JPH04336928A - 圧電ステージ - Google Patents

圧電ステージ

Info

Publication number
JPH04336928A
JPH04336928A JP3138256A JP13825691A JPH04336928A JP H04336928 A JPH04336928 A JP H04336928A JP 3138256 A JP3138256 A JP 3138256A JP 13825691 A JP13825691 A JP 13825691A JP H04336928 A JPH04336928 A JP H04336928A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic green
piezoelectric
printed
green sheets
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP3138256A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakatsu Kiyohara
正勝 清原
Shinjiro Nagano
長野 信二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP3138256A priority Critical patent/JPH04336928A/ja
Publication of JPH04336928A publication Critical patent/JPH04336928A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/703—Non-planar pattern areas or non-planar masks, e.g. curved masks or substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電圧を印加することで変
位する圧電素子を組み込んだ圧電ステージに関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ加工装置や半導体処理装置等に適
用する圧電素子を用いたステージ或いはチャックとして
特開昭60−177834号及び実開平1−74597
号に開示されるものが知られている。これら先行技術に
開示されるステージ或いはチャックはいずれも固定され
た基板上に複数の圧電素子(ピエゾ素子)を立設し、こ
れら圧電素子の上端をチャック或いは可動板に取り付け
た構造になっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の圧電ス
テージにあっては圧電素子とステージとが別々のため、
厚み方向の寸法が大となり、狭いスペース内に組み込む
ことができなかった。また、研削、ラップ等の表面加工
も施すことが困難であった。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、電極部をプリントした多数枚のセラミックグリ
ーンシートをステージの厚み方向に積層した後焼成して
圧電ステージを形成し、前記各セラミックグリーンシー
トにプリントする電極部は帯状の電極部を複数本平行に
配列し、更に複数のセラミックグリーンシートは帯状の
電極部が厚み方向から見て格子状をなすように積層した
。
【0005】
【作用】多数の電極部のうちの特定の電極部に電圧を印
加すると、この圧電ステージの一部が他の部分よりも圧
縮してこの部分に対応する被処理物の一部が微小量移動
若しくは変形する。
【0006】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図1は本発明に係る圧電ステージを
組込んだチャックの縦断面図、図2は図1のA−A方向
矢視図である。
【0007】チャック1は本発明の圧電ステージ2の上
面に静電吸着用の電極3を埋設した絶縁層4を一体的に
形成している。Wは電極3に通電することで吸着される
半導体ウエハ等の被処理物である。
【0008】圧電ステージ2は図3に示すように未焼成
のセラミックグリーンシート5…を積層した後焼成する
ことで得る。セラミックグリーンシート5はドクターブ
レード法、鋳込み成形或いはプレス成形などによって成
形され、セラミックグリーンシート5の材料はPZT(
チタン酸ジルコン酸鉛),PT(チタン酸鉛)或いはP
LZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛)等の圧電セラ
ミックス材料とする。
【0009】また、各セラミックグリーンシート5の表
面には銀ペースト或いは銀とパラジウムの混合ペースト
等の導電ペーストからなる電極部6がプリントされてい
る。電極部6のパターンは複数の帯状電極6a…を等間
隔且つ平行に配列している。
【0010】更に、セラミックグリーンシート5…を積
層する場合には、上層となるセラミックグリーンシート
にプリントした帯状電極6aと下層となるセラミックグ
リーンシートにプリントした帯状電極6aとが厚み方向
から見て直交するように、つまり格子状となるようにセ
ラミックグリーンシート5…を交互に積層する。
【0011】また帯状電極6aはセラミックグリーンシ
ート5の端部までプリントされ、焼成後に当該端部に給
電線7を接続することで各帯状電極6aに電圧を印加す
るようにしている。このようにすることで圧電ステージ
2は内部に多数の圧電素子を設けたのと同等の作用をな
す。
【0012】以下にその作用を図4に基づいて説明する
。尚、図4(a)は模式的な平面図、図4(b)及び(
c)は模式的な側面図であり、図中6a−1は上層のセ
ラミックグリーンシートに形成された帯状電極、6a−
2,6a−3,6a−4は下層のセラミックグリーンシ
ートに形成した帯状電極とする。
【0013】図4(b)に示すように帯状電極6a−1
に500V、帯状電極6a−2と帯状電極6a−4に2
00Vを印加し、帯状電極6a−3には電圧を印加しな
い。すると、電圧を印加された部分の圧電素子が電圧に
比例して上下方向に延びて、図の想像線で示すように中
央部が突出した形状に変形する。
【0014】また帯状電極6a−1に500V、帯状電
極6a−3に200V、帯状電極6a−4に500V、
帯状電極6a−1には電圧を印加しないようにすると、
図4(c)に示すように左側部分が突出した形状に変形
する。
【0015】このように被処理物の形状に合わせて、或
いは被処理物の形状を目的とする形状に変形せしめるべ
く所定の帯状電極に電圧を印加する。
【0016】尚、図示例では本発明に係る圧電ステージ
を静電チャックに応用した例を示したが、これに限らず
被処理物を微小量移動させる位置決め装置や微小量変形
せしめる装置、更にはリニアモータ等に応用することも
できる。また、帯状電極は必ずしもセラミックグリーン
シート5の端部までプリントしなくてもよいが、端部ま
で形成すると通電機構が簡単になる。更に、図示例にお
いては各セラミックグリーンシートにプリントする帯状
電極の本数を4本としたが、帯状電極の本数及び間隔は
使用目的に応じて適宜設定できる。
【0017】
【発明の効果】以上に説明した如く本発明によれば、圧
電ステージの本体と圧電素子とが同一厚み範囲内に収ま
るので、圧電ステージとして極めてコンパクトなものに
なる。また圧電素子の電極部を帯状とし、この帯状電極
が圧電ステージの厚み方向から見て格子状をなすように
し、しかも個々の帯状電極に独立して通電可能としたの
で、圧電ステージの表面形状を任意に変形せしめること
ができ、しかもその制御が極めて簡単に行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る圧電ステージを組込んだチャック
の縦断面図
【図2】図1のA−A方向矢視図
【図3】本発明に係る圧電ステージの製造工程を示す斜
視図
【図4】本発明に係る圧電ステージの作用を示す図
【符号の説明】
2…圧電ステージ、5…セラミックグリーンシート、6
…電極部、6a,6a−1,6a−2,6a−3,6a
−4…帯状電極。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  圧電素子の伸縮動により被処理物を微
    小動若しくは微小変形せしめる圧電ステージにおいて、
    この圧電ステージは圧電素子の電極部をプリントした多
    数枚のセラミックグリーンシートをステージの厚み方向
    に積層した後焼成してなり、また前記各セラミックグリ
    ーンシートにプリントされた電極部は帯状の電極部を複
    数本平行に配列し、更に上下のセラミックグリーンシー
    トは帯状の電極部が厚み方向から見て格子状をなすよう
    に積層されていることを特徴とする圧電ステージ。
  2. 【請求項2】  前記電極部はセラミックグリーンシー
    トの端部までプリントされ、この端部から電極部に給電
    せしめることを特徴とする請求項1に記載の圧電ステー
    ジ。
JP3138256A 1991-05-14 1991-05-14 圧電ステージ Withdrawn JPH04336928A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3138256A JPH04336928A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 圧電ステージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3138256A JPH04336928A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 圧電ステージ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04336928A true JPH04336928A (ja) 1992-11-25

