JPH0433736B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、全く新規な極薄平板ガラスの製造方
法に関し、特に、PH，pNa等の各種イオン濃度を
測定するためのシート型電極を構成せんとする場
合においてどうしても必要となる平板状のガラス
応答膜（イオン応答性の極薄平板ガラス）を得る
ための方法を開発せんとしてなされたものであ
る。

〔従来の技術〕

従来の例えばPH測定電極などのイオン濃度測定
電極（所謂ガラス電極）は、第６図に示すよう
に、電気絶縁性ガラスから成る支持管ａの先端
に、吹き上げによる火作り法（バルーン法）で形
成された半球形のガラス応答膜（イオン応答性極
薄ガラス膜）ｂを接合し、その中に内部電極ｃお
よび内部液ｄを封入して構成されている。そし
て、この場合には、前記イオン応答性極薄ガラス
膜ｂは、上記のように吹き上げによる火作り法
（バルーン法）で形成されるため、その加工時に
おける膜厚制御のための火加減や吹き加減等の調
節、あるいは、その支持管ａへの接合時における
マイクロクラツクの発生防止等には、相当の熟練
技術を要すると共に、量産が困難なため製造コス
トが極めて高くつくのみならず、全体構造が大型
にならざるを得ず、また、操作性および保守性等
の面で不利な点は多くあるものの、ともかくも、
必要とする膜厚（0.1〜0.3mm）を有するイオン応
答性極薄ガラス膜ｂ（ただし半球形）を実現させ
ることは可能であつた。

一方、最近になつて、例えば本願出願人に係る
特願昭61−63564号等により提案されているよう
に、内部液をゲル状化する技術が開発されたこと
によつて、例えば塩分測定電極や比較電極あるい
はその複合電極のように、ガラス応答膜を必要と
しないものでは、第７図イ，ロに例示するよう
に、そのシート化が可能となり、全体構造の小型
化、製造コストの低廉化ならびに操作性および保
守性の改善等が達成されるに至つている。なお、
同第７図イ，ロに示している塩分測定用複合電極
において、ｅは塩化ビニル等から成る基板であつ
て、その上面に複数（この例では４個）の銀電極
ｆ……がスクリーン印刷などで形成され、かつ、
その各基端部がリード部ｇ……に形成されると共
に、その各先端部が塩化銀の膜で被覆された内部
電極部ｈ……に形成され、また、それら内部電極
部ｈ……の存在する部分を除く基板ｅ上に、塩化
ビニル等から成る支持層ｉがスクリーン印刷など
で形成されている。そして、ｊ……は、夫々、基
本的な内部液（例えばAgC過飽和の3.3NKC
など）にゲル化剤（例えば寒天やゼラチンなど）
とゲル蒸発防止剤（例えばグリセリンやエチレン
グリコールなど）を添加して構成されたゲル状内
部液であつて、加熱によりペースト状としたもの
をスクリーン印刷などで前記各内部電極部ｈ……
上に重ねて設けられている。また、ｋ，ｋおよび
ｍ，ｍは前記各ゲル状内部液ｉ……の上に重ねて
設けられた例えば有機材料から成る応答膜および
KCを含浸させた多孔体から成る液絡膜であつ
て、その周囲において接着剤等により前記支持層
ｉに固定されている。更に、ｎは前記支持層ｉの
表面側に形成された被検液注入用凹部であり、ｏ
はその被検液注入用凹部ｎに対する開閉自在な蓋
体であつて、その一端縁部が前記支持層ｉの上面
に固着され、また、ｐは前記支持層ｉの上面に設
けられた粘着剤層であつて、この粘着剤層ｐに前
記蓋体ｏを開成して、前記凹部ｎ内に被検液を１
滴程度注入した後、蓋体ｏを閉成密着させること
により、前記被検液注入用凹部ｎを密閉状態にす
ることができる。かかる構成のシート型塩分測定
用複合電極は、前記蓋体ｏを閉成してその被検液
を各応答膜ｋ，ｋおよび液絡膜ｍ，ｍ上に押し拡
げた上で、その蓋体ｏを前記粘着剤層ｐに密着固
定させ、しかる後、このシート型塩分測定用複合
電極を、前記リード部ｇ……において、例えばカ
ード電卓型に構成された測定器本体（図示せず）
の装着部へ差し込み接続することにより、被検液
の塩分を測定するものである。

