JPH02137787A - ガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造方法 - Google Patents
ガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造方法Info
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- JPH02137787A JPH02137787A JP29061288A JP29061288A JPH02137787A JP H02137787 A JPH02137787 A JP H02137787A JP 29061288 A JP29061288 A JP 29061288A JP 29061288 A JP29061288 A JP 29061288A JP H02137787 A JPH02137787 A JP H02137787A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電気回路ノフ板、感熱ヘット基板などに使用さ
れるガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造法に関する
。
れるガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造法に関する
。
(従来の技術)
炭化珪素焼結体は強度、耐熱性、熱伝導性に優れている
が、体積固有抵抗が102〜】06ΩC1と電気絶縁性
か低く、また焼結体表面には、径1〜2終■程度の多数
の気孔かあるため電気回路大版や、感熱ヘッド基板に使
用するには、焼結体表面を被覆することか必要である。
が、体積固有抵抗が102〜】06ΩC1と電気絶縁性
か低く、また焼結体表面には、径1〜2終■程度の多数
の気孔かあるため電気回路大版や、感熱ヘッド基板に使
用するには、焼結体表面を被覆することか必要である。
その方法は、炭化珪素焼結体表面にガラス粉末と有機バ
インダーよりなるペーストを塗布し焼成してガラス層を
焼結体表面に形成することか行なわれており、これに使
用されている従来のガラスはアルミナセラミックスに用
いられているガラス組成硼珪酸鉛系のガラスが用いられ
ていた。
インダーよりなるペーストを塗布し焼成してガラス層を
焼結体表面に形成することか行なわれており、これに使
用されている従来のガラスはアルミナセラミックスに用
いられているガラス組成硼珪酸鉛系のガラスが用いられ
ていた。
(発明か解決しようとする課題)
従来使用されているガラスは熱膨張係数か大きいため、
炭化珪素焼結体とは、熱膨張の違いによリa裂の発生、
又は炭化珪素焼結体との反応による気泡の発生により、
炭化珪素焼結体とガラスの密着性が劣り形成されるガラ
ス層が有効に活用てきない欠点があった。
炭化珪素焼結体とは、熱膨張の違いによリa裂の発生、
又は炭化珪素焼結体との反応による気泡の発生により、
炭化珪素焼結体とガラスの密着性が劣り形成されるガラ
ス層が有効に活用てきない欠点があった。
本発明の目的は炭化珪素焼結体表面に特定のガラス層を
形成し亀裂が生じることがなく、焼結体表面と接合性が
よいガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造法を提供す
ることにある。
形成し亀裂が生じることがなく、焼結体表面と接合性が
よいガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造法を提供す
ることにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は比較的融点が低いガラスであって、熱膨張係数
か炭化珪素焼結体と大差なく、また炭化珪素焼結体と反
応しないガラスについて検討を行った結果完成したもの
でその要旨は、AIJt15〜23g1量%(以下%は
重量基準) 、 5in2:to〜55%、B、0,2
0〜40%、CaO3〜lO%、 lrO,1〜3%の
組成よりなるガラスで表面を被覆した炭化珪素焼結体で
