JPH04331333A - 波長変化測定装置 - Google Patents
波長変化測定装置Info
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- JPH04331333A JPH04331333A JP3130614A JP13061491A JPH04331333A JP H04331333 A JPH04331333 A JP H04331333A JP 3130614 A JP3130614 A JP 3130614A JP 13061491 A JP13061491 A JP 13061491A JP H04331333 A JPH04331333 A JP H04331333A
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- light
- wavelength
- measurement
- optical path
- beat signal
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0246—Measuring optical wavelength
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J2009/0207—Double frequency, e.g. Zeeman
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/04—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by beating two waves of a same source but of different frequency and measuring the phase shift of the lower frequency obtained
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばレーザ光源から
の発振波長の変化を測定する波長変化測定装置に関し、
特にレーザ光の波長を基準として被測定物体の長さ、形
状、速度、屈折率等の物理量を測定する際の干渉装置に
適用したときに好適な波長変化測定装置に関するもので
ある。
の発振波長の変化を測定する波長変化測定装置に関し、
特にレーザ光の波長を基準として被測定物体の長さ、形
状、速度、屈折率等の物理量を測定する際の干渉装置に
適用したときに好適な波長変化測定装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来よりレンズ、ミラー等の光学部材の
長さや形状等を光波干渉を利用して比較的高精度に検出
することができる干渉装置として光ヘテロダイン干渉装
置が知られている。
長さや形状等を光波干渉を利用して比較的高精度に検出
することができる干渉装置として光ヘテロダイン干渉装
置が知られている。
【0003】図5はレーザ光源とAO変調器を利用した
従来の光ヘテロダイン干渉装置の要部概略図である。
従来の光ヘテロダイン干渉装置の要部概略図である。
【0004】同図においてレーザ光源51から出射した
レーザ光(周波数f0 )は偏光ビームスプリッター5
2で2つの光束に分割している。そして分割した2つの
光束の光路中に各々配置したAO変調器53,54によ
り入射光束の周波数シフトを行う。これにより周波数f
0 +f1 と周波数f0 +f2 の2つの光束を得
ている。そして周波数シフトを行った2つの光束を偏光
ビームスプリッター56で合成し、これにより僅かに周
波数の異なる2つの光束を含む光ヘテロダイン測定用の
光束としてミラー55を介して被測定物体に導光するよ
うにしている。
レーザ光(周波数f0 )は偏光ビームスプリッター5
2で2つの光束に分割している。そして分割した2つの
光束の光路中に各々配置したAO変調器53,54によ
り入射光束の周波数シフトを行う。これにより周波数f
0 +f1 と周波数f0 +f2 の2つの光束を得
ている。そして周波数シフトを行った2つの光束を偏光
ビームスプリッター56で合成し、これにより僅かに周
波数の異なる2つの光束を含む光ヘテロダイン測定用の
光束としてミラー55を介して被測定物体に導光するよ
うにしている。
【0005】又、光波干渉としては光源手段からの発振
波長の変動が測定精度に大きく影響してくる。この為、
発振波長の安定化を図ることが重要となっている。
波長の変動が測定精度に大きく影響してくる。この為、
発振波長の安定化を図ることが重要となっている。
【0006】図6は米国特許第4907886号で提案
しているレーザ光源からのレーザ光の発振波長の安定化
を図った干渉装置の要部ブロック図である。
しているレーザ光源からのレーザ光の発振波長の安定化
を図った干渉装置の要部ブロック図である。
【0007】同図では1つのレーザ光源70からのレー
ザ光を光分割器73で2つの光束に分割している。そし
て2つの光束を並列に配置した2つの干渉計71,72
に入射させている。このうち一方の干渉計72を基準干
渉計として位相部75からの出力の位相変化をレーザ光
源70にフィードバックしている。これによりレーザ光
源70からの発振波長を安定化させて他方の干渉計71
に入射するレーザ光の波長を安定化している。
ザ光を光分割器73で2つの光束に分割している。そし
