染治具
の概略的断面図、図３はステージの斜視図、図４は蓋体
の開口を示す断面図、図５は蓋体とウエハとの間の距離
を一定にするための手段を示す説明図である。
染治具の概略的平面図、図２はこのウエハ定量汚染治具
の概略的断面図、図３はステージの斜視図、図４は蓋体
の開口を示す断面図、図５は蓋体とウエハとの間の距離
を一定にするための手段を示す説明図である。
【０００７】本実施例に係るウエハ定量汚染治具は、ウ
エハを定位置に固定するステージ１０と、このステージ
１０を収納する箱体２０とを有しており、前記箱体２０
の蓋体２１には汚染溶液を滴下する滴下治具たるピペッ
ト３０のチップ３１を挿入する開口２１１ が開設され
ている。
エハを定位置に固定するステージ１０と、このステージ
１０を収納する箱体２０とを有しており、前記箱体２０
の蓋体２１には汚染溶液を滴下する滴下治具たるピペッ
ト３０のチップ３１を挿入する開口２１１ が開設され
ている。
【０００８】ステージ１０は、図３に示すように、４種
類のウエハ、すなわち４インチ、５インチ、６インチ及
び８インチのウエハが固定される４つの段差、つまり４
インチ用段差１１、５インチ用段差１２、６インチ用段
差１３及び８インチ用段差１４が内側から外側に向かっ
て略擂鉢状、かつ同心円状に形成されている。また、当
該ステージ１０には、ウエハを定位置に固定するために
、ファセットを掴んだピンセット等が入るための切込部
１５が外縁部から中心部に向かって切り込まれている。 なお、かかるステージ１０はテフロンで形成されている
。
類のウエハ、すなわち４インチ、５インチ、６インチ及
び８インチのウエハが固定される４つの段差、つまり４
インチ用段差１１、５インチ用段差１２、６インチ用段
差１３及び８インチ用段差１４が内側から外側に向かっ
て略擂鉢状、かつ同心円状に形成されている。また、当
該ステージ１０には、ウエハを定位置に固定するために
、ファセットを掴んだピンセット等が入るための切込部
１５が外縁部から中心部に向かって切り込まれている。 なお、かかるステージ１０はテフロンで形成されている
。
【０００９】箱体２０は、前記ステージ１０が収められ
る本体２２と、この本体２２に取り付けられる蓋体２１
とを有している。蓋体２１は、平面視コ字形状の溝２１
３（図１では破線で示している） が裏面に形成されて
おり、当該溝２１３ が本体２２の縦壁２２１に嵌まり
込むことによって、蓋体２１が本体２２に対して常に一
定の位置に定位するようになっている。
る本体２２と、この本体２２に取り付けられる蓋体２１
とを有している。蓋体２１は、平面視コ字形状の溝２１
３（図１では破線で示している） が裏面に形成されて
おり、当該溝２１３ が本体２２の縦壁２２１に嵌まり
込むことによって、蓋体２１が本体２２に対して常に一
定の位置に定位するようになっている。
【００１０】また、かかる蓋体２１には、複数個 （図
面では１４個） の開口２１１ が開設されている。こ
の開口２１１ は、ピペット３０のチップ３１が挿入さ
れる部分であって、図４に示すようにチップ３１が常に
一定の深さしか挿入できず、しかもぐらつかないように
、ピペット３０のチップ３１に対応した先細り状になっ
ている。かかる開口２１１ は、ステージ１０に固定さ
れたウエハに対して常に一定の位置になるように設定さ
れている。なお、開口２１１ の間は隣接した開口２１
１ から滴下される溶液の影響を受けないように、例え
ば互いに２０ｍｍの間隔をもって開設されているものと
する。また、前記開口２１１ は、ウエハの汚染度を分
析する全反射蛍光Ｘ線分析装置の分析位置と一致するよ
うに設定されている。
面では１４個） の開口２１１ が開設されている。こ
の開口２１１ は、ピペット３０のチップ３１が挿入さ
れる部分であって、図４に示すようにチップ３１が常に
一定の深さしか挿入できず、しかもぐらつかないように
、ピペット３０のチップ３１に対応した先細り状になっ
ている。かかる開口２１１ は、ステージ１０に固定さ
れたウエハに対して常に一定の位置になるように設定さ
れている。なお、開口２１１ の間は隣接した開口２１
１ から滴下される溶液の影響を受けないように、例え
ば互いに２０ｍｍの間隔をもって開設されているものと
する。また、前記開口２１１ は、ウエハの汚染度を分
析する全反射蛍光Ｘ線分析装置の分析位置と一致するよ
うに設定されている。
【００１１】一方、本体２２の底面にはステージ１０が
載置される載置台４０が交換可能に設けられている。こ
の載置台４０は、ウエハのサイズに関わらず、蓋体２１
とウエハとの間の距離を一定とするものである。すなわ
ち、ウエハのサイズによって蓋体２１とウエハとの間の
