JPH04335103A - 探針評価方法 - Google Patents
探針評価方法Info
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- JPH04335103A JPH04335103A JP3107364A JP10736491A JPH04335103A JP H04335103 A JPH04335103 A JP H04335103A JP 3107364 A JP3107364 A JP 3107364A JP 10736491 A JP10736491 A JP 10736491A JP H04335103 A JPH04335103 A JP H04335103A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、走査形トンネル顕微鏡
や表面粗さ計に用いられる探針の形状を評価するための
探針評価方法に関する。
や表面粗さ計に用いられる探針の形状を評価するための
探針評価方法に関する。
【0002】
【従来の技術】走査形トンネル顕微鏡(Scannin
g Tunneling Microscope ;
以降STMと称する)は、図11に示すように金属製の
探針101と導電性物質102との間に流れるトンネル
電流を制御することにより、物質の表面形状を原子のス
ケールで観測できる装置である。STMは分解能がオン
グストローム・オーダーと非常に高いため、原子構造を
観測する以外の分野でも注目されている。
g Tunneling Microscope ;
以降STMと称する)は、図11に示すように金属製の
探針101と導電性物質102との間に流れるトンネル
電流を制御することにより、物質の表面形状を原子のス
ケールで観測できる装置である。STMは分解能がオン
グストローム・オーダーと非常に高いため、原子構造を
観測する以外の分野でも注目されている。
【0003】例えばSTMの他の利用法として、光ディ
スクの記録面形状の観測が挙げられる。光ディスクは周
知の通り、レーザビームのような光ビームにより情報を
光学的に記録再生できる記録媒体であり、情報は例えば
図12に示すようにディスク201上にピット202な
どの凹凸の形で記録される。STMで原子構造を観測す
る場合、観測範囲及び凹凸のスケールが小さく、特に探
針の先端の1原子からのトンネル電流で観測を行うこと
になる。これに対し、光ディスクでは凹凸のスケールが
原子と比較して非常に大きいため、ピットの中に探針の
先端が入って行かず、トンネル電流が探針の先端の1原
子から流れるとは限らない。その結果、同一サンプルで
ありながら、探針の先端形状の違いによってピットを全
く違った形状と評価してしまうことがある。
スクの記録面形状の観測が挙げられる。光ディスクは周
知の通り、レーザビームのような光ビームにより情報を
光学的に記録再生できる記録媒体であり、情報は例えば
図12に示すようにディスク201上にピット202な
どの凹凸の形で記録される。STMで原子構造を観測す
る場合、観測範囲及び凹凸のスケールが小さく、特に探
針の先端の1原子からのトンネル電流で観測を行うこと
になる。これに対し、光ディスクでは凹凸のスケールが
原子と比較して非常に大きいため、ピットの中に探針の
先端が入って行かず、トンネル電流が探針の先端の1原
子から流れるとは限らない。その結果、同一サンプルで
ありながら、探針の先端形状の違いによってピットを全
く違った形状と評価してしまうことがある。
【0004】図13は、探針の先端形状の違いによる光
ディスクの断面形状の観測結果の違いを示したもので、
(a)は探針の先端形状が鈍い場合、(b)は鋭い場合
である。探針の先端形状が鋭い場合、先端がより深部ま
で入り込めるので、実際のサンプル形状に近い観測結果
が得られる。しかし、探針の先端が鈍い場合は、先端が
深くまで入り込めないため、実際のサンプル形状から程
遠い観測結果となってしまう。
ディスクの断面形状の観測結果の違いを示したもので、
(a)は探針の先端形状が鈍い場合、(b)は鋭い場合
である。探針の先端形状が鋭い場合、先端がより深部ま
で入り込めるので、実際のサンプル形状に近い観測結果
が得られる。しかし、探針の先端が鈍い場合は、先端が
深くまで入り込めないため、実際のサンプル形状から程
遠い観測結果となってしまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、光ディス
クの記録面形状など、原子の大きさより遥かに大きいス
ケールの対象物形状をSTMで観測する場合、同一の対
象物形状でも探針の先端形状の違いによって全く異なっ