て2つの光束を並列に配置した2つの干渉計71,72
に入射させている。このうち一方の干渉計72を基準干
渉計として位相部75からの出力の位相変化をレーザ光
源70にフィードバックしている。これによりレーザ光
源70からの発振波長を安定化させて他方の干渉計71
に入射するレーザ光の波長を安定化している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図5の光ヘテロダイン
干渉装置ではレーザ光源自身の発振波長は安定であるこ
とが前提である。この為レーザ光の波長を基準とする精
密測定にはレーザ光源自体に波長安定化の機能を持たせ
る必要があった。
干渉装置ではレーザ光源自身の発振波長は安定であるこ
とが前提である。この為レーザ光の波長を基準とする精
密測定にはレーザ光源自体に波長安定化の機能を持たせ
る必要があった。
【0009】特にレーザ光源として半導体レーザを用い
る場合には高精度な温度制御装置やエタロンのような高
価な光学素子を用いて制御する必要があった。この為光
源部が大型化し、又複雑化してくるという問題点があっ
た。
る場合には高精度な温度制御装置やエタロンのような高
価な光学素子を用いて制御する必要があった。この為光
源部が大型化し、又複雑化してくるという問題点があっ
た。
【0010】又、図6に示す干渉装置ではレーザ光源か
らの発振波長の安定化の為に専用の基準干渉計を必要と
する為、やはり装置全体が大型化及び複雑化してくると
いう問題点があった。
らの発振波長の安定化の為に専用の基準干渉計を必要と
する為、やはり装置全体が大型化及び複雑化してくると
いう問題点があった。
【0011】本発明は少なくとも一方の光束に周波数シ
フトを与えた2つの光束間に所定の光路長差を付与した
後に該2つの光束を合成し、このうちの一部の光束を波
長安定化の為のフィードバック制御用として、又は測定
誤差補正用として用いることにより波長安定化の為の専
用干渉計を用いずに波長安定化用の信号又は波長変化に
よる測定データ補正信号が容易に得られ高精度な光波干
渉が可能な干渉装置に好適な波長変化測定装置の提供を
目的とする。
フトを与えた2つの光束間に所定の光路長差を付与した
後に該2つの光束を合成し、このうちの一部の光束を波
長安定化の為のフィードバック制御用として、又は測定
誤差補正用として用いることにより波長安定化の為の専
用干渉計を用いずに波長安定化用の信号又は波長変化に
よる測定データ補正信号が容易に得られ高精度な光波干
渉が可能な干渉装置に好適な波長変化測定装置の提供を
目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の波長変化測定装
置は、発振波長が制御可能な光源手段からの光束を光分
割器で2つの光束に分割し、該2つの光束に光路長差付
与手段を介して、所定の光路長差を付与した後に光合成
器で合成し、該合成した光の一部を検出光、残りを測定
光とし、該検出光より光電検出器でビート信号を検出し
、該ビート信号を用いて該光源手段にフィードバック制
御をして発振波長を安定化させると共に該測定光を被測
定物体に導光するようにしたこと、又は、該ビート信号
を測定データ補正信号として、該測定光を被測定物体へ
導光して得られる測定データを補正するようにしたこと
を特徴としている。
置は、発振波長が制御可能な光源手段からの光束を光分
割器で2つの光束に分割し、該2つの光束に光路長差付
与手段を介して、所定の光路長差を付与した後に光合成
器で合成し、該合成した光の一部を検出光、残りを測定
光とし、該検出光より光電検出器でビート信号を検出し
、該ビート信号を用いて該光源手段にフィードバック制
御をして発振波長を安定化させると共に該測定光を被測
定物体に導光するようにしたこと、又は、該ビート信号
を測定データ補正信号として、該測定光を被測定物体へ
導光して得られる測定データを補正するようにしたこと
を特徴としている。
【0013】
【実施例】図1は、本発明を光波干渉装置に適用したと
きの実施例1の要部概略図である。尚、本実施例では被
測定物としてミラー11の移動量を測定する場合を示し
ている。
きの実施例1の要部概略図である。尚、本実施例では被
測定物としてミラー11の移動量を測定する場合を示し
ている。
【0014】図中1は光源手段であり、発振波長が制御
可能な、例えば半導体レーザ(波長λ0 、周波数f0
)から成っている。光源手段1からは紙面に対して4
5度に傾いた直線偏光を発振している。2は光分割器で
あり、偏光ビームスプリッターから成り、光源手段1か
らの入射光束を互いに直交する2つの直線偏光に分割し
ている。このうち光分割器2を通過した光束はAO変調
器14aに、光分割器2で反射した光束はミラー5bを
介してAO変調器14bに入射させている。
可能な、例えば半導体レーザ(波長λ0 、周波数f0
)から成っている。光源手段1からは紙面に対して4
5度に傾いた直線偏光を発振している。2は光分割器で
あり、偏光ビームスプリッターから成り、光源手段1か
らの入射光束を互いに直交する2つの直線偏光に分割し
ている。このうち光分割器2を通過した光束はAO変調
器14aに、光分割器2で反射した光束はミラー5bを
介してAO変調器14bに入射させている。
【0015】AO変調器14aでは、高安定発振器15
aからキャリア信号を受け、入射光に対して周波数f1
のシフトを与えて、周波数f0+f1 の光を射出さ