距離が異なると、滴下された溶液の大きさが一定になら
ず、分析に悪影響を及ぼすことがあるため、常に滴下さ
れた溶液の大きさが一定になるようにするためである。 従って、この載置台４０は、上述したように４つの段差
１１〜１４を有するステージ１０も用いるならば、４種
類の高さを有するものが用意されなければならない。
載置される載置台４０が交換可能に設けられている。こ
の載置台４０は、ウエハのサイズに関わらず、蓋体２１
とウエハとの間の距離を一定とするものである。すなわ
ち、ウエハのサイズによって蓋体２１とウエハとの間の
距離が異なると、滴下された溶液の大きさが一定になら
ず、分析に悪影響を及ぼすことがあるため、常に滴下さ
れた溶液の大きさが一定になるようにするためである。 従って、この載置台４０は、上述したように４つの段差
１１〜１４を有するステージ１０も用いるならば、４種
類の高さを有するものが用意されなければならない。
【００１２】なお、図示は省略しているが、箱体２０を
水平にセットすることができるように、箱体２０の適宜
な箇所に水平器を設けておいてもよい。
水平にセットすることができるように、箱体２０の適宜
な箇所に水平器を設けておいてもよい。
【００１３】次に、かかるウエハ定量汚染治具の使用例
について説明する。汚染すべきウエハのサイズに対応し
た載置台４０を本体２２の底面にセットし、当該載置台
４０にステージ１０を載置する。
について説明する。汚染すべきウエハのサイズに対応し
た載置台４０を本体２２の底面にセットし、当該載置台
４０にステージ１０を載置する。
【００１４】箱体２０の蓋体２１を開けて、ウエハをス
テージ１０の段差に固定する。そして、蓋体２１を正確
に閉める。蓋体２１の開口２１１ にピペット３０のチ
ップ３１を挿入し、所定量の溶液をウエハに滴下する。 異なる濃度、元素の溶液を滴下し終わったならば、約６
時間放置して自然乾燥を行う。なお、より早く乾燥させ
たい場合には、赤外線ランプを使用するとよい。
テージ１０の段差に固定する。そして、蓋体２１を正確
に閉める。蓋体２１の開口２１１ にピペット３０のチ
ップ３１を挿入し、所定量の溶液をウエハに滴下する。 異なる濃度、元素の溶液を滴下し終わったならば、約６
時間放置して自然乾燥を行う。なお、より早く乾燥させ
たい場合には、赤外線ランプを使用するとよい。
【００１５】乾燥が完了したウエハを全反射蛍光Ｘ線分
析装置にセットして分析を行う。
析装置にセットして分析を行う。
【００１６】なお、上述した実施例では、載置台４０を
交換することにより、ウエハのサイズに関わらず蓋体２
１とウエハとの間の距離が一定になるようにしたが、本
発明がこれに限定されるわけではない。例えば、載置台
４０の換わりに箱体２０の本体２２の底面に昇降可能な
昇降体を設け、この昇降体を昇降させることによって蓋
体２１とウエハとの間の距離が一定になるようにしても
よい。さらに、蓋体２１を交換することによって蓋体２
１とウエハとの間の距離が一定になるようにしてもよい
。すなわち、図５に示すように、蓋体２１の中央部に凹
設部２１２ を形成し、当該凹設部２１２に開口２１１
を開設するようにし、凹設部２１２ の寸法をウエハ
のサイズによって異なるようにすれば、蓋体２１とウエ
ハとの間の距離を一定にすることができる。
交換することにより、ウエハのサイズに関わらず蓋体２
１とウエハとの間の距離が一定になるようにしたが、本
発明がこれに限定されるわけではない。例えば、載置台
４０の換わりに箱体２０の本体２２の底面に昇降可能な
昇降体を設け、この昇降体を昇降させることによって蓋
体２１とウエハとの間の距離が一定になるようにしても
よい。さらに、蓋体２１を交換することによって蓋体２
１とウエハとの間の距離が一定になるようにしてもよい
。すなわち、図５に示すように、蓋体２１の中央部に凹
設部２１２ を形成し、当該凹設部２１２に開口２１１
を開設するようにし、凹設部２１２ の寸法をウエハ
のサイズによって異なるようにすれば、蓋体２１とウエ
ハとの間の距離を一定にすることができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明に係るウエハ定量汚染治具は、ウ
エハを定位置に固定するステージと、このステージを収
納する箱体とを有しており、前記箱体の蓋体には汚染溶
液を滴下する滴下治具を挿入する開口が開設されている
ので、初心者であっても開口に滴下治具の先端を挿入す
ることによって所定濃度の元素を含んだ溶液をウエハに
一定量だけ正確に滴下することができる。また、ウエハ
は蓋体で閉じられているので、乾燥時に周囲の雰囲気の
悪影響を受けることがない。
エハを定位置に固定するステージと、このステージを収