そこで、かかる塩分測定電極や比較電極および
その複合電極のシート化の実現に伴つて、PH測定
電極などのイオン濃度測定電極についても、当然
に、そのシート化による全体構造の小型化、製造
コストの低廉化ならびに操作性および保守性の改
善等が強く要望されるに至つているのであるが、
現在のところ、ガラス化限界に近い膜厚（0.1〜
0.3mm）を要求される平板状のガラス応答膜（イ
オン応答性極薄ガラス膜）を製造することが不可
能なため、未だその実現をみていない。

即ち、従来は、厚さが最低１mm程度の薄板ガラ
スは垂直引き上げ法で製造され、それよりも薄い
板ガラス（例えばプレパラートなどに使用される
もの）は、前記垂直引き上げ法により得られる可
及的に薄い板ガラスに対して更に研磨加工を施す
ことにより製造していた。しかし、その場合に
は、製造コストが極めて高くつくばかりで無く、
ガラス表面に比較的大きな凹凸やマイクロクラツ
クが残つてしまうため、イオン濃度測定電極用の
ガラス応答膜としては使用できない。何故なら
ば、その凹凸が大きくマイクロクラツクが存在す
るガラス表面では被検液の吸脱着が円滑に行われ
ないために、正確な測定ができないからである。

また、極薄平板ガラスの製造方法としては、バ
ルーン法により形成された極薄半球面ガラスの一
部周面を切り取つてから熱板プレスで平板ガラス
に再成形する方法とか、事前成形ガラスを軟化温
度以上に昇温させて引き延ばすプレフオームアニ
ユエーシヨン法が従来から知られているが、前者
のガラス再成形法の場合には、十分な大きさの極
薄平板ガラスを得ることが困難であるし、ガラス
表面にマイクロクラツクが発生し易いという欠点
があり、また、後者のプレフオームアニユエーシ
ヨン法の場合には極めて大規模な装置を必要とす
ると共に、完成した極薄平板ガラスにひずみが残
り易いという欠点がある。しかも、上記両方法
は、共に、温度−粘度曲線が比較的緩やかな傾斜
を呈して、成形操作可能な温度範囲を比較的広く
とることが可能な組成を有する通常のガラス（所
謂ナトリウムガラスなど）の場合にのみ有効な方
法であつて、イオン濃度測定電極用のガラス応答
膜として用いられるような特殊なガラス（所謂リ
チウムガラス）のように、温度−粘度曲線が比較
的急な傾斜を呈して、成形操作可能な温度範囲が
狭い組成を有するものに適用した場合には、ガラ
スの結晶化（失透）が発生するため、所望の極薄
平板ガラスを得ることは全く不可能である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、上記従来実情に鑑みてなされたもの
であつて、その目的は、如何なる組成のガラスを
対象とする場合であつても、マイクロクラツクや
ひずみ或いは結晶化（失透）を発生させずに、し
かも、比較的安価に極薄平板ガラスを製造できる
全く新規な方法を開発・提供せんとすることにあ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明による極薄
平板ガラスの製造方法は、 所定の組成を有するように製造されたガラスブ
ロツクを機械的切断手段によりスライスして、目
標厚さ又はそれが不可能な場合にはその目標厚さ
に可及的に近い厚目の第１ガラスシートを製作
し、 そして、前記第１ガラスシートが目標厚さより
も厚目の場合には、その第１ガラスシートの表面
に更にエツチング処理を施して、目標厚さの第２
ガラスシートを製作し、 次に、前記第１又は第２ガラスシート全体を予
熱して溶融温度直前まで昇温させた状態におい
て、その第１又は第２ガラスシートの表面に対し
て更に所定量の熱エネルギーを短時間で加えるこ
とにより、その第１又は第２ガラスシートの表面
のみを溶融させてから固化させる、 という手順を採用した点に特徴を有するものであ
る。