あり、またその製造法は前記ガラス粉末と*機バインダ
ーよりなるペーストを炭化珪素焼結体の表面に塗布し8
50〜1000°Cに加熱する方法及び前記ペーストを
塗布後期めに1000〜1450℃に加熱して被覆した
後、更に同ペーストをその上に塗布して850〜100
0°Cに加熱する方法である。
か炭化珪素焼結体と大差なく、また炭化珪素焼結体と反
応しないガラスについて検討を行った結果完成したもの
でその要旨は、AIJt15〜23g1量%(以下%は
重量基準) 、 5in2:to〜55%、B、0,2
0〜40%、CaO3〜lO%、 lrO,1〜3%の
組成よりなるガラスで表面を被覆した炭化珪素焼結体で
あり、またその製造法は前記ガラス粉末と*機バインダ
ーよりなるペーストを炭化珪素焼結体の表面に塗布し8
50〜1000°Cに加熱する方法及び前記ペーストを
塗布後期めに1000〜1450℃に加熱して被覆した
後、更に同ペーストをその上に塗布して850〜100
0°Cに加熱する方法である。
前記組成のガラスはアルカリ酸化物及びPbOを含まな
いのて熱膨張係数及び誘電率は比較的小さく、然し一般
的にはこれらを含まない系のガラスはガラス溶融温度が
高く、ガラスの製造及びガラス被覆の焼成温度か高くな
り炭化珪素焼結体のガラス被覆には不利である。しかし
ながら未発IJIにおいては特定の成分及び組成にする
ことにより1450°C以下で溶融が可能となった。炭
化珪素焼結体の熱膨張係数は、通常40〜42X 10
−’/’C程度であるか本発明のガラス組成はほぼ33
〜40x 10−’/℃である。
いのて熱膨張係数及び誘電率は比較的小さく、然し一般
的にはこれらを含まない系のガラスはガラス溶融温度が
高く、ガラスの製造及びガラス被覆の焼成温度か高くな
り炭化珪素焼結体のガラス被覆には不利である。しかし
ながら未発IJIにおいては特定の成分及び組成にする
ことにより1450°C以下で溶融が可能となった。炭
化珪素焼結体の熱膨張係数は、通常40〜42X 10
−’/’C程度であるか本発明のガラス組成はほぼ33
〜40x 10−’/℃である。
本発明のガラス組成はガラスの熱膨張係数を炭化珪素焼
結体の熱膨張係数に近い値とするためにガラス形成酸化
物であるSiO□を30〜55%とした。
結体の熱膨張係数に近い値とするためにガラス形成酸化
物であるSiO□を30〜55%とした。
SiO□か30%未満てはガラス熱膨張係数か大きくな
ると共にガラスか分相し易くなり平滑な被膜かてきない
。また55%を越えるとガラスの溶融が困難となり、ガ
ラス焼付温度か高くなり炭化珪素焼結体とガラスの反応
か起り発泡し易くなる。
ると共にガラスか分相し易くなり平滑な被膜かてきない
。また55%を越えるとガラスの溶融が困難となり、ガ
ラス焼付温度か高くなり炭化珪素焼結体とガラスの反応
か起り発泡し易くなる。
B2O3の添加は、ガラスの熱膨張係数及び粘性を低下
させる作用があるか本発明においてはBxChが20%
未満の場合ガラスの溶融が困難になり40%を越えると
ガラスか分相し易くなり、また耐水性か悪くなる。
させる作用があるか本発明においてはBxChが20%
未満の場合ガラスの溶融が困難になり40%を越えると
ガラスか分相し易くなり、また耐水性か悪くなる。
A1□03はガラスの化学的耐久性を改善するか15%
未満ではガラスが分相し易くなり23%を越えるとガラ
スか分相し熱膨張係数が大きくなりガラス被膜に亀裂か
発生し易くなる。
未満ではガラスが分相し易くなり23%を越えるとガラ
スか分相し熱膨張係数が大きくなりガラス被膜に亀裂か
発生し易くなる。
CaOはガラス融液の粘度を低下させ均質なガラスを得
るための重要な成分であるが5%未満ては、粘度の低下
か不充分でありガラスを焼付けたさいに失透する。また
10%を越えるとガラスの熱膨張係数か大きくなるため
ガラス被膜に亀裂が入り平滑な被膜を得ることかできな
い。
るための重要な成分であるが5%未満ては、粘度の低下
か不充分でありガラスを焼付けたさいに失透する。また
10%を越えるとガラスの熱膨張係数か大きくなるため
ガラス被膜に亀裂が入り平滑な被膜を得ることかできな
い。