納する箱体とを有しており、前記箱体の蓋体には汚染溶
液を滴下する滴下治具を挿入する開口が開設されている
ので、初心者であっても開口に滴下治具の先端を挿入す
ることによって所定濃度の元素を含んだ溶液をウエハに
一定量だけ正確に滴下することができる。また、ウエハ
は蓋体で閉じられているので、乾燥時に周囲の雰囲気の
悪影響を受けることがない。
【００１８】さらに、開口は分析装置の分析位置と一致
する箇所に開設されているので、１枚のウエハであって
も複数箇所の測定を容易に行うことができる。
する箇所に開設されているので、１枚のウエハであって
も複数箇所の測定を容易に行うことができる。
【図１】本発明の一実施例に係るウエハ定量汚染治具の
概略的平面図である。
概略的平面図である。
【図２】このウエハ定量汚染治具の概略的断面図である
。
。
【図３】ステージの斜視図である。
【図４】蓋体の開口を示す断面図である。
【図５】蓋体とウエハとの間の距離を一定にするための
手段を示す説明図である。
手段を示す説明図である。
【図６】ウエハを均一に汚染するための従来の説明図で
ある。
ある。
１０ ステージ
２０ 箱体
２１ 蓋体
２１１ （蓋体の） 開口
３０ ピペット （滴下治具）
Claims (4)
- 【請求項１】 ウエハを定位置に固定するステージと
、このステージを収納する箱体とを有しており、前記箱
体の蓋体には汚染溶液を滴下する滴下治具を挿入する開
口が開設されていることを特徴とするウエハ定量汚染治
具。 - 【請求項２】 前記開口は測定装置の分析位置に一致
していることを特徴とする請求項１記載のウエハ定量汚
染治具。 - 【請求項３】 前記ステージは、複数のサイズのウエ
ハに対応する複数の段差が擂鉢状に形成されていること
を特徴とする請求項１記載のウエハ定量汚染治具。 - 【請求項４】 前記蓋体とウエハとの間の距離は、ウ
エハのサイズに関わらず一定であることを特徴とする請
求項１記載のウエハ定量汚染治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3125127A JPH04326548A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | ウエハ定量汚染治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3125127A JPH04326548A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | ウエハ定量汚染治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04326548A true JPH04326548A (ja) | 1992-11-16 |
Family
ID=14902520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3125127A Pending JPH04326548A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | ウエハ定量汚染治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04326548A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010537171A (ja) * | 2007-08-16 | 2010-12-02 | カルデラ・ファーマシューティカルズ・インコーポレーテッド | ウェルプレート |
| JP2016184711A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウエハの検査装置および半導体ウエハの自動検査方法 |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP3125127A patent/JPH04326548A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010537171A (ja) * | 2007-08-16 | 2010-12-02 | カルデラ・ファーマシューティカルズ・インコーポレーテッド | ウェルプレート |
| JP2016184711A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウエハの検査装置および半導体ウエハの自動検査方法 |
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