せている。AO変調器14bでは高安定発振器15bか
らキャリア信号を受け、入射光に対して周波数f2 の
シフトを与えて周波数f0 +f2 の光を射出させて
いる。AO変調器14aからの光は光路長差付与手段と
しての2つのプリズム反射鏡3,4を介し、所定の光路
を通過させた後ミラー5aを介して光合成器6としての
光偏光ビームスプリッターに導光している。
aからキャリア信号を受け、入射光に対して周波数f1
のシフトを与えて、周波数f0+f1 の光を射出さ
せている。AO変調器14bでは高安定発振器15bか
らキャリア信号を受け、入射光に対して周波数f2 の
シフトを与えて周波数f0 +f2 の光を射出させて
いる。AO変調器14aからの光は光路長差付与手段と
しての2つのプリズム反射鏡3,4を介し、所定の光路
を通過させた後ミラー5aを介して光合成器6としての
光偏光ビームスプリッターに導光している。
【0016】一方、AO変調器14bからの光はそのま
ま光合成器6に入射させ、これにより2つの光束を合成
している。このとき光合成器6から射出する光束は周波
数f0 +f1 と周波数f0 +f2 の2種類の周
波数を有した互いに直交する直線偏光となっている。
ま光合成器6に入射させ、これにより2つの光束を合成
している。このとき光合成器6から射出する光束は周波
数f0 +f1 と周波数f0 +f2 の2種類の周
波数を有した互いに直交する直線偏光となっている。
【0017】16はRFミクサ回路であり、高周波信号
同志の差周波数を取り出して後述する位相計17a,1
7b等に送信している。
同志の差周波数を取り出して後述する位相計17a,1
7b等に送信している。
【0018】光合成器6からの光束の一部を検出光とし
て非偏光ビームスプリッター7で反射分割し、45度方
位の偏光板12aを介して2つの直交する直線偏光を円
偏光に変換した後に互いに干渉させて、該干渉光を光電
検出器としてのフォトディテクタ13aで検出している
。
て非偏光ビームスプリッター7で反射分割し、45度方
位の偏光板12aを介して2つの直交する直線偏光を円
偏光に変換した後に互いに干渉させて、該干渉光を光電
検出器としてのフォトディテクタ13aで検出している
。
【0019】このときのフォトディテクタ13aで第1
のビート信号を得ている。又、このとき得たビート信号
は後述する測定シークェンスで説明する様に光源手段1
からの発振波長の変化に基づいた情報を含んでいる。そ
してフォトディテクタ13aからの信号は位相計17a
により、2つの同期信号の位相差を検出し、その結果を
レーザコントローラ21に送信している。レーザコント
ローラ21は半導体レーザ1への注入電流をコントロー
ルして発振波長を制御している。
のビート信号を得ている。又、このとき得たビート信号
は後述する測定シークェンスで説明する様に光源手段1
からの発振波長の変化に基づいた情報を含んでいる。そ
してフォトディテクタ13aからの信号は位相計17a
により、2つの同期信号の位相差を検出し、その結果を
レーザコントローラ21に送信している。レーザコント
ローラ21は半導体レーザ1への注入電流をコントロー
ルして発振波長を制御している。
【0020】尚、高安定発振器15a,15bは各々A
O変調器14a,14bを駆動させており、このときの
高安定発振器15a,15bの出力の一部をRFミクサ
16に入力している。
O変調器14a,14bを駆動させており、このときの
高安定発振器15a,15bの出力の一部をRFミクサ
16に入力している。
【0021】一方、非偏光ビームスプリッター7を通過
分割した光束は測定光として偏光ビームスプリッター8
に入射させている。
分割した光束は測定光として偏光ビームスプリッター8
に入射させている。
【0022】このうち偏光ビームスプリッタ8に入射し
た光のうち周波数f0 +f1 の直線偏光は通過し、
λ/4板9bを通り、円偏光となり被測定物としてのミ
ラー11で反射する。そして再びλ/4板9bを通り、
前とは90度偏光面が異なる直線偏光となり、今度は偏
光ビームスプリッター8で反射する。
た光のうち周波数f0 +f1 の直線偏光は通過し、
λ/4板9bを通り、円偏光となり被測定物としてのミ
ラー11で反射する。そして再びλ/4板9bを通り、
前とは90度偏光面が異なる直線偏光となり、今度は偏
光ビームスプリッター8で反射する。
【0023】一方、偏光ビームスプリッタ8に入射した
光のうち周波数f0 +f2 の直線偏光は反射しλ/
4板9aを通過し、円偏光となり、参照ミラー10で反
射する。そして再びλ/4板9aを通過し、前とは90
度偏光面が異なる直線偏光となり、今度は偏光ビームス
プリッター8を通過する。
光のうち周波数f0 +f2 の直線偏光は反射しλ/
4板9aを通過し、円偏光となり、参照ミラー10で反
射する。そして再びλ/4板9aを通過し、前とは90
度偏光面が異なる直線偏光となり、今度は偏光ビームス
プリッター8を通過する。
【0024】そして偏光ビームスプリッター8で再び周
波数f0 +f1 の直線偏光と周波数f0 +f2
の直線偏光を合成し、1本の光束とし偏光板12bを介
した後円偏光とし互いに干渉させ、該干渉光をフォトデ
ィテクタ13bで検出し、これより第2のビート信号を
得ている。そして該第2のビート信号を位相計17bに
入力している。
波数f0 +f1 の直線偏光と周波数f0 +f2
の直線偏光を合成し、1本の光束とし偏光板12bを介