た観測結果が得られてしまい、正確な観測ができないと
いう問題がある。
クの記録面形状など、原子の大きさより遥かに大きいス
ケールの対象物形状をSTMで観測する場合、同一の対
象物形状でも探針の先端形状の違いによって全く異なっ
た観測結果が得られてしまい、正確な観測ができないと
いう問題がある。
【0006】このような問題を避けるには、探針の先端
形状を評価し、先端形状の鋭い良好な形状の探針を用い
て対象物形状を観測したり、あるいは探針の先端形状か
ら実際の対象物形状の観測結果を補正することが望まれ
るが、従来においては探針の先端形状を適切に評価する
方法がなかった。本発明は、STMなどに使用される探
針の先端形状を適切かつ効率的に評価するための探針評
価方法を提供することを目的とする。
形状を評価し、先端形状の鋭い良好な形状の探針を用い
て対象物形状を観測したり、あるいは探針の先端形状か
ら実際の対象物形状の観測結果を補正することが望まれ
るが、従来においては探針の先端形状を適切に評価する
方法がなかった。本発明は、STMなどに使用される探
針の先端形状を適切かつ効率的に評価するための探針評
価方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係る探針評価方法は、探針の先端で凹部ま
たは凸部を走査し、探針の変位に伴って得られる信号波
形と、凹部または凸部の実際の形状から、探針の先端形
状を評価することを特徴とする。
め、本発明に係る探針評価方法は、探針の先端で凹部ま
たは凸部を走査し、探針の変位に伴って得られる信号波
形と、凹部または凸部の実際の形状から、探針の先端形
状を評価することを特徴とする。
【0008】
【作用】STM等における探針の先端で凹部または凸部
を走査すると、探針の変位に伴ってレベルが変化する信
号波形が得られる。この信号波形は、探針の先端形状と
凹部または凸部の実際の形状に依存して変化する。従っ
て、この信号波形と凹部または凸部の実際の形状から、
探針の先端の曲率半径や頂角などの先端形状が分かるこ
とになる。
を走査すると、探針の変位に伴ってレベルが変化する信
号波形が得られる。この信号波形は、探針の先端形状と
凹部または凸部の実際の形状に依存して変化する。従っ
て、この信号波形と凹部または凸部の実際の形状から、
探針の先端の曲率半径や頂角などの先端形状が分かるこ
とになる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図1は、本発明に係る探針評価方法を説明するた
めの図である。
する。図1は、本発明に係る探針評価方法を説明するた
めの図である。
【0010】図1に示すように、凹部2または孔(ピッ
ト)を有する探針評価用基板1を用意する。凹部2の寸
法はSTMによる断面形状の観測対象である光ディスク
上のピットと同程度のオーダ、例えば直径0.8μm、
深さ0.05μm程度以上とする。この基板1の上にS
TM3を置く。STM3は、探針4とこれをx方向、y
方向およびz方向に変位させるアクチュエータ5を有す
る。アクチュエータ5は、例えばピエゾ素子を用いて構
成される。
ト)を有する探針評価用基板1を用意する。凹部2の寸
法はSTMによる断面形状の観測対象である光ディスク
上のピットと同程度のオーダ、例えば直径0.8μm、
深さ0.05μm程度以上とする。この基板1の上にS
TM3を置く。STM3は、探針4とこれをx方向、y
方向およびz方向に変位させるアクチュエータ5を有す
る。アクチュエータ5は、例えばピエゾ素子を用いて構
成される。
【0011】STM3を図1のように凹部2上に置いた
状態で、アクチュエータ5によって探針4を探針4と基
板1間を流れるトンネル電流が略一定となるようにz方
向を制御してx方向およびy方向に変位させ、探針4に
よって凹部2を走査する。図2は、探針評価用基板1の
凹部2付近の拡大断面図と、アクチュエータ5による探
針4の先端のx方向の走査軌跡6を示している。走査軌
跡6は、探針4の先端形状に起因して凹部2とは異なる
形状を示す
状態で、アクチュエータ5によって探針4を探針4と基
板1間を流れるトンネル電流が略一定となるようにz方
向を制御してx方向およびy方向に変位させ、探針4に
よって凹部2を走査する。図2は、探針評価用基板1の
凹部2付近の拡大断面図と、アクチュエータ5による探
針4の先端のx方向の走査軌跡6を示している。走査軌
跡6は、探針4の先端形状に起因して凹部2とは異なる
形状を示す
【0012】図3は、予め走査形電子顕微鏡などで凹部
2の断面形状7を測定した結果と、STM3によって得
られるSTM像8および探針4の見積もられた先端形状