Zr0tはガラスの化学的耐久性に効果があるか3%を
越えるとガラスの溶融温度が高くなり、またガラスの熱
膨張係数か大きくなり、 1%未満ではガラスの化学的
耐久性か劣ることよりいづれも好ましくない。
越えるとガラスの溶融温度が高くなり、またガラスの熱
膨張係数か大きくなり、 1%未満ではガラスの化学的
耐久性か劣ることよりいづれも好ましくない。
これらのことから5i02は30〜55%、Al20f
f 15〜23%、+120:lは20〜40%、 C
aOは 5へ10%、Zr021〜3%とすることが必
要である。
f 15〜23%、+120:lは20〜40%、 C
aOは 5へ10%、Zr021〜3%とすることが必
要である。
次に製造法の発明について説明する。
ガラス粉末は上記組成物を白金るつぼに入れ溶融し望ま
しくは急速冷却した後粉砕を行い粒度調整をする。
しくは急速冷却した後粉砕を行い粒度調整をする。
溶融は1450〜1500 ’Cてあり、急速冷却は例
えば溶融物を水中に流し込んで行なう方法である。冷却
固化したガラスはアルミナまたはメノー乳鉢等で粉砕を
行い粒度な44gm以下程度にする。
えば溶融物を水中に流し込んで行なう方法である。冷却
固化したガラスはアルミナまたはメノー乳鉢等で粉砕を
行い粒度な44gm以下程度にする。
このガラス粉末と有機バインターとを混合しペーストに
して、炭化珪素焼結体に塗布し焼成後冷却してガラス層
を固化させる1段階法も可能であるが、望ましくはペー
ストの塗布及び焼成を2段階て行うことによりすぐれた
性質のガラス被覆を炭化珪素焼結体上に形成させること
がてきる。
して、炭化珪素焼結体に塗布し焼成後冷却してガラス層
を固化させる1段階法も可能であるが、望ましくはペー
ストの塗布及び焼成を2段階て行うことによりすぐれた
性質のガラス被覆を炭化珪素焼結体上に形成させること
がてきる。
1段階焼成法は、ガラス粉末と有機バインダーを塗膜の
厚み、または塗膜の均−性等よりガラス粉末を好ましく
は50〜60%含むように混合してペーストをつくり2
これを炭化珪素焼結体、または表面酸化処理を行った炭
化珪素焼結体の表面に塗布し、これを有機バインターの
種類により80〜400°Cの範囲の適当な温度に加熱
してバインダーを除去し次に850〜1000°Cの範
囲の一定温度で5〜30分間加熱し次いで急冷して均質
なガラス被覆を形成する方法である。
厚み、または塗膜の均−性等よりガラス粉末を好ましく
は50〜60%含むように混合してペーストをつくり2
これを炭化珪素焼結体、または表面酸化処理を行った炭
化珪素焼結体の表面に塗布し、これを有機バインターの
種類により80〜400°Cの範囲の適当な温度に加熱
してバインダーを除去し次に850〜1000°Cの範
囲の一定温度で5〜30分間加熱し次いで急冷して均質
なガラス被覆を形成する方法である。
この方法における炭化珪素焼結体の表面酸化処理は、炭
化珪素焼結体を例えば空気中で1300〜1400°C
の温度て0.5〜2時間時間部熱して行う。
化珪素焼結体を例えば空気中で1300〜1400°C
の温度て0.5〜2時間時間部熱して行う。
この表面酸化処理を行うことによりガラス層か炭化珪素
焼結体表面への接着か容易になる。
焼結体表面への接着か容易になる。
またペースト塗布後の焼成温度はこのガラスの軟化温度
か76[)〜850℃であるため、焼成温度は溶融軟化
する850〜1000”Cの範囲が適当である。
か76[)〜850℃であるため、焼成温度は溶融軟化
する850〜1000”Cの範囲が適当である。
焼成後のガラス被覆層の厚みは前記用途に対しては50
〜100 gmが望ましい。
〜100 gmが望ましい。
2段階焼成法は1次焼成ガラス被覆と2次焼成ガラス被
覆からなり、1次焼成ガラス被覆は、ガラス粉末に有機
バインターを混合しガラス粉末5〜20%含むペースト
をつくり、これを炭化珪素焼結体表面に塗布し、前記同
様80〜400°Cの範囲に加熱してバインダーを除去
し次いで1000〜145G’Cて5〜コ0分間加熱す
ることからなる。この加熱はガラスの粘性を下げ、炭化
珪素焼結体表面の気孔を濡しガラス層を形成させるため
であり、そのために前記温度範囲か適当である。この場