した後円偏光とし互いに干渉させ、該干渉光をフォトデ
ィテクタ13bで検出し、これより第2のビート信号を
得ている。そして該第2のビート信号を位相計17bに
入力している。
【0025】一方、AO変調器14a,14bを各々駆
動させている高安定発振器15a,15bからの出力の
一部をRFミクサ16でミキシングし、これより第3の
ビート信号を得ている。そして該第3のビート信号を各
々位相計17a,17bに入力している。
動させている高安定発振器15a,15bからの出力の
一部をRFミクサ16でミキシングし、これより第3の
ビート信号を得ている。そして該第3のビート信号を各
々位相計17a,17bに入力している。
【0026】18a,18bは各々パルスコンバータで
あり、正弦波をパルスに変換している。19a,19b
は各々カウンタでありパルスコンバータ18a,18b
からのパルス数を積算している。20は減算器であり一
定周期でカウンタ19aと19bの積算パルスを減算し
て差を取り出している。
あり、正弦波をパルスに変換している。19a,19b
は各々カウンタでありパルスコンバータ18a,18b
からのパルス数を積算している。20は減算器であり一
定周期でカウンタ19aと19bの積算パルスを減算し
て差を取り出している。
【0027】こうして減算して得られた減算パルスカウ
ント出力はミラー11の移動量を示すカウンタ出力とな
る。
ント出力はミラー11の移動量を示すカウンタ出力とな
る。
【0028】尚、本実施例において光分割器2から光合
成器6に至る一点鎖線で囲んだ各要素は熱膨張係数の小
さな材料、例えばインバー、スーパーインバー、低熱膨
張鋳物、低熱膨張ガラスセラミックス、石英ガラス等、
線膨張係数が1×10−5/℃以下の材料上に載置して
いる。これにより熱的な影響により各々の要素の位置関
係が変化しないようにしている。
成器6に至る一点鎖線で囲んだ各要素は熱膨張係数の小
さな材料、例えばインバー、スーパーインバー、低熱膨
張鋳物、低熱膨張ガラスセラミックス、石英ガラス等、
線膨張係数が1×10−5/℃以下の材料上に載置して
いる。これにより熱的な影響により各々の要素の位置関
係が変化しないようにしている。
【0029】次に本実施例の測定シークエンスについて
説明する。
説明する。
【0030】今、RFミクサ16で得られる第3のビー
ト信号を基準としてフォトディテクタ13aで得られる
第1のビート信号の位相変化を位相計17aで測定し、
位相出力φ1 を取り出す。このとき位相出力φ1 か
らは偏光ビームスプリッタ2で分割した2つの光が実線
の経路を通ってフォトディテクタ13aに至る光路長と
、破線の経路を通ってフォトディテクタ13aに至る光
路長との光路差をL′として、
ト信号を基準としてフォトディテクタ13aで得られる
第1のビート信号の位相変化を位相計17aで測定し、
位相出力φ1 を取り出す。このとき位相出力φ1 か
らは偏光ビームスプリッタ2で分割した2つの光が実線
の経路を通ってフォトディテクタ13aに至る光路長と
、破線の経路を通ってフォトディテクタ13aに至る光
路長との光路差をL′として、
【0031】
【数1】
なる関係で決まる位相変動Δφ1 が得られる。
【0032】ここでΔλは光源手段1からの発振波長の
変化、λ0 は発振波長である。従って、光路差L′が
物理的に安定しているとすれば、位相変動Δφ1 は光
源手段1の波長変動量の情報を与える事になり、この情
報をレーザコントローラ21にフィードバックすれば光
源手段1からの発振波長を安定化することができる。
変化、λ0 は発振波長である。従って、光路差L′が
物理的に安定しているとすれば、位相変動Δφ1 は光
源手段1の波長変動量の情報を与える事になり、この情
報をレーザコントローラ21にフィードバックすれば光
源手段1からの発振波長を安定化することができる。
【0033】この波長安定化した光を測定光として用い
れば、第3のビート信号を基準としてフォトディテクタ
13bで得られる第2のビート信号の位相変化を位相計
17bで測定し、位相出力φ2 を得れば、被測定物と
してのミラー11の微小な移動量を読みとる事が出来る
。 例えば、光源手段1からの発振波長を780nmとし、
位相計の分解能を0.1°とすれば約0.1nmの分解
能が得られる。また、第2のビート信号及び第3のビー
ト信号をそれぞれパルスコンバータ18a,18bでパ
ルス化し、カウンタ19a,19bでパルス数をカウン
トして、減算器20でパルスの減算を行なえばミラー1
1の大きな移動量が、ドップラー効果によるパルス数の
差として得ることができる。
れば、第3のビート信号を基準としてフォトディテクタ
13bで得られる第2のビート信号の位相変化を位相計
17bで測定し、位相出力φ2 を得れば、被測定物と
してのミラー11の微小な移動量を読みとる事が出来る
。 例えば、光源手段1からの発振波長を780nmとし、
位相計の分解能を0.1°とすれば約0.1nmの分解
能が得られる。また、第2のビート信号及び第3のビー
ト信号をそれぞれパルスコンバータ18a,18bでパ
ルス化し、カウンタ19a,19bでパルス数をカウン
トして、減算器20でパルスの減算を行なえばミラー1
1の大きな移動量が、ドップラー効果によるパルス数の
差として得ることができる。
【0034】本実施例で説明した様に、ビート信号を形
成すべく光束を分離し、この2光束に周波数差を与える
部分で、光路長差も与える様にしているので、構成が簡