〔作用〕

かかる特徴ある手段を採用したことにより発揮
される作用は次の通りである。

即ち、上記本発明による極薄平板ガラスの製造
方法によれば、後述する実施例の記載からもより
一層明らかとなるように、先ず、所定の組成を有
するガラスブロツク（その製造は容易であり、ま
た、結晶化つまり失透が生じないで、かつ、組成
の良好な均一性が保証される）を用意した上で、
そのガラスブロツクを機械的な切断手段によりス
ライスして、目標厚さ又はそれが不可能な場合に
はその目標厚さに可及的に近い厚目の第１ガラス
シートを製作するのであるが、その第１ガラスシ
ートとしては、その組成如何に拘らず、例えばワ
イヤーカツト法、内周刃切削法、外周刃切削法な
どの比較的容易に実施できる公知手段を利用して
も、最小0.08mm前後までの薄さにスライスしたも
のを得ることが可能であり、その薄さという点に
おいては、従来のガラス再成形法やプレフオーム
アニユエーシヨン法等による場合に勝るとも劣ら
ない結果を容易に得ることができ、また、十分に
大きくて且つひずみやマイクロクラツクの無いも
のを容易に得ることができる。ただし、その第１
ガラスシートの表面には機械的切断による凹凸が
残存しているので、勿論そのままでは、不透明
（スリガラス状）の状態であり、また、例えばイ
オン濃度測定電極用のガラス応答膜として使用し
得る完成状態にはならない。

なお、必要があれば、前記第１ガラスシートの
表面に更にエツチング処理を施せば、より一層薄
くて、且つ、表面凹凸がある程度減少した第２ガ
ラスシートを得ることができるが、それでも未だ
半透明な状態で完成状態にはならない。

そこで、前記第１ガラスシートまたは第２ガラ
スシートの表面に残存する凹凸を無くして、透明
で表面が十分に平滑な完成状態に加工処理する必
要があるが、本発明においては、その加工処理を
従来は全く不可能とされていた熱処理法により実
現したのである。

即ち、ガラスの切断とか、あるいは、ガラス表
面の加工をレーザー熱光線を用いて行うというこ
とは、従来から、概念的には想定されてはいたも
のの、実際にそれを行つてみると、急激な温度変
化あるいは極めて不均一な温度分布が発生するた
めにガラスが割れたり、対象ガラスが薄いか又は
微小である場合にはガラスが溶融凝縮してしまつ
たりして、とても不可能であることが実証されて
いる。

本発明は、このような困難な障害を、処理対象
ガラス、つまり、前記第１又は第２ガラスシート
全体を、予め、溶融温度直前まで昇温させてお
き、その溶融寸前の状態において、その表面に対
して更に所定量の熱エネルギーを短時間で加え
る、という工夫を施すことより克服したものであ
る。

そして、かかる予熱およびその後の高速加熱処
理手段を採用したことによつて、前記第１又は第
２ガラスシートの表面のみを溶融させてから固化
（再生ガラス化）させることができ、その結果、
従来の如何なる方法によつても実現できなかつた
ところの、十分な薄さならびに大きさを有し、マ
イクロクラツクやひずみが無く、しかも、結晶化
（失透）も発生せず、また、表面も十分に平滑で
透明であるという厳しい条件を満たす極薄平板ガ
ラスを、その組成の如何に拘らず、容易かつ安価
に製造できるようになつた。

従つて、本発明方法によれば、特に、PH，pNa
等の各種イオン濃度を測定するためのシート型電
極を構成せんとする場合においてどうしても必要
でありながら従来は製造不可能であつた平板状の
ガラス応答膜（イオン応答性の極薄平板ガラス）
の実現ひいてはそれを用いたシート型イオン測定
電極の実現が可能になつた。