合の塗布するガラス粉末量はQ、S 〜1.0 mg/
c rn’が望ましく、ガラス粉末量が0.5B/
c m’未満のときは被覆ガラスか不均一となり、 1
.0mg/cm’を越えるとカラス被覆中に気泡か残存
し易くなる6ペースト中のガラス粉末を10〜20%と
する理由は、10%に達しないときはガラス被覆か不均
一となり、20%を越えると薄く塗布することか困難に
なるかうである。
覆からなり、1次焼成ガラス被覆は、ガラス粉末に有機
バインターを混合しガラス粉末5〜20%含むペースト
をつくり、これを炭化珪素焼結体表面に塗布し、前記同
様80〜400°Cの範囲に加熱してバインダーを除去
し次いで1000〜145G’Cて5〜コ0分間加熱す
ることからなる。この加熱はガラスの粘性を下げ、炭化
珪素焼結体表面の気孔を濡しガラス層を形成させるため
であり、そのために前記温度範囲か適当である。この場
合の塗布するガラス粉末量はQ、S 〜1.0 mg/
c rn’が望ましく、ガラス粉末量が0.5B/
c m’未満のときは被覆ガラスか不均一となり、 1
.0mg/cm’を越えるとカラス被覆中に気泡か残存
し易くなる6ペースト中のガラス粉末を10〜20%と
する理由は、10%に達しないときはガラス被覆か不均
一となり、20%を越えると薄く塗布することか困難に
なるかうである。
1次焼成ガラス被覆は炭化珪素焼結体の表面の気孔にガ
ラスか侵入し、次に述べる2次焼成における気泡の発生
を防止する。
ラスか侵入し、次に述べる2次焼成における気泡の発生
を防止する。
2次焼成ガラス被覆は、1次焼成被覆の上に前記した1
段階焼成法と同様にペーストを塗布し加熱によりバイン
ターの除去、焼成によるガラス被mの形成を行なう方法
である。
段階焼成法と同様にペーストを塗布し加熱によりバイン
ターの除去、焼成によるガラス被mの形成を行なう方法
である。
この場合のペーストのガラス粉末は50〜60%である
ことか望ましい。本発明においてペーストに用いるハイ
ターとしては、エチルセルローズ、ニトロセルローズ等
の繊維系誘導体で有機溶剤として、テレピネオール、カ
ルピトールアセテートである。ガラス粉末はガラス組成
分を溶融固化させたカラスを粉砕し44ILm以下程度
に調製して用いてもよいか、好ましくは分級して10μ
m以下として使用する。
ことか望ましい。本発明においてペーストに用いるハイ
ターとしては、エチルセルローズ、ニトロセルローズ等
の繊維系誘導体で有機溶剤として、テレピネオール、カ
ルピトールアセテートである。ガラス粉末はガラス組成
分を溶融固化させたカラスを粉砕し44ILm以下程度
に調製して用いてもよいか、好ましくは分級して10μ
m以下として使用する。
ペーストの塗布はスクリーン印刷又はドクターフレード
法等で炭化珪素焼結体表面に行なうことかてきる。
法等で炭化珪素焼結体表面に行なうことかてきる。
〔実施例1〕
第1表に示すガラス組成の原料粉末を秤量し混合を行い
、該混合粉末を白金るつぼに入れ電気加熱炉て1500
℃に加熱溶融し、溶融物を水中に流し込み急速冷却させ
ガラスを作製し1次に該ガラスをアルミナ製乳鉢て粉砕
し44JLll以下の粉末とし、更にこのガラス粉末を
エチルアルコール中に懸濁させ、沈降速度の差によって
分級を行い粒径10gm以下のガラス粉末を調製した。
、該混合粉末を白金るつぼに入れ電気加熱炉て1500
℃に加熱溶融し、溶融物を水中に流し込み急速冷却させ
ガラスを作製し1次に該ガラスをアルミナ製乳鉢て粉砕
し44JLll以下の粉末とし、更にこのガラス粉末を
エチルアルコール中に懸濁させ、沈降速度の差によって
分級を行い粒径10gm以下のガラス粉末を調製した。
該ガラス粉末1001清部に対しバインターとしてエチ
ルセルローズ10重量部溶剤にテレピネオール60重量
部、カルピトールアセテート 5重量部を混練してペー
ストを調製した。次に予め脱脂洗滌を行った炭化珪素焼
結体(0,7厚みx 50x 50mm)片面に該ガラ
スペーストをスクリーン印刷したのち大気中で焼成をし
た。焼成は350℃て1時間加熱しバインダーを除去し
たのち 900°Cの温度で20分間保持した後急冷を