単である。即ち、この部分とは別の部所に別の基準干渉
計を設けた場合等に比較して、光束分離手段等の部材を
少なくできる。
成すべく光束を分離し、この2光束に周波数差を与える
部分で、光路長差も与える様にしているので、構成が簡
単である。即ち、この部分とは別の部所に別の基準干渉
計を設けた場合等に比較して、光束分離手段等の部材を
少なくできる。
【0035】図2は本発明の実施例2の要部概略図であ
る。本実施例は図1の実施例1に比べてデータ処理コン
ピュータ22を新たに追加した点と、位相計17a,1
7b、そして減算器20の出力をデータ処理コンピュー
タ22に入力する点、及びレーザコントローラ21に位
相計17aの出力をフィードバックしない点が異ってお
り、その他の構成は同じである。
る。本実施例は図1の実施例1に比べてデータ処理コン
ピュータ22を新たに追加した点と、位相計17a,1
7b、そして減算器20の出力をデータ処理コンピュー
タ22に入力する点、及びレーザコントローラ21に位
相計17aの出力をフィードバックしない点が異ってお
り、その他の構成は同じである。
【0036】本実施例に於いては、位相計17a,17
bで得られたデータ、即ち位相出力φ1 ,φ2 、そ
して減算器20からの出力は全てデータ処理コンピュー
タ22に集めている。そして被測定物としてのミラー1
1の動きの情報は位相出力φ2 及び減算器20からの
出力を位相出力φ1 のデータで補正している。これに
よって光源手段1からの発振波長の変動を補正し、常に
高精度な検出を可能としている。
bで得られたデータ、即ち位相出力φ1 ,φ2 、そ
して減算器20からの出力は全てデータ処理コンピュー
タ22に集めている。そして被測定物としてのミラー1
1の動きの情報は位相出力φ2 及び減算器20からの
出力を位相出力φ1 のデータで補正している。これに
よって光源手段1からの発振波長の変動を補正し、常に
高精度な検出を可能としている。
【0037】例えば、補正のない場合、距離Lは
【00
38】
38】
【数2】
と算出されるが、λ0 が確定していないと大きなLの
測定誤差になるが、(1)式より
測定誤差になるが、(1)式より
【0039】
【数3】
という値を用いて
【0040】
【数4】
としてLを算出すれば波長変動を補正した正確な値が得
られる。但し、nは減算カウンタ出力値、φ2 は位相
計17bの出力である。
られる。但し、nは減算カウンタ出力値、φ2 は位相
計17bの出力である。
【0041】図3は本発明の実施例3の要部概略図であ
る。本実施例は図1の実施例に比べてプリズム反射鏡3
、4とAO変調器14b、そしてRFミクサ16を削除
している。
る。本実施例は図1の実施例に比べてプリズム反射鏡3
、4とAO変調器14b、そしてRFミクサ16を削除
している。
【0042】即ち、本実施例では光源手段1から出射し
た光を光分割器としての偏光ビームスプリッタ2で2分
割した後、一方の光は直進させてAO変調器14aを介
して周波数シフトを受けた後、光合成器としての偏光ビ
ームスプリッタ6に入射させている。もう一方の光はプ
リズム反射鏡5c,5dで所定の光路を通過させた後、
偏光ビームスプリッタ6に入射させている。この点が実
施例1と異なり、この他の構成は同じである。
た光を光分割器としての偏光ビームスプリッタ2で2分
割した後、一方の光は直進させてAO変調器14aを介
して周波数シフトを受けた後、光合成器としての偏光ビ
ームスプリッタ6に入射させている。もう一方の光はプ
リズム反射鏡5c,5dで所定の光路を通過させた後、
偏光ビームスプリッタ6に入射させている。この点が実
施例1と異なり、この他の構成は同じである。
【0043】尚、本実施例ではAO変調器を1個しか使
っていない為、通常20MHz〜100MHzの高い周
波数シフト量が、そのままビート信号周波数となるため
位相計の電気回路の周波数特性をビート信号に見合うも
のを用いている。
っていない為、通常20MHz〜100MHzの高い周
波数シフト量が、そのままビート信号周波数となるため
位相計の電気回路の周波数特性をビート信号に見合うも
のを用いている。
【0044】図4は本発明の実施例4の要部概略図であ
る。
る。
【0045】本実施例では図1の実施例1に対してプリ
ズム反射鏡5f、無偏光ビームスプリッター23a,2
3b、偏光板12c、そしてフォトディテクタ13Cを
新たに追加した点とRFミクサ16を削除し、偏光ビー
ムスプリッタ2で分割した光路が偏光ビームスプリッタ
6に戻るまでの光路の引き廻し方、即ち光路長差付与手
段の構成が異っており、その他の構成は同じである。
ズム反射鏡5f、無偏光ビームスプリッター23a,2
3b、偏光板12c、そしてフォトディテクタ13Cを
新たに追加した点とRFミクサ16を削除し、偏光ビー
ムスプリッタ2で分割した光路が偏光ビームスプリッタ
6に戻るまでの光路の引き廻し方、即ち光路長差付与手
段の構成が異っており、その他の構成は同じである。
【0046】本実施例に於いて、光源手段1を出射した
光は偏光ビームスプリッタ2によって2つの偏光方向が
互いに直交する第1と第2の直線偏光L1,L2に分割
している。このうち第1の光L1はAO変調器14aで
周波数シフトを受け、無偏光ビームスプリッタ23aで
第3と第4の2つの光L3,L4に分けている。
光は偏光ビームスプリッタ2によって2つの偏光方向が
互いに直交する第1と第2の直線偏光L1,L2に分割