また、本発明方法は、今後一層マイクロ化が進
展するであろうIC基板やフオトトランジスタ窓
部材等のエレクトロニクス分野、あるいは、その
他の光学分野等においても極めて利用価値が高
い。

〔実施例〕

以下、本発明に係る極薄平板ガラスの製造方法
の具体的実施例を図面（第１図ないし第５図）に
基いて説明する。

ここでは、シート型のPH測定電極を構成するた
めに必要なPHガラス応答膜として、 縦×横×厚さ＝10mm×８mm×0.1mm の極薄平板ガラスを製造する場合を例に挙げて説
明する。

さて、上記PHガラス応答膜としての極薄平板ガ
ラスの製造手順は下記の通りである。

先ず、所定の成分および量の粉末原料を混合し
て白金るつぼ等により溶融および固化させた後、
アニール処理を施すことにより、所定の組成を有
するPHガラスの大型ガラスインゴツトを製造す
る。これにより、本例では、 縦×横×厚さ＝328mm×93mm×23mm の大型ガラスインゴツトを得た。

このように、大型ガラスインゴツトを製造すれ
ば、相当のコストダウンを図れるのみならず、品
質の安定性および組成の均一性を確保できる利点
がある。

次に、上記大型ガラスインゴツトを、機械的な
切断手段（例えばワイヤーカツト法、内周刃切削
法、外周刃切削法などの比較的容易に実施できる
公知手段がある）を用いて、適当な大きさのガラ
スブロツクに分断する。これにより、本例では、 縦×横×厚さ＝45mm×45mm×23mm のガラスブロツクを14個得た。

続いて、上記各ガラスブロツクを同じく機械的
切断手段を用いてスライスすることにより、目標
厚さ（0.1mm）に可及的に近い厚目（0.2mm）の第
１ガラスシートを製作する。これにより、本例で
は、 縦×横×厚さ＝45mm×45mm×0.2mm の第１ガラスシートを多数得た。

而して、前記各第１ガラスシートは、まだ目標
厚さ（0.1mm）よりも大きな厚み（O.2mm）を有し
ていると共に、その表面には前記機械的切断によ
る比較的大きな凹凸が残存しているので、不透明
（スリガラス状）の状態にある。

そこで、前記各第１ガラスシートを、例えば５
％NH4F水溶液などに浸漬して、更にその表面
（表裏両面）から所定厚さ分（本例では0.05mm）
だけエツチング処理を施すことにより、目標厚さ
（0.1mm）を有し、かつ、表面凹凸がある程度減少
した第２ガラスシートを製作する。このエツチン
グ処理によつて一層薄くて、且つ、表面凹凸があ
る程度減少した第２ガラスシートを得ることがで
きるが、それでも未だ半透明な状態で完成状態に
はならない。これにより、本例では、 縦×横×厚さ＝45mm×45mm×0.1mm の第２ガラスシートを得た。

なお、前記機械的切断手段によつて最終的な目
標厚さに切断した場合には、前記機械的切断手段
のみによつて、その目標厚さの第１ガラスシート
が得られるので、このエツチング処理による第２
ガラスシートの製作工程は、必ずしも必要ではな
い。

次に、前記各第２ガラスシートを、機械的切断
手段（スクライバーによるダイシングなど）によ
つて、所定の大きさを有するチツプ状に分断す
る。これにより、本例では、所期の大きさおよび
厚さを有するところの、 縦×横×厚さ＝10mm×８mm×0.1mm のチツプ状第２ガラスシートを得た。

なお、このチツプ状第２ガラスシートは、ワツ
クスあるいはフツ素等を除去するため、例えば超
音波洗浄等により十分に洗浄される。

さて、上記のようにして得られた各チツプ状第
２ガラスシートは、その表面に残存する凹凸を無
くして、透明で表面が十分に平滑な状態にする必
要があるため、下記のような全く新規な熱処理手
段によつて表面処理が施される。