Family

ID=15217700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3138256A Withdrawn JPH04336928A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 圧電ステージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04336928A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001090820A1 (en) * 2000-05-23 2001-11-29 Silicon Valley Group, Inc. Flexible piezoelectric chuck
JP2006135062A (ja) * 2004-11-05 2006-05-25 Ulvac Japan Ltd 分割静電チャック構造
WO2011000689A1 (en) * 2009-06-30 2011-01-06 Asml Holding N.V. Image-compensating addressable electrostatic chuck system
JP5270578B2 (ja) * 2007-12-26 2013-08-21 京セラ株式会社 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001090820A1 (en) * 2000-05-23 2001-11-29 Silicon Valley Group, Inc. Flexible piezoelectric chuck
US6556281B1 (en) 2000-05-23 2003-04-29 Asml Us, Inc. Flexible piezoelectric chuck and method of using the same
JP2009158966A (ja) * 2000-05-23 2009-07-16 Asml Holding Nv 可撓性圧電性チャック
JP2006135062A (ja) * 2004-11-05 2006-05-25 Ulvac Japan Ltd 分割静電チャック構造
JP5270578B2 (ja) * 2007-12-26 2013-08-21 京セラ株式会社 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム
WO2011000689A1 (en) * 2009-06-30 2011-01-06 Asml Holding N.V. Image-compensating addressable electrostatic chuck system
JP2013527590A (ja) * 2009-06-30 2013-06-27 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. 像補正をするアドレス可能な静電チャックシステム
US8477472B2 (en) 2009-06-30 2013-07-02 Asml Holding N.V. Image-compensating addressable electrostatic chuck system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5245734A (en) Multilayer piezoelectric actuator stack and method for its manufacture
EP0094078B1 (en) Multilayer electrostrictive element which withstands repeated application of pulses
DE69026765T2 (de) Einen piezoelektrischen/elektrostriktiven Film enthaltende piezoelektrischer/elektrostriktiver Antrieb
DE69607666T2 (de) Laminiertes piezoelektrisches Element und Vibrationswellenantrieb
JPH06334236A (ja) 積層型圧電・電歪アクチュエータの製造方法
EP0395018A2 (en) Stack-type piezoelectric element and process for production thereof
KR0172602B1 (ko) 적층형 세라믹소자 및 그 제조방법
US5266862A (en) Piezoelectric actuator
EP2365553A1 (en) Multi-layer piezoelectric element
US5255972A (en) Electrostrictive effect element and the process of manufacturing the same
JP2000082852A (ja) 多層圧電アクチュエ―タおよびその製造方法
JPH08242023A (ja) 圧電素子及びそれを用いた圧電アクチュエータ
JPH09153649A (ja) 積層型圧電素子の製造方法
JPH06120579A (ja) 積層型圧電アクチュエータ
JPH04255245A (ja) 圧電ステージ
JP2739117B2 (ja) 積層型セラミック素子の製造方法
JPH04133443U (ja) セラミツク製静電チヤツク
JPH0132759Y2 (ja)
JPH04255244A (ja) 圧電ステージ
JP2001345492A (ja) 圧電素子およびその使用方法
KR101188331B1 (ko) 압전 소자
JPH0671103B2 (ja) 積層型セラミック素子の製造方法
JP2516439B2 (ja) 積層型圧電アクチュエ―タ素子
JPS6384174A (ja) 電歪効果素子の製造方法
JP2855709B2 (ja) 積層圧電セラミックス素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19980806