している。このうち第1の光L1はAO変調器14aで
周波数シフトを受け、無偏光ビームスプリッタ23aで
第3と第4の2つの光L3,L4に分けている。
【0047】又、第2の光L2はプリズム反射鏡5b、
AO変調器14bを経て、無偏光ビームスプリッタ23
bで第5と第6の2つの光L5,L6に分けている。こ
のうち第4の光L4と第6の光L6は偏光板12cを介
して干渉させ、該干渉光をフォトディテクタ13cで検
出してビート信号を得ている。この時、第4の光L4と
第6の光L6は全く光路差がないようにしておく。そし
て、第3の光L3は偏光ビームスプリッタ6へ向かい、
第5の光L5はプリズム反射鏡5fを介してやはり偏光
ビームスプリッタ6へ向かい、第3の光L3と第5の光
L5を合成して測定光として射出させている。
AO変調器14bを経て、無偏光ビームスプリッタ23
bで第5と第6の2つの光L5,L6に分けている。こ
のうち第4の光L4と第6の光L6は偏光板12cを介
して干渉させ、該干渉光をフォトディテクタ13cで検
出してビート信号を得ている。この時、第4の光L4と
第6の光L6は全く光路差がないようにしておく。そし
て、第3の光L3は偏光ビームスプリッタ6へ向かい、
第5の光L5はプリズム反射鏡5fを介してやはり偏光
ビームスプリッタ6へ向かい、第3の光L3と第5の光
L5を合成して測定光として射出させている。
【0048】フォトディテクタ13cで得られたビート
信号は(1)式の光路差L′が0であるため、光源手段
1からの波長変動の影響を受けない基準信号として、位
相計17a,17bの参照信号となる。このため第1の
実施例で用いたRFミクサ回路が不要となっている。
信号は(1)式の光路差L′が0であるため、光源手段
1からの波長変動の影響を受けない基準信号として、位
相計17a,17bの参照信号となる。このため第1の
実施例で用いたRFミクサ回路が不要となっている。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く周波数差を与
えた2つの光束間に所定の光路長差を付与した後に分割
し、該2つの光束を合成し、このうちの一部の光束を波
長安定化の為のフィードバック制御用として、又は測定
誤差補正用として用いることにより、波長安定化の為の
専用干渉計を用いずに波長安定化用の信号又は波長変化
による測定データ補正信号が容易に得られ高精度な光波
干渉が可能な干渉装置に好適な波長変化測定装置を達成
することができる。
えた2つの光束間に所定の光路長差を付与した後に分割
し、該2つの光束を合成し、このうちの一部の光束を波
長安定化の為のフィードバック制御用として、又は測定
誤差補正用として用いることにより、波長安定化の為の
専用干渉計を用いずに波長安定化用の信号又は波長変化
による測定データ補正信号が容易に得られ高精度な光波
干渉が可能な干渉装置に好適な波長変化測定装置を達成
することができる。
【図1】本発明の実施例1の要部概略図
【図2】本発明
の実施例2の要部概略図
の実施例2の要部概略図
【図3】本発明の実施例3の要
部概略図
部概略図
【図4】本発明の実施例4の要部概略図
【図5
】従来の光ヘテロダイン干渉装置の概略図
】従来の光ヘテロダイン干渉装置の概略図
【図6】従来
の干渉装置の要部ブロック図
の干渉装置の要部ブロック図
1 光源手段
2 光分割器
3 プリズム反射鏡
4 プリズム反射鏡
5a プリズム反射鏡
5b プリズム反射鏡
6 光合成器
7 偏光ビームスプリッター
8 偏光ビームスプリッター
9a 偏光板
9b 偏光板
10 参照ミラー
11 被測定物
12a 偏光板
12b 偏光板
13a フォトディテクタ
13b フォトディテクタ
14a AO変調器
14b AO変調器
15a 高安定発振器
15b 高安定発振器
16 RFミクサ
17a 位相計
17b 位相計
21 レーザコントローラ
22 データ処理コンピュータ
Claims (6)
- 【請求項1】 発振波長が制御可能な光源手段からの
光束を光分割器で2つの光束に分割し、該2つの光束に
所定の周波数差を与えると共に光路長差付与手段を介し
て、所定の光路長差を付与した後に光合成器で合成し、
該合成した光の一部を検出光、残りを測定光とし、該検
出光より光電検出器でビート信号を検出し、該ビート信
号を用いて該光源手段にフィードバック制御をして発振
波長を安定化させると共に該測定光を被測定物体に導光
するようにしたことを特徴とする波長変化測定装置。 - 【請求項2】 光源手段からの光束を光分割器で2つ
の光束に分割し、該2つの光束に所定の周波数差を与え
ると共に光路長差付与手段を介して所定の光路長差を付
与した後に光合成器で合成し、該合成した光の一部を検
出光、残りを測定光とし、該検出光より光電検出器でビ
ート信号を検出し、該ビート信号を測定データ補正信号
として、該測定光を被測定物体へ導光して得られる測定
データを補正するようにしたことを特徴とする波長変化
測定装置。 - 【請求項3】 前記光分割器から前記光合成器に至る
光路中の各光学要素を熱膨張係数1×10−5/℃以下
の同一基板面上に載置したことを特徴とする請求項1又
は請求項2の波長変化測定装置。 - 【請求項4】 前記光分割器で分割した2つの光束の
うち少なくとも一方の光束の光路中に光周波数をシフト
させることができるシフト手段を設けたことを特徴とす
る請求項1又は請求項2の波長変化測定装置。 - 【請求項5】 前記光源手段として半導体レーザを用