9の表示例である。STM像8は、アクチュエータ5に
よる探針4のz方向の変位に伴って変化する信号波形、
すなわちアクチュエータ5の駆動信号波形(電圧波形)
を基にして得られる。
2の断面形状7を測定した結果と、STM3によって得
られるSTM像8および探針4の見積もられた先端形状
9の表示例である。STM像8は、アクチュエータ5に
よる探針4のz方向の変位に伴って変化する信号波形、
すなわちアクチュエータ5の駆動信号波形(電圧波形)
を基にして得られる。
【0013】この図3において、凹部2の上部における
STM像8の幅W1は、凹部2の実際の幅W2(既知)
よりも、探針4の先端曲率半径Rの2倍(2R)分だけ
小さくなる。従って、次式(1)に示すようにW2から
W1を引いた値の半分が探針曲率半径Rとなる。 R=(W2−W1)/2
(1)一方、次式(2)に示すように180°か
らSTM像8の二つの傾斜部のx方向での傾斜角θ1,
θ2の和を差し引くことにより、探針4の頂角θが分か
る。 θ=180°−(θ1+θ2)
(2)また、傾斜部に沿って2つの線を引き、それらの
線のなす角度から頂角θを求めることも可能である。こ
のようにして図3に示すように探針4の先端形状9を見
積もることができ、それによってSTM3による観測対
象である光ディスクサンプルの断面形状に対する探針4
の適否を評価することができる。また、上記のようにし
て求められたR,θの値を用いて、光ディスクの断面形
状観測データを補正して正しい観測結果を求めることも
可能である。
STM像8の幅W1は、凹部2の実際の幅W2(既知)
よりも、探針4の先端曲率半径Rの2倍(2R)分だけ
小さくなる。従って、次式(1)に示すようにW2から
W1を引いた値の半分が探針曲率半径Rとなる。 R=(W2−W1)/2
(1)一方、次式(2)に示すように180°か
らSTM像8の二つの傾斜部のx方向での傾斜角θ1,
θ2の和を差し引くことにより、探針4の頂角θが分か
る。 θ=180°−(θ1+θ2)
(2)また、傾斜部に沿って2つの線を引き、それらの
線のなす角度から頂角θを求めることも可能である。こ
のようにして図3に示すように探針4の先端形状9を見
積もることができ、それによってSTM3による観測対
象である光ディスクサンプルの断面形状に対する探針4
の適否を評価することができる。また、上記のようにし
て求められたR,θの値を用いて、光ディスクの断面形
状観測データを補正して正しい観測結果を求めることも
可能である。
【0014】次に、本発明による探針評価用基板の実施
例について説明する。図4の実施例は、探針評価用基板
11に同一断面形状(例えば幅0.8μm、深さ0.1
μm程度)の複数の凹部12をSTM3の走査範囲(1
0μm程度)より十分小さいピッチ(=凹部12の中心
間距離)、例えば1μm程度のピッチで形成したもので
ある。このような複数の凹部12を十分小さいピッチで
形成した探針評価用基板11を用いると、STM3を基
板11上のどの位置においても、探針4がいずれかの凹
部に必ずかかるので、STM3の位置決めを特に必要と
しないという利点がある。
例について説明する。図4の実施例は、探針評価用基板
11に同一断面形状(例えば幅0.8μm、深さ0.1
μm程度)の複数の凹部12をSTM3の走査範囲(1
0μm程度)より十分小さいピッチ(=凹部12の中心
間距離)、例えば1μm程度のピッチで形成したもので
ある。このような複数の凹部12を十分小さいピッチで
形成した探針評価用基板11を用いると、STM3を基
板11上のどの位置においても、探針4がいずれかの凹
部に必ずかかるので、STM3の位置決めを特に必要と
しないという利点がある。
【0015】この探針評価用基板の製造工程の一例を説
明する。まず、ガラス、金属、またはシリコンウェハな
どの基板上にスピナー(回転塗布装置)などによりフォ
トレジストを層状に塗布する。このフォトレジスト層を
凹部12の形状を拡大したホールを有するマスクを用い
て縮小投影露光し、さらに現像して凹部12のパターン
に従ったホールを形成する。次に、この基板をスパッタ
装置などでエッチングして凹部を形成し、その後フォト
レジスト層を除去することによって、凹部12を有する
探針評価用基板11を得る。なお、フォトレジスト層を
残して、フォトレジスト層のホールを凹部12としても
よい。
明する。まず、ガラス、金属、またはシリコンウェハな
どの基板上にスピナー(回転塗布装置)などによりフォ
トレジストを層状に塗布する。このフォトレジスト層を
凹部12の形状を拡大したホールを有するマスクを用い
て縮小投影露光し、さらに現像して凹部12のパターン
に従ったホールを形成する。次に、この基板をスパッタ
