JPH04333251A - 半導体ウェーハ - Google Patents
半導体ウェーハInfo
- Publication number
- JPH04333251A JPH04333251A JP10295391A JP10295391A JPH04333251A JP H04333251 A JPH04333251 A JP H04333251A JP 10295391 A JP10295391 A JP 10295391A JP 10295391 A JP10295391 A JP 10295391A JP H04333251 A JPH04333251 A JP H04333251A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- outside
- chips
- wafer
- package
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000010399 physical interaction Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェーハに関し、
特にウェーハ上でのチップレイアウトに関する。
特にウェーハ上でのチップレイアウトに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウェーハ上のチップ領域レ
イアウトとしては、図3(a)に示すようにチップ領域
(チップという)4の外側には何も配線が施されないま
ま、チップ4が縦・横に配置されていた。そしてすべて
のチップ4が電気的にも物理的にも相互作用がないまま
独立な状態でウェーハ5上に配置され、このままで製造
後のバイアス印加による寿命試験等の配慮がなされてい
ない。
イアウトとしては、図3(a)に示すようにチップ領域
(チップという)4の外側には何も配線が施されないま
ま、チップ4が縦・横に配置されていた。そしてすべて
のチップ4が電気的にも物理的にも相互作用がないまま
独立な状態でウェーハ5上に配置され、このままで製造
後のバイアス印加による寿命試験等の配慮がなされてい
ない。
【0003】次にこのチップ4の寿命試験方法について
説明する。チップ4としての寿命試験では、すべてのチ
ップ4を切り離し、パッケージにチップを組み込み、パ
ッケージ状態でバイアス印加を行ない、高温又は低温の
状態にしてチップの性能劣化等の加速寿命確認を行なっ
ている。
説明する。チップ4としての寿命試験では、すべてのチ
ップ4を切り離し、パッケージにチップを組み込み、パ
ッケージ状態でバイアス印加を行ない、高温又は低温の
状態にしてチップの性能劣化等の加速寿命確認を行なっ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウェーハ
であると、チップの寿命試験を行なうためには、チップ
を切り離してパッケージに組み込む必要があったので、
パッケージに組み込むのに可成り時間がかかること、又
パッケージ自体のコストがかかる等の問題があった。
であると、チップの寿命試験を行なうためには、チップ
を切り離してパッケージに組み込む必要があったので、
パッケージに組み込むのに可成り時間がかかること、又
パッケージ自体のコストがかかる等の問題があった。
【0005】また、チップ4を切り離さず試験をするに
は、図3(b),(c)に示すプローブカード6が必要
となり、外部のチップのみにしかバイアス印加用のプロ
ーブ7を立てることができないという欠点がある。又、
バイアス印加用配線から外部にボンディングワイヤでつ
なぐ方法を取るにしても、ボンディングワイヤ長が長く
なりすぎて実現不可能であった。
は、図3(b),(c)に示すプローブカード6が必要
となり、外部のチップのみにしかバイアス印加用のプロ
ーブ7を立てることができないという欠点がある。又、
バイアス印加用配線から外部にボンディングワイヤでつ
なぐ方法を取るにしても、ボンディングワイヤ長が長く
なりすぎて実現不可能であった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体ウェーハ
は、複数の半導体の素子形成領域を有する半導体ウェー
ハにおいて、前記素子形成領域の外周の少くとも二辺近
傍に直流バイアス印加用配線を設けて構成されている。
は、複数の半導体の素子形成領域を有する半導体ウェー
ハにおいて、前記素子形成領域の外周の少くとも二辺近
傍に直流バイアス印加用配線を設けて構成されている。
【0007】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。図1(a),(b)は本発明の第一の実施例のそれぞ
れウェーハのチップ配置模式図およびA部拡大平面図で
ある。ウェーハ5上でチップ4が配置された周りに一対
のバイアス印加用配線2a,2bを設け、またバイアス
印加用配線2a,2bとそれぞれ対応するチップ内のバ
イアス印加用のパッド3a,3bとに接続している。
。図1(a),(b)は本発明の第一の実施例のそれぞ
れウェーハのチップ配置模式図およびA部拡大平面図で
ある。ウェーハ5上でチップ4が配置された周りに一対
のバイアス印加用配線2a,2bを設け、またバイアス