行い、ガラス被覆厚み100μlを形成した。
ルセルローズ10重量部溶剤にテレピネオール60重量
部、カルピトールアセテート 5重量部を混練してペー
ストを調製した。次に予め脱脂洗滌を行った炭化珪素焼
結体(0,7厚みx 50x 50mm)片面に該ガラ
スペーストをスクリーン印刷したのち大気中で焼成をし
た。焼成は350℃て1時間加熱しバインダーを除去し
たのち 900°Cの温度で20分間保持した後急冷を
行い、ガラス被覆厚み100μlを形成した。
得られたガラス被膜の気泡、亀裂、平滑性の状況を調べ
、その結果を第2表に示す。表中気泡、亀裂、平滑性に
ついて、気泡1.亀裂が発生しているもの及びモ滑性の
劣るものをx印、良好なもの○印、やや良好なものをΔ
印とした。
、その結果を第2表に示す。表中気泡、亀裂、平滑性に
ついて、気泡1.亀裂が発生しているもの及びモ滑性の
劣るものをx印、良好なもの○印、やや良好なものをΔ
印とした。
比較例の組成のものは1分相、失透か生し、更に亀裂、
気泡、平滑性が劣るが本発明のガラス組成には分相5失
透かなく亀裂、気泡、平滑性か共に良好である。
気泡、平滑性が劣るが本発明のガラス組成には分相5失
透かなく亀裂、気泡、平滑性か共に良好である。
(実施例2)
実施例1で用いたNo、8.9.1O111のガラス組
成及び実施例と同一組成のバインダー、溶剤を用い、平
均粒径1.3ILmのガラス粉末を10%含むペースト
を調製してスクリーン印刷法で炭化珪素焼結体く0.7
厚みX 5(lx 50mg)の片面にガラス粉末量か
0.8sg/ c m”になるようにペーストを塗布し
大気中で焼成した。
成及び実施例と同一組成のバインダー、溶剤を用い、平
均粒径1.3ILmのガラス粉末を10%含むペースト
を調製してスクリーン印刷法で炭化珪素焼結体く0.7
厚みX 5(lx 50mg)の片面にガラス粉末量か
0.8sg/ c m”になるようにペーストを塗布し
大気中で焼成した。
焼成は350℃で1時間加熱しバインダーを除去したの
ち、 1400°Cに加熱し30分間焼成を行い、放冷
してガラス層を形成させ、次に平均粒径3μ塵のガラス
粉末を実施例1と同一のバインター、溶剤を用いてペー
ストを調製し、前記ガラス被覆面にスクリーン印刷法で
塗布し、350°Cの温度で1時間加熱しバインダーを
除去した後夫々 900℃の温度で15分、】000°
Cの温度で5分加熱して焼成を行い、急冷してガラス被
覆を形成させた。その結果を前記No、順に13.14
.15.16として第3表に示す。2段階目のガラス被
覆の厚みは1004 rsである。この方法を用いるこ
とにより炭化珪素焼結体の表面の気孔を被覆し平滑な気
泡、亀裂の発生のない接着性の良好なガラス被覆かでき
る。
ち、 1400°Cに加熱し30分間焼成を行い、放冷
してガラス層を形成させ、次に平均粒径3μ塵のガラス
粉末を実施例1と同一のバインター、溶剤を用いてペー
ストを調製し、前記ガラス被覆面にスクリーン印刷法で
塗布し、350°Cの温度で1時間加熱しバインダーを
除去した後夫々 900℃の温度で15分、】000°
Cの温度で5分加熱して焼成を行い、急冷してガラス被
覆を形成させた。その結果を前記No、順に13.14
.15.16として第3表に示す。2段階目のガラス被
覆の厚みは1004 rsである。この方法を用いるこ
とにより炭化珪素焼結体の表面の気孔を被覆し平滑な気
泡、亀裂の発生のない接着性の良好なガラス被覆かでき
る。
第 1 表
第 2 表
(発明の効果)
本発明による炭化珪素焼結体上のガラス被覆は亀裂かな
く、また気泡もない均一なガラス和か形成され、炭化珪
素焼結体の表面の電気抵抗か大きくなるのて、この焼結
体は各種集積回路用基板等としてすぐれた性質を持って
おり実用的な効果は著しい。
く、また気泡もない均一なガラス和か形成され、炭化珪
素焼結体の表面の電気抵抗か大きくなるのて、この焼結
体は各種集積回路用基板等としてすぐれた性質を持って
おり実用的な効果は著しい。
第 3 表
Claims (3)
- (1)炭化珪素焼結体の表面にAl_2O_315〜2
3重量%、SiO_230〜55重量%、B_2O_3