即ち、ガラスの熱処理時において従来非常に困
難な問題となつていた急激な温度変化あるいは極
めて不均一な温度分布の発生によるガラスの割れ
や溶融凝縮を効果的に防止できるように、そのチ
ツプ状第２ガラスシート全体を、予め、溶融温度
直前まで昇温させておき、その溶融寸前の予熱状
態において、その表面に対して更に所定量の熱エ
ネルギーを短時間で加えることにより、その表面
のみを溶融させてから固化させる、という予熱下
高速表面加熱処理を施すようにしたのである。

そして、その結果、従来の如何なる方法によつ
ても実現できなかつた、十分な大きさを有し、マ
イクロクラツク、ひずみ、結晶化（失透）が発生
せず、しかも、表面も十分に平滑で透明であると
いう厳しい条件を満たし、PHガラス応答膜として
十分に使用できる極薄平板ガラスを、その組成の
如何に拘らず、容易かつ安価に製造できるに至つ
た。

ところで、前記予熱下高速表面加熱処理の具体
的な実施手段としては、種々の方式が考えられる
が、現在までの試作実験によれば、下記の３方式
が最も適当であつた。

そのひとつ（第１実施例）は、言わば予熱下レ
ーザー熱照射方式であつて、第１図に示すよう
に、XYテーブル１と、そのXYテーブル１上に
載置したヒータブロツク２と、そのヒータブロツ
ク２に対する温度調節器３と、前記XYテーブル
１上の一定点に対して例えばCO₂レーザーＲ（数
Ｗないし10W程度で十分）を照射可能なレーザー
照射装置４と、それらXYテーブル１、温度調節
器３、レーザー照射装置４等を夫々制御するため
のコントローラー５とから成るシステムを構成
し、そして、前述のようにして得られたチツプ状
第２ガラスシートＳを前記ヒータブロツク２上に
載置した上で、先ず、前記ヒータブロツク２に対
する温度調節器３をコントローラー５により制御
して、そのチツプ状第２ガラスシートＳ全体を予
め溶融温度直前まで昇温させ（本例では軟化点以
下の約600℃とした）、しかる後、その溶融寸前の
予熱状態において、前記XYテーブル１およびレ
ーザー照射装置４をコントローラー５により制御
して、ヒータブロツク２上のチツプ状第２ガラス
シートＳの表面における所要箇所あるいは表面全
体に亘つて、CO2レーザーＲを所定速度の（本例
では数cm／sec程度とした）走査（スキヤニング）
により照射して所定量の熱エネルギーを短時間で
加えることによつて、その表面のみを溶融させて
から固化させる、という予熱下高速表面加熱処理
を行うのである。なお、一般に、ガラスに対して
光を照射した場合、先ずその界面（表面）におい
て熱吸収が生じるため、上記のようにチツプ状第
２ガラスシートＳの片面側からCO2レーザーＲを
照射するだけで、その表裏両面を同時に処理でき
る。また、この予熱下レーザー熱照射方式は、チ
ツプ状第２ガラスシートＳの一部（所要箇所）表
面のみを精密ガラス化すれば足りるという場合に
特に好適である。