装置などでエッチングして凹部を形成し、その後フォト
レジスト層を除去することによって、凹部12を有する
探針評価用基板11を得る。なお、フォトレジスト層を
残して、フォトレジスト層のホールを凹部12としても
よい。
【0016】STMのように対象が導電性であることを
要求される測定装置に対しては、基板材料がガラスなど
の非導電性材料である場合、その表面に例えばAu,P
tなどの大気中で酸化膜を形成しない導電性材料を用い
て、スパッタなどにより導電膜をコーティングする必要
がある。
要求される測定装置に対しては、基板材料がガラスなど
の非導電性材料である場合、その表面に例えばAu,P
tなどの大気中で酸化膜を形成しない導電性材料を用い
て、スパッタなどにより導電膜をコーティングする必要
がある。
【0017】図5は、この探針評価用基板11上をST
M3で走査した時に得られるSTM像(STM3によっ
て観測された断面形状)を示したもので、(a)は探針
4の先端形状が鈍い場合、(b)は鋭い場合である。す
なわち、探針4の先端形状が鈍い場合には、探針4の先
端が凹部12の底面まで届かないため、凹部12の断面
形状を正しく観測できず、図5(a)のように実際より
小さく観測してしまうことになる。一方、探針4の先端
部が十分鋭い場合は、探針4の先端が凹部12の底面ま
で届くことにより、図5(b)のように凹部12の断面
形状を正しく観測することができる。図5(b)のよう
な探針4が凹部12の底面まで届いた観測結果が得られ
れば、1回の観測で探針4の先端形状を一方向(一つの
x方向)のみでなく、360°の方向について見積もる
ことができる。
M3で走査した時に得られるSTM像(STM3によっ
て観測された断面形状)を示したもので、(a)は探針
4の先端形状が鈍い場合、(b)は鋭い場合である。す
なわち、探針4の先端形状が鈍い場合には、探針4の先
端が凹部12の底面まで届かないため、凹部12の断面
形状を正しく観測できず、図5(a)のように実際より
小さく観測してしまうことになる。一方、探針4の先端
部が十分鋭い場合は、探針4の先端が凹部12の底面ま
で届くことにより、図5(b)のように凹部12の断面
形状を正しく観測することができる。図5(b)のよう
な探針4が凹部12の底面まで届いた観測結果が得られ
れば、1回の観測で探針4の先端形状を一方向(一つの
x方向)のみでなく、360°の方向について見積もる
ことができる。
【0018】図6の実施例は、探針評価用基板21に断
面形状のそれぞれ異なる複数の凹部22をSTM3の走
査範囲より十分小さい1μm程度のピッチで形成したも
のである。凹部22は例えば深さが0.1μm一定で、
幅が0.4〜1.2μmの範囲において0.1μmステ
ップ程度で変化するものとする。この場合のSTM像を
示したのが図7である。このような断面形状の異なる複
数の凹部22を十分小さいピッチで形成した探針評価用
基板21を用いると、図4の実施例と同様の効果が得ら
れるほか、実際に断面形状を測定したい光ディスクのピ
ットサイズなどを考慮しながら凹部22の寸法を設定す
ることにより、探針4で実際に観測可能かどうかの判断
を容易に行うことができる。また、STM像の観測結果
から探針4で観測できるピットの最小寸法を知ることも
容易である。
面形状のそれぞれ異なる複数の凹部22をSTM3の走
査範囲より十分小さい1μm程度のピッチで形成したも
のである。凹部22は例えば深さが0.1μm一定で、
幅が0.4〜1.2μmの範囲において0.1μmステ
ップ程度で変化するものとする。この場合のSTM像を
示したのが図7である。このような断面形状の異なる複
数の凹部22を十分小さいピッチで形成した探針評価用
基板21を用いると、図4の実施例と同様の効果が得ら
れるほか、実際に断面形状を測定したい光ディスクのピ
ットサイズなどを考慮しながら凹部22の寸法を設定す
ることにより、探針4で実際に観測可能かどうかの判断
を容易に行うことができる。また、STM像の観測結果
から探針4で観測できるピットの最小寸法を知ることも
容易である。
【0019】図8の実施例は、探針評価用基板31に深
さを0.1μm一定とし、溝幅を0.5〜0.9μm程
度の範囲において0.1μmステップ程度で変化させた
複数本の溝32を所定ピッチで形成したものである。こ
のような探針評価用基板31を用いると、一回の観測で
どの程度の溝幅まで観測可能かどうかを判定することが
できる。
さを0.1μm一定とし、溝幅を0.5〜0.9μm程
度の範囲において0.1μmステップ程度で変化させた
複数本の溝32を所定ピッチで形成したものである。こ
のような探針評価用基板31を用いると、一回の観測で