いたことを特徴とする請求項1又は請求項2の波長変化
測定装置。 - 【請求項6】 前記基板の材質をインバー、スーパー
インバー、低熱膨張鋳物、低熱膨張ガラスセラミックス
、石英ガラスのうちの1つを用いたことを特徴とする請
求項3の波長変化測定装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3130614A JPH04331333A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | 波長変化測定装置 |
| EP92107488A EP0512450B1 (en) | 1991-05-02 | 1992-05-04 | Wavelength variation measuring apparatus |
| DE69216464T DE69216464T2 (de) | 1991-05-02 | 1992-05-04 | Apparat zum Messen der Wellenlängenvariation |
| US08/436,598 US5493395A (en) | 1991-05-02 | 1995-05-08 | Wavelength variation measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3130614A JPH04331333A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | 波長変化測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04331333A true JPH04331333A (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=15038436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3130614A Pending JPH04331333A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | 波長変化測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5493395A (ja) |
| EP (1) | EP0512450B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04331333A (ja) |
| DE (1) | DE69216464T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298528A (ja) * | 2002-01-17 | 2007-11-15 | Agilent Technol Inc | ヘテロダイン干渉計の高速タイプの非線形性を補償するためのシステム及び方法 |
| JP2007304114A (ja) * | 2001-11-13 | 2007-11-22 | Agilent Technol Inc | 干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE19542490C1 (de) * | 1995-11-15 | 1997-06-05 | Leica Ag | Elektro-optisches Meßgerät für absolute Distanzen |
| DE19721843C1 (de) * | 1997-05-26 | 1999-02-11 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Meßvorrichtung |
| US6141138A (en) * | 1997-09-26 | 2000-10-31 | Japan Science And Technology Corporation | Apparatus and method for measuring characteristics of light |
| JPH11132718A (ja) * | 1997-10-31 | 1999-05-21 | Topcon Corp | 干渉計測装置及び干渉計測装置用プローブ |
| US6037579A (en) * | 1997-11-13 | 2000-03-14 | Biophotonics Information Laboratories, Ltd. | Optical interferometer employing multiple detectors to detect spatially distorted wavefront in imaging of scattering media |
| US6188477B1 (en) * | 1998-05-04 | 2001-02-13 | Cornell Research Foundation, Inc. | Optical polarization sensing apparatus and method |
| US6243168B1 (en) * | 1999-04-01 | 2001-06-05 | Trw Inc. | Dynamic optical micrometer |