他のひとつ（第２実施例）は、言わば予熱下ラ
ンプ熱照射方式であつて、第２図に示すように、
断熱材から成る固定基台６と、その基台６上に載
置した耐熱性、熱伝導性および放熱性に優れた材
料から成り且つ望ましくは黒色のワーキングボー
ド（例えばカーボン板）７と、そのワーキングボ
ード７上にランプ光（例えばハロゲンランプ光）
Ｌを集光可能であつて、その発光出力、集光度、
照射時間等を調節可能で且つ十分な発光出力を得
られる（集光部において最大千数百℃を実現でき
る）ランプ光照射装置８と、そのランプ光照射装
置８を制御するためのコントローラー９とから成
るシステムを構成し、そして、前述のようにして
得られたチツプ状第２ガラスシートＳを前記ワー
キングボード７上に載置した上で、前記ランプ光
照射装置８をコントローラー５により制御して、
先ず、そのチツプ状第２ガラスシートＳに対し
て、それと同じ大きさ又はそれよりもやや大き目
に集光させる状態で、徐々に発光出力を上げなが
らランプ光Ｌを照射し、そのチツプ状第２ガラス
シートＳ全体を予め溶融温度直前までゆつくりと
昇温させ（本例では軟化点以下の約600℃とし
た）、しかる後、その溶融寸前の予熱状態におい
て更に続けて、比較的高い発光出力（本例では
1200℃程度とした）のランプ光Ｌを、チツプ状第
２ガラスシートＳの表面全体に亘つて極く短時間
（本例では数秒程度）照射して所定量の熱エネル
ギーを加えることにより、その表面のみを全体的
に均一性良く溶融させてから固化させる、という
予熱下高速表面加熱処理を行うのである。なお、
この場合にも、チツプ状第２ガラスシートＳの片
面側からランプ光Ｌを照射するだけで、その表裏
両面を同時に処理できる。また、この予熱下ラン
プ熱照射方式は、チツプ状第２ガラスシートＳの
表面全体を精密ガラス化する場合に特に好適であ
るが、予熱後の表面処理の際において集光度を絞
つたり、あるいは、その状態で走査による照射を
行うことによつて、前述の予熱下ランプ熱照射方
式と同様に、チツプ状第２ガラスシートＳの一部
（所要箇所）表面のみの精密ガラス化を、比較的
少ないエネルギー消費にて実現することも可能で
ある。

更に他のひとつ（第３実施例）は、言わばベル
ト移動炉方式であつて、第３図に示すように、炉
１０内を設定速度にて一方向に移動する回転ベル
ト１１と、前記炉１０のベルト移動方向に沿つて
設けられ各別に温度設定可能とされた複数個（本
例では上下３対）のヒーター１２……と、それら
回転ベルト１１およびヒーター１２……を制御す
るためのコントローラー１３とから成る電気式加
熱炉システムを構成し、そして、前述のようにし
て得られたチツプ状第２ガラスシートＳの複数枚
を、第４図に示すように、熱伝導性に優れた上下
２枚の基板（例えば、窒化硼素、窒化珪素などの
非酸化物セラミツクス板、カーボン板、カーボン
グラフアイト板、アルミナ板等：本例では、縦×
横×厚さ＝50mm×50mm×0.635mmのアルミナ板）
１４，１４の間に、夫々、極く薄いスペーサ（本
例では厚さ0.635mmのアルミナ板）１５，１５を
介して挟持させたワーキングブロツク１６の状態
とし、それらワーキングブロツク１６……を、前
記回転ベルト１１上に連続的に載置して、前記炉
１０内をその入口１０Ａから出口１０Ｂへ所定時
間（速度）で通過させるのである。なお、その炉
１０内における移動距離Ｄと温度Ｔの関係は、前
記コントローラー１３によるベルト１１の速度制
御および各ヒーター１１……に対する個別の温度
制御により、例えば第５図に模式的に示している
ように任意に設定可能である。即ち、前記炉１０
の入口１０Ａから導入されたワーキングブロツク
１６に挟持されたチツプ状第２ガラスシートＳ…
…は、夫々、第５図におけるＡ点に至るまでの予
熱期間の間に、その全体が徐々に溶融温度直前ま
で昇温され（本例では軟化点以下の約600℃とし
た。pNaガラス応答膜の場合には700℃とする）、
その溶融寸前の予熱状態において更に続けて、第
５図におけるＢ点に至るまでの極く短かい表面溶
融期間（本例では10秒程度）の間に所定量の熱エ
ネルギーを加えられることにより、その表面（表
裏両面）のみが全体的に均一性良く溶融し、その
後、第５図におけるＣ点（冷却点）に至つて固化
する、という予熱下高速表面加熱処理が施される
のである。なお、前記第３図において、１０ａは
入口エアカーテン用空気（又はN2ガス）噴出器、
１０ｂは出口エアカーテン用空気（又はN2ガス）
噴出器、１０Ｃはフアイヤリングガス用空気（ま
たはN2ガス）噴出器、１０Ｄはフアイヤリング
ガス排出管である。