20〜40重量%、CaO5〜10重量%、ZrO_2
1〜3重量%の組成のガラスを被覆した炭化珪素焼結体
。 - (2)炭化珪素焼結体の表面に請求の範囲第1項のガラ
ス粉末と有機バインダーとよりなるペーストを塗布し8
50〜1000℃に加熱することを特徴とするガラス被
覆炭化珪素焼結体の製造法。 - (3)炭化珪素焼結体の表面に請求の範囲第1項のガラ
ス粉末と有機バインダーとよりなるペーストを塗布し1
000〜1450℃に加熱して第1次ガラス被覆を形成
し更にその上に前記ペーストを塗布し850〜1000
℃に加熱して第2次ガラス被覆を形成することを特徴と
するガラス被覆炭化珪素焼結体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29061288A JPH02137787A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | ガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29061288A JPH02137787A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | ガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02137787A true JPH02137787A (ja) | 1990-05-28 |
Family
ID=17758252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29061288A Pending JPH02137787A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | ガラス被覆炭化珪素焼結体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02137787A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012072700A2 (fr) | 2010-12-02 | 2012-06-07 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Procédé de préparation d'un matériau composite verre-carbure de silicium |
| CN109824367A (zh) * | 2019-02-21 | 2019-05-31 | 国网河南省电力公司社旗县供电公司 | 一种碳化硅基复合电路板及其制备方法 |
| CN113800950A (zh) * | 2021-08-27 | 2021-12-17 | 咸阳盈和电子材料有限公司 | 一种用于硅碳棒表面玻璃涂层及其制备方法 |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP29061288A patent/JPH02137787A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012072700A2 (fr) | 2010-12-02 | 2012-06-07 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Procédé de préparation d'un matériau composite verre-carbure de silicium |
| CN109824367A (zh) * | 2019-02-21 | 2019-05-31 | 国网河南省电力公司社旗县供电公司 | 一种碳化硅基复合电路板及其制备方法 |
| CN113800950A (zh) * | 2021-08-27 | 2021-12-17 | 咸阳盈和电子材料有限公司 | 一种用于硅碳棒表面玻璃涂层及其制备方法 |
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