| US6147755A (en) * | 1999-04-01 | 2000-11-14 | Trw Inc. | Dynamic optical phase state detector |
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| US6788420B1 (en) * | 2002-01-29 | 2004-09-07 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Heterodyne interferometer with a phase modulated source |
| US7417744B2 (en) * | 2006-02-27 | 2008-08-26 | Los Alamos National Security, Llc | Coherent hybrid electromagnetic field imaging |
| DE102008012028A1 (de) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Fachhochschule Trier | Vorrichtung zur Laser-Doppler-Geschwindigkeitsmessung |
| JP5072673B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2012-11-14 | キヤノン株式会社 | 管理装置、通信経路制御方法、通信経路制御システム及びプログラム |
| JP5882674B2 (ja) * | 2011-10-24 | 2016-03-09 | キヤノン株式会社 | 多波長干渉計、計測装置および計測方法 |
| CN106644106B (zh) * | 2016-12-21 | 2023-10-10 | 北京嘉贺恒德科技有限责任公司 | 一种用于测量波长的光学装置及其控制方法 |
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| US4160184A (en) * | 1978-01-09 | 1979-07-03 | The Singer Company | Piezoelectric actuator for a ring laser |
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| DE3279056D1 (en) * | 1982-01-15 | 1988-10-27 | Zeiss Carl Fa | Threedimensional interferometric length-measuring device |
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| US4820047A (en) * | 1987-12-22 | 1989-04-11 | Snyder James J | Laser heterodyne apparatus for measuring optical power |
| AT390325B (de) * | 1988-03-11 | 1990-04-25 | Tabarelli Werner | Interferometrische einrichtung zur messung von lageaenderungen eines beweglichen bauteiles |
| US4991962A (en) * | 1989-01-04 | 1991-02-12 | Kantilal Jain | High precision alignment system for microlithography |
| JP2808136B2 (ja) * | 1989-06-07 | 1998-10-08 | キヤノン株式会社 | 測長方法及び装置 |
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-
1991
- 1991-05-02 JP JP3130614A patent/JPH04331333A/ja active Pending
-
1992
- 1992-05-04 DE DE69216464T patent/DE69216464T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-05-04 EP EP92107488A patent/EP0512450B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-05-08 US US08/436,598 patent/US5493395A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69216464D1 (de) | 1997-02-20 |
| EP0512450B1 (en) | 1997-01-08 |
| EP0512450A3 (en) | 1993-04-07 |
| DE69216464T2 (de) | 1997-06-12 |
| US5493395A (en) | 1996-02-20 |
| EP0512450A2 (en) | 1992-11-11 |
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