どの程度の溝幅まで観測可能かどうかを判定することが
できる。
【0020】図9の実施例は、探針評価用基板41に深
さを0.1μmとし、溝幅が0.5〜0.9μm程度の
範囲において0.1μmステップ程度で変化させた断面
V字状の複数本の溝42を所定ピッチで形成したもので
ある。STM3の探針4の先端は、有限の曲率半径を持
つため、V字状の溝の断面形状を底部まで正しく観測で
きない。これに対して、本実施例のような探針評価用基
板41を用いると、どの程度の溝幅まで観測可能かどう
かを判定することができるので、溝の深さの補正が可能
となる。
さを0.1μmとし、溝幅が0.5〜0.9μm程度の
範囲において0.1μmステップ程度で変化させた断面
V字状の複数本の溝42を所定ピッチで形成したもので
ある。STM3の探針4の先端は、有限の曲率半径を持
つため、V字状の溝の断面形状を底部まで正しく観測で
きない。これに対して、本実施例のような探針評価用基
板41を用いると、どの程度の溝幅まで観測可能かどう
かを判定することができるので、溝の深さの補正が可能
となる。
【0021】このように、凹部または凸部がそれぞれ複
数個形成された探針評価用基板を用いれば、特にSTM
のように探針の走査範囲が非常に狭い場合でも、探針を
基板上に当てた時いずれかの凹部または凸部に必ず探針
の走査範囲がかかるようになる。従って、STMなどの
測定装置の煩雑な位置決めが不要となり、評価の手順が
容易となる。
数個形成された探針評価用基板を用いれば、特にSTM
のように探針の走査範囲が非常に狭い場合でも、探針を
基板上に当てた時いずれかの凹部または凸部に必ず探針
の走査範囲がかかるようになる。従って、STMなどの
測定装置の煩雑な位置決めが不要となり、評価の手順が
容易となる。
【0022】これら図8および図9の実施例は、追記型
光ディスクや書き替え可能型光ディスクに予め形成され
るガイド溝の断面形状を観測するためのSTM探針の評
価に適している。
光ディスクや書き替え可能型光ディスクに予め形成され
るガイド溝の断面形状を観測するためのSTM探針の評
価に適している。
【0023】図10の実施例は、探針評価用基板51に
凹部52と凸部53を混在させたものであり、情報が凹
部として記録された光ディスクおよび凸部として記録さ
れた光ディスクの両方に対して適用することができるも
のである。
凹部52と凸部53を混在させたものであり、情報が凹
部として記録された光ディスクおよび凸部として記録さ
れた光ディスクの両方に対して適用することができるも
のである。
【0024】なお、上記実施例ではSTMの探針評価に
ついて説明したが、表面粗さ計の探針や、STMを利用
した原子間力顕微鏡の探針などの評価にも、本発明の探
針評価方法および探針評価用基板を適用することが可能
である。
ついて説明したが、表面粗さ計の探針や、STMを利用
した原子間力顕微鏡の探針などの評価にも、本発明の探
針評価方法および探針評価用基板を適用することが可能
である。
【0025】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によればST
Mなどの探針の先端形状を評価することができる。これ
によってSTMなどの測定装置による光ディスクの断面
形状の観測を適確に行うことが可能となる。
Mなどの探針の先端形状を評価することができる。これ
によってSTMなどの測定装置による光ディスクの断面
形状の観測を適確に行うことが可能となる。
【0026】また、凹部または凸部がそれぞれ複数個形
成された探針評価用基板を用いることにより、STMの
ように探針の走査範囲が非常に狭い場合でも、探針を基
板上に当てた時いずれかの凹部または凸部に必ず探針の
走査範囲がかかるようにすることができ、STMなどの
煩雑な位置決めが不要となる。
成された探針評価用基板を用いることにより、STMの
ように探針の走査範囲が非常に狭い場合でも、探針を基
板上に当てた時いずれかの凹部または凸部に必ず探針の
走査範囲がかかるようにすることができ、STMなどの
煩雑な位置決めが不要となる。
【0027】さらに、探針評価用基板に径や幅を種々変
化させた凹部または凸部を形成することで、STMなど
の観測結果から補正値を求め、実際の光ディスクのピッ
トなどの測定対象の断面形状測定データに補正を加える
ことも可能となる。
化させた凹部または凸部を形成することで、STMなど
の観測結果から補正値を求め、実際の光ディスクのピッ
トなどの測定対象の断面形状測定データに補正を加える
ことも可能となる。
【図1】 本発明による探針評価方法の概要を説明す
るための図
るための図
【図2】 図1の要部を拡大して示す図