印加用配線2a,2bとそれぞれ対応するチップ内のバ
イアス印加用のパッド3a,3bとに接続している。
【0008】バイアス印加用配線2a,2bには外部と
の接続を施すための外部接続用パッド1a,1bをチッ
プの外部に配し、しかもウェーハ5上でチップ4が配置
された周りに一対のバイアス印加用配線2a,2bを設
け、またバイアス印加用配線2a,2bとそれぞれ対応
するチップ内のバイアス印加用のパッド3a,3bとに
接続している。
の接続を施すための外部接続用パッド1a,1bをチッ
プの外部に配し、しかもウェーハ5上でチップ4が配置
された周りに一対のバイアス印加用配線2a,2bを設
け、またバイアス印加用配線2a,2bとそれぞれ対応
するチップ内のバイアス印加用のパッド3a,3bとに
接続している。
【0009】バイアス印加用配線2a,2bには外部と
の接続を施すための外部接続用パッド1a,1bをチッ
プの外部に配し、しかもウェーハ5上での周縁部に設け
る。
の接続を施すための外部接続用パッド1a,1bをチッ
プの外部に配し、しかもウェーハ5上での周縁部に設け
る。
【0010】図2は本発明の第2の実施例のチップ拡大
模式図である。
模式図である。
【0011】バイアス印加用配線2a,2bとチップ内
のバイアス印加用のパッド3a,3bが直接はボンディ
ングワイヤ8で接続されている。これはチップ内パッド
3a,3bの位置がチップ4によってはまちまちとなり
、バイアス印加用配線2a,2bと直接接続するのが位
置的に困難な場合に有利である。
のバイアス印加用のパッド3a,3bが直接はボンディ
ングワイヤ8で接続されている。これはチップ内パッド
3a,3bの位置がチップ4によってはまちまちとなり
、バイアス印加用配線2a,2bと直接接続するのが位
置的に困難な場合に有利である。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、バイアス
印加用の配線をチップ外の周辺部に配することで、ウェ
ーハ状態で外部からチップ1個あたりの接続によりウェ
ーハ上の全チップにバイアス印加が可能となるので、チ
ップの切り離し,パッケージへのチップの組み込み工数
時間の短縮及びパッケージコスト低減を行なえるという
効果を有する。
印加用の配線をチップ外の周辺部に配することで、ウェ
ーハ状態で外部からチップ1個あたりの接続によりウェ
ーハ上の全チップにバイアス印加が可能となるので、チ
ップの切り離し,パッケージへのチップの組み込み工数
時間の短縮及びパッケージコスト低減を行なえるという
効果を有する。
【図1】(a),(b)は本発明の第1の実施例のそれ
ぞれウェーハのチップ配置模式図およびA部拡大平面図
である。
ぞれウェーハのチップ配置模式図およびA部拡大平面図
である。
【図2】本発明の第2の実施例のチップ拡大平面図であ
る。
る。
【図3】(a)〜(c)は従来の半導体ウェーハの一例
のそれぞれチップ配置模式図,プローブカードの平面図
および側面図である。
のそれぞれチップ配置模式図,プローブカードの平面図
および側面図である。
1a,1b 外部接続用パッド
2a,2b バイアス印加配線
3a,3b チップ内パッド
4 チップ
5 ウェーハ
6 ボンディングワイヤ
7 バイアス電源接続用パッド
Claims (1)
- 【請求項1】 複数の半導体の素子形成領域を有する
半導体ウェーハにおいて、前記素子形成領域の外周の少
くとも二辺近傍に直流バイアス印加用配線を設けたこと
を特徴とする半導体ウェーハ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10295391A JPH04333251A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 半導体ウェーハ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10295391A JPH04333251A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 半導体ウェーハ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04333251A true JPH04333251A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=14341176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10295391A Pending JPH04333251A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 半導体ウェーハ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04333251A (ja) |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP10295391A patent/JPH04333251A/ja active Pending
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