ところで、上記ベルト移動炉方式は、前記予熱
下ランプ熱照射方式と同様に、チツプ状第２ガラ
スシートＳの表面全体を精密ガラス化する場合に
特に好適であると共に、大量生産を行う場合に極
めて好適である。ただし、前記第１図および第２
図に示した予熱下レーザー熱照射方式および予熱
下ランプ熱照射方式においても、チツプ状第２ガ
ラスシートＳまたはそれを支持するヒータブロツ
ク２あるいはワーキングボード７を自動交換する
ハンドリング装置などを付設することによつて、
量産システムを構築することは可能である。

また、前記エツチング処理による第２ガラスシ
ートを製作する必要がない場合には、機械的切断
によるスライス後の第１ガラスシートをダイシン
グしてチツプ化した上で、そのチツプ状第１ガラ
スシートを、前記チツプ状第２ガラスシートＳと
同様に、上記予熱下高速表面加熱処理に供すれば
よい。

〔発明の効果〕

以上詳述したところから明らかなように、本発
明に係る極薄平板ガラスの製造方法によれば、所
定の組成を有するように製造されたガラスブロツ
クに対する機械的切断手段（および、必要に応じ
て更なるエツチング処理も加えられる）によるガ
ラスシート化を行つた上で、そのガラスシートに
対して予熱下高速表面加熱処理を施すようにした
ことにより、従来は実現不可能であつた極薄平板
ガラス、つまり、十分に薄くかつ大きくて、しか
も、マイクロクラツクやひずみが無く、また、結
晶化（失透）も発生せず、組成が均一で表面も十
分に平滑で透明であるという厳しい条件を満足す
る極薄平板ガラスを、その組成の如何に拘らず、
容易かつ安価に製造できるようになり、従つて、
従来から大きな懸案であつたシート型イオン測定
電極に必要なガラス応答膜（イオン応答性の極薄
平板ガラス）の製造等に多大な貢献をなし得る、
という優れた効果が発揮されるに至つた。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第５図は本発明に係る極薄平板ガ
ラスの製造方法における主要手順である予熱下高
速表面加熱処理を実行するための具体的実施例を
示し、第１図は第１実施例の概略システム構成
図、第２図は第２実施例の概略システム構成図、
第３図は第３実施例の概略システム構成図、第４
図はその要部の側面図、第５図はその制御特性例
を示すグラフである。 また、第６図および第７図は本発明の技術的背
景および従来技術の問題点を説明するためのもの
であつて、第６図は従来一般のイオン濃度測定電
極の一部断面側面図を示し、第７図イ，ロは夫々
シート型塩分測定用複合電極の縦断面図および外
観斜視図を示している。 Ｓ……ガラスシート。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 所定の組成を有するように製造されたガラス
   ブロツクを機械的切断手段によりスライスして、
   目標厚さ又はそれが不可能な場合にはその目標厚
   さに可及的に近い厚目の第１ガラスシートを製作
   し、 そして、前記第１ガラスシートが目標厚さより
   も厚目の場合には、その第１ガラスシートの表面
   に更にエツチング処理を施して、目標厚さの第２
   ガラスシートを製作し、 次に、前記第１又は第２ガラスシート全体を予
   熱して溶融温度直前まで昇温させた状態におい
   て、その第１又は第２ガラスシートの表面に対し
   て更に所定量の熱エネルギーを短時間で加えるこ
   とにより、その第１又は第２ガラスシートの表面
   のみを溶融させてから固化させる、 という手順によることを特徴とする極薄平板ガラ
   スの製造方法。