【図3】
本発明の一実施例に係る探針評価方法の原理を説明する
ための図
本発明の一実施例に係る探針評価方法の原理を説明する
ための図
【図4】 本発明の一実施例に係る探針評価用基板の
斜視図
斜視図
【図5】 同実施例の探針評価用基板を用いた場合の
STMによる観測結果を示す図
STMによる観測結果を示す図
【図6】 本発明の他の実施例に係る探針評価用基板
の斜視図
の斜視図
【図7】 同実施例の探針評価用基板を用いた場合の
STMによる観測結果を示す図
STMによる観測結果を示す図
【図8】 本発明の他の実施例に係る探針評価用基板
の斜視図
の斜視図
【図9】 本発明の他の実施例に係る探針評価用基板
の斜視図
の斜視図
【図10】本発明の他の実施例に係る探針評価用基板の
斜視図
斜視図
【図11】STMの原理図
【図12】光ディスクの断面形状を示す図
【図13】S
TMによる光ディスクの観測結果を示す図。
TMによる光ディスクの観測結果を示す図。
1…探針評価用基板
2…凹部3…STM
4…探針5…アクチュエータ
6…探針の走査
軌跡 7…凹部断面形状
8…STM像9…見積もられた探針先端形状
11,21,31,41,51…探針 評価用基板
22,52…凹部
2…凹部3…STM
4…探針5…アクチュエータ
6…探針の走査
軌跡 7…凹部断面形状
8…STM像9…見積もられた探針先端形状
11,21,31,41,51…探針 評価用基板
22,52…凹部
Claims (1)
- 【請求項1】探針の先端で凹部または凸部を走査し、探
針の変位に伴って得られる信号波形と、凹部または凸部
の実際の形状から、探針の先端形状を評価することを特
徴とする探針評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3107364A JPH04335103A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 探針評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3107364A JPH04335103A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 探針評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04335103A true JPH04335103A (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=14457212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3107364A Pending JPH04335103A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 探針評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04335103A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08220108A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Natl Res Inst For Metals | Spm画像用の探針形状の決定方法と、これを用いた画 像補正法 |
| CN108844449A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-11-20 | 常州信息职业技术学院 | 机加工件槽口平面度检测装置及其检测方法 |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP3107364A patent/JPH04335103A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08220108A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Natl Res Inst For Metals | Spm画像用の探針形状の決定方法と、これを用いた画 像補正法 |
| CN108844449A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-11-20 | 常州信息职业技术学院 | 机加工件槽口平面度检测装置及其检测方法 |
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